本申請屬于醫療設備技術領域，涉及一種醫療設備模體的支撐定位裝置。

背景技術：

計算機X射線斷層成像(computed tomography，CT)機或X光機或MRI(Magnetic Resonance Imaging，磁共振成像)等作為醫療設備廣泛應用于醫療衛生領域以協助醫生診斷疾病。

為了保證CT機或X光機或MRI等的成像穩定性及圖像的數據準確性，需要在出廠前及日常使用中利用各種模體對醫療設備進行校正，也稱為模體校正。需要進行模體校正的場合主要有出廠前的統調及日常的診斷工具測試和質量檢測等。通常用到的模體主要有水模、層厚模、高分辨率模體和劑量模體等。

以水模校正MRI系統為例，MRI水模常用于MRI系統中與成像質量相關的一些指標測試，如信噪比、均勻度、渦流等，水模測試數據不僅可用來評價系統的成像質量，也是作為對相關指標進行校正及提高成像質量的依據。

MRI水膜通過放置在床板上的支撐定位裝置，對其進行支撐及定位，由于需要將水模調節到MRI系統的磁體中心，在調節過程中支撐定位裝置的尺寸高度由水膜與床板之間的相對位置確定。現場安裝環境的不同及使用條件的限制，致使每臺MRI系統的磁體中心與床板之間的距離都存在一定的差異，即每臺MRI系統的支撐定位裝置在支撐水膜高度方向的尺寸是不同的。

現有的支撐定位裝置調節方位小，需要在支撐定位裝置的下方通過鋪墊若干墊塊進行粗調，再經過支撐定位裝置細調使水模與MRI系統的磁體中心重合，調節效率低，同時，墊塊之間容易移動或不平整等，調節困難。

又由于需在不同的MRI系統之間使用，其調節的操作空間有較大差異，而水模的中心不能超過MRI系統的磁體中心，支撐定位裝置的整體高度受到限制，當支撐定位裝置完全采用螺紋調節結構，螺紋的調節部分和自身與螺紋底座的連接部分之和，無法完全滿足水模的中心不能超過MRI系統的磁體中心的條件，因此，完全采用螺紋調節結構僅能適用于部分特定的MRI系統，在調節范圍大的不同MRI系統之間使用時，需要通過在支撐定位裝置下方鋪墊墊塊調節，不能實現一個支撐定位裝置在不同MRI系統之間使用的要求。因此現有的支撐定位裝置在較小高度范圍內實現達到較大的調節范圍。

技術實現要素：

有鑒于此，本申請提供一種醫療設備模體的支撐定位裝置。它具有調節精度高，高度調節范圍廣的特點。

具體地，本申請是通過如下技術方案實現的：一種醫療設備模體的支撐定位裝置，包括：

底座，設有至少兩組分布在底座上的定位齒；

粗調節座，設有至少兩個凹陷部，所述凹陷部與定位齒的位置相匹配，每一凹陷部內均設有呈階梯狀分布的若干臺肩面；

細調節座，插設在粗調節座上；

所述粗調節座安裝至底座，使其中一級臺肩面貼合連接在定位齒上，所述細調節座沿粗調節座的軸線方向移動并固定。

可選的，所述底座上設有定位孔，所述定位齒設置在定位孔的內側面上且朝向定位孔的中心方向凸出，所述粗調節座插入定位孔并抵靠在定位齒上。

可選的，所述定位齒的厚度小于底座的厚度。

可選的，所述粗調節座的外側表面上設有定位面，所述粗調節座插入底座，所述定位面與定位孔共線。

可選的，每一凹陷部內相鄰臺肩面距離粗調節座底面的高度逐級遞增，在相鄰或間隔的凹陷部上，同一級臺肩面處于同一平面上。

可選的，每一凹陷部內相鄰臺肩面的高度差相同。

可選的，所述臺肩面呈扇環形，每一臺肩面的圓心角的角度相同。

可選的，所述細調節座與粗調節座通過螺紋連接。

可選的，所述細調節座上安裝有鎖緊螺母。

可選的，所述細調節座包括支撐部和設置在支撐部一側的螺紋部，所述螺紋部連接在粗調節座上，在支撐部的另一側設置有支撐面。

可選的，所述支撐面為自表面凹陷形成球形曲面或沉孔。

可選的，所述支撐面為平面。

可選的，所述底座、粗調節座和細調節座均由非金屬材料制成。

可選的，所述底座上設置有指針，所述粗調節座上刻制有若干刻度，所述指針指向其中一刻度。

本申請提供的實施例公開的技術方案可以具有以下有益效果：

采用粗調節座上不同高度的臺肩面與底座上的定位齒之間的配合，實現支撐定位裝置在高度方向上大尺寸粗調，再通過細調節座在粗調節座上的微調，實現模體與醫療設備的中心重合，調節效率高，在有限的高度內調整范圍大，調節精度高，穩定性好；在細調節座上設置與模體相配合的支撐面，通過更換細調節座，即可實現不同模體的定位和支撐，操作方便。

