本技術涉及印刷電路板生產設備，具體涉及一種水洗裝置和真空顯影蝕刻去膜生產線。

背景技術：

1、在印刷電路板的制作過程中，清洗環節必不可少，而清洗環節是在水洗裝置上完成的。水洗裝置一般包括傳送輥機構、儲水槽、液體輸送機構和噴淋機構，傳送輥機構用于輸送印刷電路板，噴淋機構設置在傳送輥機構的上下兩側，用于對印刷電路板的上下兩側噴淋清洗用水，液體輸送機構用于向噴淋機構輸送清洗水。現有的水洗裝置一般具有以下缺陷：

2、（1）儲水槽一般并排設置有多個，相鄰兩個儲水槽之間設置有溢流口，一級儲水槽內的水通過溢流口流向二級儲水槽，二級儲水槽內的水位線基本與溢流口平齊，導致二級儲水槽的儲水量較少；

3、（2）溢流口處缺少擋板，一級儲水槽內的雜物會通過溢流口進入二級儲水槽內，容易影響二級儲水槽內水的潔凈度；

4、（3）儲水槽內缺少溫度調節機構，無法調節清洗用水的溫度，導致清洗效果欠佳。

技術實現思路

1、本實用新型的第一目的是提供一種能增加儲水槽儲水量并保持其潔凈度的水洗裝置。

2、本實用新型的第二目的是提供一種包含上述水洗裝置的真空顯影蝕刻去膜生產線。

3、為實現本實用新型的第一目的，本實用新型提供一種水洗裝置，包括機架、傳送輥機構、噴淋機構、液體輸送機構和至少兩個儲水槽，傳送輥機構設置在機架的中部，噴淋機構設置在傳送輥機構的上側和/或下側，儲水槽設置在機架的下部，液體輸送機構連接在噴淋機構和儲水槽之間，液體輸送機構的吸水端設置在儲水槽的下部，相鄰兩個儲水槽之間設置有溢流口和擋罩，擋罩設置在溢流口上，擋罩內設置有溢流通道，溢流通道向儲水槽的下部延伸，溢流通道的入口端與溢流口連通，溢流通道的出口端與吸水端相鄰，相鄰兩個儲水槽通過溢流口及溢流通道連通。

4、由上述方案可見，通過設置擋罩，使得儲水槽內的水位線可高于溢流口所在高度，有利于增大儲水槽的儲水量；通過設置溢流通道，使得從一儲水槽溢流出的水沿溢流通道向另一儲水槽的下部排放，使得溢流過來的水更接近液體輸送機構的吸水端，方便液體輸送機構抽吸溢流過來的水并供向噴淋機構，有利于提高該噴淋機構清洗用水的潔凈度。

5、進一步的方案是，溢流通道在其入口端的上方設置封閉端，在豎直方向上，封閉端到入口端的距離小于或等于出口端到入口端的距離。

6、由上述方案可見，通過設置封閉端，使得該儲水槽內的水能高于溢流通道，有利于進一步提供該儲水槽的儲水量。

7、進一步的方案是，溢流口在其背向擋罩的一側設置有擋板，擋板具有連接端和自由端，連接端連接在溢流口的上方，自由端與溢流口之間形成連通腔。

8、由上述方案可見，通過設置擋板，用于隔擋儲水槽內漂浮的雜物，有利于減小雜物經過溢流口進入溢流通道。

9、進一步的方案是，儲水槽的數量設為多個，多個儲水槽沿傳送輥機構的傳送方向排列設置，多個儲水槽之間設置有至少兩個溢流口，沿傳送輥機構傳送方向的反向，所有溢流口的高度逐漸降低。

10、由上述方案可見，通過設置所有溢流口的高度逐漸降低，有利于形成多級溢流，使得多個儲水槽內的水能多次利用，從而節省用水量。

11、進一步的方案是，水洗裝置包括沿傳送輥機構傳送方向排列設置的溫水水洗單元和常溫水洗單元，溫水水洗單元包括溫水儲水槽，溫水儲水槽內設置有加熱器和冷卻盤管，常溫水洗單元包括常溫儲水槽。

