本實用新型涉及美發機領域,具體是指一種美發機。
背景技術:
美發機是一種用于改變頭發的形狀、走向,使頭發具有不同美容效果的設備,一般與美發椅一起使用。常見的美發機與美發椅采用分體式設置,操作時需挪動美發機,并按照實際需要調節美發機的高度,使美發機設置在美發椅上方適當的位置,這種設置方式的美發機和美發椅占用較多的空間,且增加了理發師的工作量。
技術實現要素:
本實用新型的主要目的在于克服現有技術的不足,提供一種占用空間少的美發機。
為了達到上述目的,本實用新型采用以下技術方案:一種美發機,包括底座、美發椅、美發裝置和支架結構,所述美發椅設置在所述底座上側,所述支架結構設置在所述美發椅一側,所述支架結構下端與所述底座連接,所述美發裝置設置在支架結構的上端,所述支架結構使美發裝置位于美發椅上方。
與現有技術相比,本實用新型提供的一種美發機,包括底座、美發椅、美發裝置和支架結構,美發椅設置在底座上,美發裝置通過支架結構連接底座,并位于美發椅上方,這種設置方式使美發裝置和美發椅整合成一體,減少了美發裝置和美發椅占用的空間。
本實用新型的美發裝置可實現燙發、烘干、噴霧等一種或多種美發功能。
優選的,所述支架結構設置在所述美發椅后側,方便理發師站在美發椅兩側對客戶進行美發。
支架結構的另一種設置方案,所述支架結構設置在所述美發椅左側或右側,避免理發師站在美發椅后對客戶進行美發時受到支架結構的阻礙。
優選的,所述底座上設有支撐結構,美發椅通過支撐結構設置在所述底座上側,所述支架結構與所述支撐結構連接。
優選的,所述支架結構下端與所述支撐結構固定連接。
優選的,所述支架結構呈外凹弧形,這種設置方式使支架結構與美發椅之間的空間更大,方便理發師對客戶進行美發。
優選的,所述支架結構弧度范圍為0~π,這種設置方式提高所述支架結構的結構強度。
優選的,所述支架結構設有升降結構,通過該升降結構調節支架結構的長度,實現所述美發裝置的高度調整。
優選的,所述升降結構包括電驅動裝置,通過電驅動裝置調節支架結構的長度
優選的,所述支架結構上設有控制面板,所述控制面板與所述美發機的控制電路連接。
優選的,所述美發裝置相對底座的高度為1.4-2m,確保美發裝置設置在美發椅上方適當的位置。
附圖說明
圖1是本實用新型的支架結構一種設置方式的示意圖;
圖2是本實用新型的支架結構另一種設置方式的示意圖;
圖3是本實用新型的剖視圖。
標號說明:
1美發椅,10支撐結構,11底座,12椅座,123腳支撐件,13椅背,14頸枕,2美發裝置,3支架結構,31支承臂,30連接件。
具體實施方式
以下結合附圖說明本實用新型新的實施方式:
參見圖1至圖3,本實施例的一種美發機,包括底座11、美發椅1、美發裝置2和支架結構3,所述美發椅1設置在所述底座11上側,所述支架結構3設置在所述美發椅1一側,所述支架結構3下端與所述底座11連接,所述美發裝置2設置在支架結構3的上端,所述支架結構3使美發裝置2位于美發椅1上方。
與現有技術相比,本實用新型提供的一種美發機,包括底座11、美發椅1、美發裝置2和支架結構3,美發椅1設置在底座11上,美發裝置2通過支架結構3連接底座11,并位于美發椅1上方,這種設置方式使美發裝置2和美發椅1整合成一體,減少了美發裝置2和美發椅1占用的空間。
本實用新型的美發裝置2具有燙發、烘干和噴霧等一種或多種美發功能。
為了使客戶舒適躺臥在美發椅1上,避免長時間坐著美發引起腰背勞累,所述美發椅1包括椅座12和椅背13,所述椅背13上設有頸枕14,所述椅座12前端設有腳支撐件123。
參見圖1,作為支架結構3的一種設置方案,所述支架結構3設置在所述美發椅1后側,方便理發師站在美發椅1兩側對客戶進行美發。
參見圖2,作為支架結構3的另一種設置方案,所述支架結構3設置在所述美發椅1左側或右側,避免理發師站在美發椅1后對客戶進行美發時受到支架結構3的阻礙。
參見圖1至圖3,作為一種改進方案,所述底座11上設有支撐結構10,美發椅1通過支撐結構10設置在所述底座11上側,所述支架結構3與所述支撐結構10連接。
參見圖1至圖3,作為一種改進方案,所述支架結構3下端與所述支撐結構10固定連接;所述支架結構3包括支承臂31,所述支承臂31的下端設有連接件30,所述連接件30固定連接所述支撐結構10。
參見圖1至圖3,作為一種改進方案,所述支架結構3呈外凹弧形,這種設置方式使支架結構3與美發椅1之間的空間更大,方便理發師對客戶進行美發。
參見圖1至圖3,作為一種改進方案,所述支架結構3弧度范圍為0~π,這種設置方式提高所述支架結構3的結構強度。
參見圖1至圖3,作為一種改進方案,所述支架結構3設有升降結構(圖中未示出),通過該升降結構(圖中未示出)調節支架結構3的長度,實現所述美發裝置2的高度調整。
參見圖1至圖3,作為一種改進方案,所述升降結構(圖中未示出)包括電驅動裝置(圖中未示出),通過電驅動裝置(圖中未示出)調節支架結構3的長度。
參見圖1至圖3,作為一種改進方案,所述支架結構3上設有控制面板(圖中未示出),所述控制面板(圖中未示出)與所述美發機的控制電路連接。
參見圖1至圖3,作為一種改進方案,所述美發裝置2相對底座11的高度為1.4-2m,確保美發裝置2設置在美發椅1上方適當的位置。
根據上述說明書的揭示和教導,本實用新型所屬領域的技術人員還可以對上述實施方式進行變更和修改。因此,本實用新型并不局限于上面揭示和描述的具體實施方式,對本實用新型的一些修改和變更也應當落入本實用新型的權利要求的保護范圍內。此外,盡管本說明書中使用了一些特定的術語,但這些術語只是為了方便說明,并不對本實用新型構成任何限制。