本申請實施例涉及顯示，尤其涉及一種顯示面板及其制作方法、顯示裝置。

背景技術：

1、有機發光二極管(organic?light?emitting?display，oled)以及基于發光二極管(light?emitting?diode，led)等技術的平面顯示裝置因具有高畫質、省電、機身薄及應用范圍廣等優點，而被廣泛的應用于手機、電視、筆記本電腦、臺式電腦等各種消費性電子產品，成為顯示裝置中的主流。傳統顯示面板制備過程中，通常通過精細金屬掩模版(fmm)實現發光像素圖形化。fmm技術成熟、量產經驗豐富。但是，fmm技術同時又具有精度有限、開發成本高、開發周期長等問題。無精細金屬掩模技術消除了傳統oled工藝對顯示屏尺寸、分辨率及其他屏體性能的限制，具有高性能、全域尺寸、敏捷交付的優勢。專利cn118251982a、cn115666161a、cn116648095a、cn117062489a、cn118678742a、cn118785761a、cn115224220a、cn118678729a、cn118660529a、cn118660589a記載了無精細金屬掩模技術的相關內容，以供參考。

2、但目前的oled顯示產品的工藝性能有待提升。

技術實現思路

1、有鑒于此，本申請實施例提供一種顯示面板及其制作方法、顯示裝置，以至少部分解決上述問題。

2、根據本申請實施例的第一方面，提供了一種顯示面板。顯示面板包括基板、像素定義層、工藝結構層、隔離結構和顯示功能層。像素定義層位于基板的一側，像素定義層包括像素限定部和由像素限定部合圍形成的多個像素開口。工藝結構層位于像素限定部遠離基板的一側，工藝結構層在基板上的正投影位于像素限定部在基板上的正投影內。隔離結構位于工藝結構層遠離基板的一側，隔離結構圍合形成隔離開口，隔離開口與像素開口連通。隔離結構包括沿遠離基板方向依次層疊設置的第一隔離層、第二隔離層和第三隔離層，第二隔離層在基板上的正投影位于第一隔離層在基板上的正投影內。顯示功能層位于基板上且包括多個至少部分位于像素開口內的發光器件，發光器件包括沿遠離基板方向層疊設置的第一電極、發光功能層和第二電極。第二電極與第一隔離層電連接。

3、在一些實施例中，隔離結構在基板上的正投影覆蓋工藝結構層在基板上的正投影。

4、在一些實施例中，工藝結構層在基板上的正投影位于第一隔離層在基板上的正投影內。

5、在一些實施例中，第二電極與第一隔離層和第二隔離層電連接。

6、在一些實施例中，第一隔離層在基板上的正投影位于像素限定部在基板上的正投影內。

7、在一些實施例中，第一隔離層的材料為氮化鈦，和/或，工藝結構層的材料為鉬。

8、在一些實施例中，工藝結構層的厚度小于第一隔離層的厚度。

9、在一些實施例中，第二隔離層在基板上的正投影位于第三隔離層在基板上的正投影。

10、在一些實施例中，第三隔離層在基板上的正投影的邊界與第二隔離層在基板上的正投影的邊界的最短距離為0.3-1μm。

11、在一些實施例中，沿垂直于基板的方向，第二隔離層的高度大于第一隔離層，且第二隔離層的高度大于第三隔離層。

12、在一些實施例中，顯示面板還包括第一封裝層，位于顯示功能層遠離基板的一側。

13、根據本申請實施例的第二方面，提供了一種顯示面板的制作方法。顯示面板的制作方法包括：提供基板。形成像素定義層；像素定義層位于基板的一側，像素定義層包括像素限定部和由像素限定部合圍形成的多個像素開口。形成工藝保護層；工藝保護層位于像素定義層遠離基板的一側。形成隔離結構；隔離結構位于工藝保護層遠離基板的一側，隔離結構包括第一隔離層、第二隔離層和第三隔離層，第一隔離層為采用干法刻蝕工藝形成，第二隔離層為采用濕法刻蝕工藝形成，第一隔離層、第二隔離層和第三隔離層沿遠離基板方向依次層疊設置；第二隔離層在基板上的正投影位于第一隔離層在基板上的正投影內。對工藝保護層進行濕刻，形成工藝結構層。形成顯示功能層；顯示功能層位于基板上且包括多個至少部分位于像素開口內的發光器件，發光器件包括沿遠離基板方向層疊設置的第一電極、發光功能層和第二電極，第二電極與第一隔離層電連接。