附圖說明

圖1是本申請一示例性實施例示出的支撐定位裝置處于低位的使用狀態圖。

圖2是本申請一示例性實施例示出的支撐定位裝置處于高位的使用狀態圖。

圖3是本申請一示例性實施例示出的支撐定位裝置的剖面結構示意圖。

圖4是本申請一示例性實施例示出的支撐定位裝置的爆炸結構示意圖。

圖5是本申請一示例性實施例示出的一種細調節座的剖面結構示意圖。

圖6是本申請一示例性實施例示出的另一種細調節座的剖面結構示意圖。

圖7是本申請一示例性實施例示出的支撐定位裝置的使用狀態圖。

具體實施方式

這里將詳細地對示例性實施例進行說明，其示例表示在附圖中。下面的描述涉及附圖時，除非另有表示，不同附圖中的相同數字表示相同或相似的要素。以下示例性實施例中所描述的實施方式并不代表與本申請相一致的所有實施方式。相反，它們僅是與如所附權利要求書中所詳述的、本申請的一些方面相一致的裝置和方法的例子。

在本申請使用的術語是僅僅出于描述特定實施例的目的，而非旨在限制本申請。在本申請和所附權利要求書中所使用的單數形式的“一種”、“所述”和“該”也旨在包括多數形式，除非上下文清楚地表示其他含義。還應當理解，本文中使用的術語“和/或”是指并包含一個或多個相關聯的列出項目的任何或所有可能組合。

如圖1、圖2和圖4所示，根據一示例性實施例示出的一種醫療設備模體的支撐定位裝置，包括：底座10、粗調節座20和細調節座30，在底座10上設有至少兩組分布在底座10上的定位齒11，粗調節座20設有至少兩個凹陷部21，凹陷部21與定位齒11的位置相匹配，每一凹陷部21內設有若干階梯狀的臺肩面22，臺肩面22為自粗調節座20的底面23向下凹陷形成，即底座10上的定位齒11處于底座10的兩等分位、三等分位、四等分位等均分的等分位上，當定位齒11處于三個及以上時，也可以使定位齒11不處于等分位上，定位齒11與凹陷部21相互配合，其中凹陷部21所處圓周的圓心與定位齒11所處圓周的圓心共線，細調節座30插設在粗調節座20上，粗調節座20安裝至底座10，使其中一臺肩面22貼合連接在定位齒11上，細調節座30沿粗調節座20的軸線方向移動并固定。

根據一示例性實施例示出的醫療設備模體的支撐定位裝置，其中醫療設備以MRI系統為例，模體采用MRI水模對MRI系統進行校正。

如圖7所示，將底座10放置在MRI系統4的床板3上，并使底座10處于MRI水模2調試位置的縱向方向上，將粗調節座20放置到底座10上，其中，將粗調節座20的底面23或一臺肩面22貼合在定位齒11上，在細調節座30上安放有MRI水模2，根據MRI水模2的中心和MRI系統4中磁體的中心之間的高度差調節粗調節座20上與定位齒11貼合的臺肩面22，使MRI水模2的中心與MRI系統4中磁體的中心之間的高度差小于設定值，該設定值為細調節座30的微調范圍，對細調節座30進行微調使MRI水模2的中心和MRI系統4中磁體的中心重合，該支撐定位裝置1通過粗調節座20與底座10之間的粗調，在經過細調節座30的微調，使MRI水模2的中心和MRI系統4中磁體的中心快速重合，調節效率高。在粗調節座20設置有階梯狀的臺肩面22，可以進行大范圍的調節MRI水模2的中心高度，調節范圍大，效率高，與細調節座30的微調配合，可以實現粗調結合微調的形式，實現MRI水模2的快速調節，應用范圍廣。通過臺肩面22逐級調節MRI水模2可以實現在較小轉動范圍內實現MRI水模2的高度調節，減小支撐定位裝置1的整體尺寸，使MRI水模2能通過一種支撐定位裝置1在多個MRI系統4中實現數據測試，實現MRI水模2在有限空間內的多層次調節，調節效果好。

如圖3和圖4所示，在底座10上設有定位孔12，定位齒11設置在定位孔12的內側面上且朝向定位孔12的中心方向凸出，粗調節座20插入定位孔12并抵靠在定位齒11上。定位齒11設置在底座10的定位孔12上，在同一個圓心的情況下，粗調節座20繞底座10轉動過程中，間隔設置的定位齒11之間轉動的角度相同，使粗調節座20的底面23或每一級的臺肩面22能貼合在定位齒11上，使MRI水模2的高度在軸線方向變化，而水平方向沒有變化，結合細調節座30在軸線方向的調節，可以實現MRI水模2始終處于縱向的高度調節，實現上升和下降，確保MRI水模2調節至MRI系統4中磁體的中心。

定位齒11的厚度小于底座10的厚度。定位齒11與底座10之間設置間距，在粗調節座20插入到底座10時，可以使粗調節座20的部分陷入到底座10中，使粗調節座20不易跑動，限定粗調節座20在軸向的移動范圍，調高穩定性。