12、由上述方案可見，通過設置溫水水洗單元，利用加熱器和冷卻盤管調節溫水儲水槽內的水溫，利用溫水清洗印刷電路板，有利于提高清洗效果；通過在溫水水洗單元后設置常溫水洗單元，既起到二次清洗作用，提高清洗效果，又起到冷卻作用，防止印刷電路板溫度升高。

13、更進一步的方案是，溫水儲水槽內設置有兩個水位檢測器，兩個水位檢測器的各自檢測端分別設置在不同高度。

14、由上述方案可見，通過設置兩個水位檢測器，一個用于監測警示水位，以提醒工作人員需要添加清洗用水，另一個用于監測最低水位，避免加熱器出現干燒情況。

15、更進一步的方案是，水洗裝置還包括目檢工作臺，目檢工作臺設置在機架上并設置在傳送輥機構的出料端。

16、由上述方案可見，通過設置目檢工作臺，方便工作人員檢查印刷電路板的水洗效果。

17、為實現本實用新型的第一目的，本實用新型提供一種真空顯影蝕刻去膜生產線，包括上述的水洗裝置。

18、進一步的方案是，還包括沿加工方向依次排列設置的上料裝置、顯影裝置、蝕刻裝置、去膜裝置、風干裝置和下料裝置，顯影裝置、蝕刻裝置和去膜裝置的各自后側均設置有水洗裝置。

技術特征：

1.水洗裝置，包括機架、傳送輥機構、噴淋機構、液體輸送機構和至少兩個儲水槽，所述傳送輥機構設置在所述機架的中部，所述噴淋機構設置在所述傳送輥機構的上側和/或下側，所述儲水槽設置在所述機架的下部，所述液體輸送機構連接在所述噴淋機構和所述儲水槽之間，所述液體輸送機構的吸水端設置在所述儲水槽的下部，其特征在于：

2.根據權利要求1所述的水洗裝置，其特征在于：

3.根據權利要求1所述的水洗裝置，其特征在于：

4.根據權利要求1至3任一項所述的水洗裝置，其特征在于：

5.根據權利要求1至3任一項所述的水洗裝置，其特征在于：

6.根據權利要求5所述的水洗裝置，其特征在于：

7.根據權利要求1至3任一項所述的水洗裝置，其特征在于：

8.真空顯影蝕刻去膜生產線，其特征在于：包括上述權利要求1至7任一項所述的水洗裝置。

9.根據權利要求8所述的真空顯影蝕刻去膜生產線，其特征在于：還包括沿加工方向依次排列設置的上料裝置、顯影裝置、蝕刻裝置、去膜裝置、風干裝置和下料裝置，所述顯影裝置、所述蝕刻裝置和所述去膜裝置的各自后側均設置有所述水洗裝置。

技術總結
本技術提供一種水洗裝置和真空顯影蝕刻去膜生產線，該水洗裝置包括機架、傳送輥機構、噴淋機構、液體輸送機構和至少兩個儲水槽，傳送輥機構設置在機架的中部，噴淋機構設置在傳送輥機構的上側和/或下側，儲水槽設置在機架的下部，液體輸送機構連接在噴淋機構和儲水槽之間，液體輸送機構的吸水端設置在儲水槽的下部，相鄰兩個儲水槽之間設置有溢流口和擋罩，擋罩設置在溢流口上，擋罩內設置有溢流通道，溢流通道向儲水槽的下部延伸，溢流通道的入口端與溢流口連通，溢流通道的出口端與吸水端相鄰，相鄰兩個儲水槽通過溢流口及溢流通道連通。本技術增加儲水槽的儲水量并提高清洗用水的潔凈度。

技術研發人員：金鐘學,高大星,李源榮,楊克偉
受保護的技術使用者：太星（珠海）科技有限公司
技術研發日：20240627
技術公布日：2025/4/28