專利名稱：在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種在光學玻璃表面鍍增透膜的方法，尤其是涉及一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法。
背景技術：
在人們的日常生活中的許多場合，均會遇到使用小尺寸光學窗口的情況。為了提高這種小尺寸光學窗口器件強度，通常使用鋼化玻璃作為基片，并通過在其表面化鍍增透膜的方法來提高它的光學透過率。但是，人們在日常的生產加工過程中發(fā)現，由于這些光學窗口器件的尺較小，因此基片通常是使用光學玻璃進行化學鋼化后制成的。而通過鍍膜制成光學窗口器件成品后其鋼化強度通常會受到一定程度的破壞。我們使用目前常用的三種鋼化檢測方法對一塊經化學鋼化后的光學玻璃樣品在單面鍍膜前后的鋼化強度進行檢測后發(fā)現，除鋼化深度和表面應力沒有明顯變化外，彎曲強度由1201Mpa下降到942Mpa，抗跌落高度由1500毫米下降到600毫米。

發(fā)明內容
本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，能夠在實現光學性能的前提下，保證對化學法鋼化的光學玻璃基片的鋼化性能具有較小的影響。本發(fā)明解決上述技術問題所采用的技術方案為一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，包括用光學鍍膜機在由化學法鋼化的光學玻璃基片的表面鍍增透膜層，在所述的光學玻璃基片的表面與所述的增透膜層之間設置一層緩沖膜層，根據所述的增透膜層的應力特性，將所述的緩沖膜層的應力特性設置成與所述的增透膜層的應力特性相反，所述的緩沖膜層的應力大小等于所述的增透膜層的應力的大小±5%。將所述的增透膜層的應力設置成張應力，所述的緩沖膜層的應力設置成壓應力。用厚度為130 ISOnm的SiO2層構成所述的緩沖膜層，用至少兩層復合膜層構成所述的增透膜層，所述的復合膜層采用先鍍一層高折射率層，再鍍一層低折射率層的方式構成，控制所述的高折射率層的厚度為所述的復合膜層厚度的5% 15%。所述的緩沖膜層的厚度最好為150nm。所述的高折射率層使用Hf02、Zr02或Ti3O5材料制成，所述的低折射率層使用SiO2 材料制成。與現有技術相比，本發(fā)明的優(yōu)點在于通過在由化學法鋼化的光學玻璃基片的表面與增透膜層之間設置一層緩沖膜層，并根據增透膜層的應力特性，將緩沖膜層的應力特性設置成與增透膜層的應力特性相反，緩沖膜層的應力大小等于增透膜層的應力的大小 ±5%，可以有效地防止鍍膜對光學窗口器件的鋼化強度造成的破壞；而根據鋼化玻璃本身的應力特性，最好將增透膜層的應力設置成張應力，將緩沖膜層的應力設置成壓應力。
具體實施方式
以下結合實施例對本發(fā)明作進一步詳細描述。實施例一一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，在由化學法鋼化的光學玻璃基片的表面先用光學鍍膜機鍍一層150nm的SiO2緩沖膜層，然后再用光學鍍膜機鍍兩層復合膜層構成增透膜層，復合膜層采用先鍍一層HfO2層，再鍍一層SiO2層的方式構成，控制HfO2層的厚度為復合膜層厚度的6%。實施例二 一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，在由化學法鋼化的光學玻璃基片的表面先用光學鍍膜機鍍一層130nm的SiO2緩沖膜層，然后再用光學鍍膜機鍍兩層復合膜層構成增透膜層，復合膜層采用先鍍一層HfO2層，再鍍一層SiO2層的方式構成，控制HfO2層的厚度為復合膜層厚度的15%。實施例三一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，在由化學法鋼化的光學玻璃基片的表面先用光學鍍膜機鍍一層180nm的SiO2緩沖膜層，然后再用光學鍍膜機鍍兩層復合膜層構成增透膜層，復合膜層采用先鍍一層HfO2層，再鍍一層SiO2層的方式構成，控制HfO2層的厚度為復合膜層厚度的13%。實施例四一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，在由化學法鋼化的光學玻璃基片的表面先用光學鍍膜機鍍一層150nm的SiO2緩沖膜層，然后再用光學鍍膜機鍍兩層復合膜層構成增透膜層，復合膜層采用先鍍一層ZrO2層，再鍍一層SiO2層的方式構成，控制HfO2層的厚度為復合膜層厚度的10%。實施例五一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，在由化學法鋼化的光學玻璃基片的表面先用光學鍍膜機鍍一層150nm的SiO2緩沖膜層，然后再用光學鍍膜機鍍兩層復合膜層構成增透膜層，復合膜層采用先鍍一層ZrO2層，再鍍一層SiO2層的方式構成，控制ZrO2層的厚度為復合膜層厚度的13%。實施例六一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，在由化學法鋼化的光學玻璃基片的表面先用光學鍍膜機鍍一層150nm的SiO2緩沖膜層，然后再用光學鍍膜機鍍兩層復合膜層構成增透膜層，復合膜層采用先鍍一層Ti3O5層，再鍍一層SiO2層的方式構成，控制Ti3O5層的厚度為復合膜層厚度的8%。
權利要求
1.一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，包括用光學鍍膜機在由化學法鋼化的光學玻璃基片的表面鍍增透膜層，其特征在于在所述的光學玻璃基片的表面與所述的增透膜層之間設置一層緩沖膜層，根據所述的增透膜層的應力特性，將所述的緩沖膜層的應力特性設置成與所述的增透膜層的應力特性相反，所述的緩沖膜層的應力大小等于所述的增透膜層的應力的大小±5%。
2.如權利要求I所述的一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，其特征在于將所述的增透膜層的應力設置成張應力，所述的緩沖膜層的應力設置成壓應力。
3.如權利要求I所述的一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，其特征在于用厚度為130 ISOnm的SiO2層構成所述的緩沖膜層，用至少兩層復合膜層構成所述的增透膜層，所述的復合膜層采用先鍍一層高折射率層，再鍍一層低折射率層的方式構成，控制所述的高折射率層的厚度為所述的復合膜層厚度的5% 15%。
4.如權利要求3所述的一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，其特征在于所述的緩沖膜層的厚度為150nm。
5.如權利要求3或4所述的一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，其特征在于所述的高折射率層使用Hf02、Zr02或Ti3O5材料制成，所述的低折射率層使用SiO2材料制成。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種在化學法鋼化的光學玻璃表面鍍增透膜的方法，包括用光學鍍膜機在由化學法鋼化的光學玻璃基片的表面鍍增透膜層，特點是在光學玻璃基片的表面與增透膜層之間設置一層緩沖膜層，根據增透膜層的應力特性，將緩沖膜層的應力特性設置成與增透膜層的應力特性相反，緩沖膜層的應力大小等于增透膜層的應力的大小±5％，優(yōu)點是可以有效地防止鍍膜對光學窗口器件的鋼化強度造成的破壞。
文檔編號C03C17/34GK102584027SQ20121000569
公開日2012年7月18日 申請日期2012年1月9日 優(yōu)先權日2012年1月9日
發(fā)明者楊勇, 毛磊, 肖博智, 陳亞君 申請人:寧波永新光學股份有限公司