如圖3所示，在粗調節座20的外側表面上設有定位面27，粗調節座20插入底座10，定位面27與定位孔12共線。將粗調節座20的定位面27與底座10的定位孔12設置成共線，可以使粗調節座20在底座10上轉動時確保粗調節座20的軸線不會偏轉，提高MRI水模2調節的精度，不會使MRI水模2因支撐定位裝置1在調節過程發生偏轉而影響測試結果。將定位面27與定位孔12設置成間隙配合，方便粗調節座20從底座10上取出、插入或轉動等動作調節與底座10的相對位置，同時，將定位面27與定位孔12設置成間隙配合，定位齒11與臺肩面22在徑向的移動范圍小，提高定位齒11與臺肩面22之間的配合準確度，如粗調節座20轉動的角度一致，能使粗調節座20上同一級的臺肩面22同時配合至相應的定位齒11。

臺肩面22距離粗調節座20的底面23的高度逐級順序遞增，每一凹陷部21內臺肩面22的高度遞增方向相同，在相鄰或間隔的凹陷部21上，同一級臺肩面22處于同一平面上。即凹陷部21內的若干個臺肩面22呈階梯狀分布，每一凹陷部21內臺肩面22的深度遞增方向相同，可以是臺肩面22沿順時針或逆時針方向逐級加深，以提高調節的深度和廣度，多個凹陷部21內同一級的臺肩面22處于同一平面，以保證粗調節座20在轉動過程中平穩，調節的高度一致，而不同級之間的臺肩面22的高度差可以相同，也可以設置成不同。

每一凹陷部21內相鄰臺肩面22的高度差相同。將每一級臺肩面22的高度設置為相同，方便計算和識別調節MRI水模2調節的整體高度，調節均勻，結構美觀度高。

臺肩面22呈扇環形，沿粗調節座20的中心分布在粗調節座20上，每一臺肩面22的圓心角的角度相同。臺肩面22沿粗調節座20的中心分布，在粗調節座20繞底座10的軸線轉動時，其相當于繞圓心轉動一相同角度，運動平穩。

細調節座30與粗調節座20通過螺紋連接。在粗調節座20上設置有凸臺24，在粗調節座20上開設有螺紋孔26，螺紋孔26貫穿凸臺24和粗調節座20，螺紋孔26的軸線與粗調節座20的軸線重合，MRI水模2放置在細調節座30上，當旋轉細調節座30時，可以實現MRI水模2在軸線方向的微調，MRI水模2在粗調和精調雙重作用下，實現位置的精確定位，凸臺24的設置可加大細調節座30的調節范圍，也可以增加螺紋的有效連接長度。

如圖1、圖2和圖4所示，細調節座30上安裝有鎖緊螺母40。經過粗調節座20和細調節座30的粗調和精調過程，使MRI水模2與MRI系統4中磁體的中心重合，將細調節座30通過鎖緊螺母40鎖緊至粗調節座20，保持細調節座30的位置固定，保持MRI水模2的中心保持不變，鎖定方便。

如圖4、圖5和圖6所示，細調節座30包括支撐部31和設置在支撐部31一側的螺紋部32，螺紋部32連接在粗調節座20上，在支撐部31的另一側設置有支撐面33。鎖緊螺母40安裝在螺紋部32上，螺紋部32與粗調節座20連接，在支撐部31的外周面上設置有滾花，在支撐部31上設置支撐面33，支撐面33支撐起MRI水模2，使MRI水模2不易跑動和移位?？梢酝ㄟ^更換細調節座30完成不同MRI水模2的定位和支撐。例如：

當MRI水模2呈球形時，支撐面33為自表面凹陷形成球形曲面或或沉孔，沉孔即垂直于支撐面33開設限位孔。將支撐面33設置成凹陷的球形曲面，當MRI水模2安裝至支撐面33時，MRI水模2與支撐面33形成受到限定的接觸面，確保MRI水模2不會從支撐面33滾出。

當MRI水模2呈矩性或柱形時，支撐面33為平面或垂直于支撐面33開設限位孔。可以通過多個支撐定位裝置1進行多點支撐的形式將矩性或柱形的MRI水模2進行支撐和定位，定位方便，調節簡單；開設限位孔可以限定球形或具有凸出部位的MRI水模2。

同時支撐面33也可以根據需要支撐的MRI水模2的支撐位置的形狀設置向對應的形狀進行限定，如圓柱形，可以設置圓弧面限定其轉動。

底座10、粗調節座20和細調節座30均由非金屬材料制成。鎖緊螺母40也由非金屬材料制成，如：有機玻璃。由于MRI系統4工作環境決定金屬材料不適用與MRI系統4，因此，在制作時盡量不采用金屬材料。

在底座10上沿設置有指針13，在粗調節座20上刻制有若干刻度25，指針13指向刻度25。通過指針13和刻度25的配合，可以直觀的看出粗調節座20與底座10之間的配合高度，讀取粗調節的高度，直觀的觀察哪一級臺肩面22與定位齒11配合，數據讀取方便。在使用時，可以觀察指針13與刻度25的配合情況，確定粗調節座20與底座10的貼合面是否匹配到位，操作方便。

以上僅為本申請的較佳實施例而已，并不用以限制本申請，凡在本申請的精神和原則之內，所做的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本申請保護的范圍之內。