14、工藝保護層工藝保護層工藝保護層工藝保護層工藝保護層在一些實施例中，對工藝保護層進行濕刻，形成工藝結構層中，工藝結構層在基板上的正投影位于第一隔離層在基板上的正投影內。

15、在一些實施例中，初始第一隔離層的材料為氮化鈦，初始第二隔離層的材料為鋁，初始第三隔離層的材料為鈦，工藝保護層的材料為鉬。

16、根據本申請實施例的第三方面，提供了一種顯示裝置。顯示裝置包括上述任一實施例中的顯示面板。

17、根據本申請實施例提供的方案，先形成工藝保護層，再形成隔離結構，采用濕法刻蝕工藝形成第二隔離層，干法刻蝕工藝形成第一隔離層，工藝保護層在形成第一隔離層的過程中起到保護像素限定部的作用，即使干法刻蝕工藝過刻，只會造成工藝保護層的上表面形成凹陷，并不會對像素限定部造成破壞，從而保證像素限定部表面的平整性。然后采用濕法刻蝕工藝形成工藝結構層，形成第二電極時，第二電極在像素限定部上的部分平整性較好，有利于電極層成膜，使得發光器件正常發光，從而保證顯示面板的顯示效果。

技術特征：

1.一種顯示面板，其特征在于，包括：

2.根據權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述隔離結構在所述基板上的正投影覆蓋所述工藝結構層在所述基板上的正投影。

3.根據權利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述工藝結構層在所述基板上的正投影位于所述第一隔離層在所述基板上的正投影內。

4.根據權利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述第二電極與所述第一隔離層和所述第二隔離層電連接。

5.根據權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述第一隔離層在所述基板上的正投影位于所述像素限定部在所述基板上的正投影內。

6.根據權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述第一隔離層的材料為氮化鈦，和/或，所述工藝結構層的材料為鉬。

7.根據權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述工藝結構層的厚度小于所述第一隔離層的厚度。

8.根據權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述第二隔離層在所述基板上的正投影位于所述第三隔離層在所述基板上的正投影內。

9.根據權利要求8所述的顯示面板，其特征在于，所述第三隔離層在所述基板上的正投影的邊界與所述第二隔離層在所述基板上的正投影的邊界的最短距離為0.3-1μm。

10.根據權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，還包括：

11.根據權利要求10所述的顯示面板，其特征在于，沿垂直于所述基板的方向，所述第二隔離層的高度大于所述第一隔離層，且所述第二隔離層的高度大于所述第三隔離層。

12.一種顯示面板的制作方法，其特征在于，包括：

13.根據權利要求12所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，所述對所述工藝保護層進行濕刻，形成工藝保護層中，所述工藝結構層在所述基板上的正投影位于所述第一隔離層在所述基板上的正投影內。

14.根據權利要求12或13所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，所述第一隔離層的材料為氮化鈦，所述第二隔離層的材料為鋁，所述工藝保護層的材料為鉬。

15.一種顯示裝置，其特征在于，包括：如權利要求1至11中任一項所述的顯示面板。

技術總結
本申請實施例提供了一種顯示面板及其制作方法、顯示裝置。顯示面板包括基板、像素定義層、工藝結構層、隔離結構和包括多個發光器件的顯示功能層，像素定義層包括像素限定部，工藝結構層位于像素限定部遠離基板的一側，工藝結構層在基板上的正投影位于像素限定部在基板上的正投影內。隔離結構位于工藝結構層遠離基板的一側，包括依次層疊設置的第一隔離層、第二隔離層和第三隔離層，第二隔離層在基板上的正投影位于第一隔離層在基板上的正投影內。發光器件包括層疊設置的第一電極、發光功能層和第二電極，第二電極與第一隔離層電連接。本公開的實施例，可以提高像素限定部的平整性，有利于電極層成膜，從而保證顯示面板的顯示效果。

技術研發人員：何停霞,董正逵,郜等,劉云杰,薛曉娟,沈有蓮
受保護的技術使用者：合肥維信諾電子有限公司
技術研發日：
技術公布日：2025/4/28