本申請屬于清洗設備，尤其涉及一種清潔模組、清潔基站以及清潔系統。

背景技術：

1、清潔基站與清潔設備配合，清潔基站為清潔設備的?？空?，清潔基站可對清潔設備進行充電、補水、抹布清洗、烘干等操作。清潔基站包括清潔模組，通過清潔模組對清潔設備的抹布進行清洗。清潔模組通常采用旋轉的滾刷清洗清洗設備的抹布，需要驅動裝置帶動滾刷旋轉，導致清潔模組結構復雜，且滾刷與抹布接觸阻力大，導致清潔模組沿清潔基站的導軌結構移動時所需電流值增加。

技術實現思路

1、本申請實施例的目的在于提供一種清潔模組、清潔基站以及清潔系統，以解決現有技術中存在的采用滾刷的清潔模組結構復雜的技術問題。

2、為實現上述目的，本申請采用的技術方案是：

3、本申請的第一方面提供一種清潔模組，清潔模組包括：

4、支撐架體；

5、驅動裝置，與支撐架體相連接，驅動裝置用于帶動支撐架體移動；

6、第一清洗部，第一清洗部設于支撐架體上。

7、在一些實現方式中，清潔模組還包括出液結構，出液結構上設置有出液孔，出液結構設置在支撐架體上。

8、在一些實現方式中，清潔模組上形成有清洗槽，第一清洗部位于清洗槽。

9、在一些實現方式中，出液結構設置在支撐架體的頂面上且出液結構與支撐架體之間圍成有清洗槽。

10、在一些實現方式中，支撐架體的頂部形成有阻擋凸起，阻擋凸起與出液結構圍成清洗槽。

11、在一些實現方式中，第一清洗部的數量為多個，每個第一清洗部分別位于對應的清洗槽內。

12、在一些實現方式中，支撐架體的頂面向下凹陷形成清洗槽，第一清洗部和出液結構均位于清洗槽內。

13、在一些實現方式中，第一清洗部為兩個且兩個第一清洗部位于出液結構的兩側；出液結構相對的兩側面上均設置有出液孔，每側的出液孔分別朝向對應側的第一清洗部；和/或，出液結構的頂面上設置有出液孔。

14、在一些實現方式中，出液結構上形成有限位凸條，限位凸條設置在出液結構的頂面上且兩個限位凸條沿兩個第一清洗部的分布方向平行間隔設置，兩個限位凸條之間設置出液孔。

15、在一些實現方式中，第一清洗部為分布在支撐架體上的若干凸起。

16、在一些實現方式中，凸起間隔設置以形成沿垂直于支撐架體移動方向的一排凸起，且沿支撐架體的移動方向設置一排以上凸起。

17、在一些實現方式中，清潔模組還包括第二清洗部，第二清洗部設置在支撐架體上，在清洗槽沿清潔模組移動方向的前側或/和后側設置第二清洗部。

18、在一些實現方式中，第二清洗部為浮動刮板。

19、在一些實現方式中，第二清洗部與出液結構相平行設置。

20、在一些實現方式中，清潔模組還包括第一水槽清洗件，第一水槽清洗件設置在支撐架體和驅動裝置的一側。

21、在一些實現方式中，第一水槽清洗件包括支撐部和彈性部，支撐部安裝在支撐架體上，彈性部安裝在所述支撐部的底部。

22、在一些實現方式中，支撐部的底面和彈性部的頂面兩者其中設置有若干插孔、另一設置有若干配合凸起，配合凸起和插孔一一對應，配合凸起插入對應的插孔；和/或，支撐部和彈性部兩者其中之一設置有若干卡扣、另一設置有若干卡槽，卡扣和卡槽一一對應，卡扣的自由端插入對應的卡槽，卡槽設置在支撐部或彈性部的側面。

23、在一些實現方式中，驅動裝置包括驅動殼體，驅動殼體設置在支撐架體的一端；第一水槽清洗件凸出驅動殼體背離支撐架體一端的端面。

24、在一些實現方式中，清潔模組還包括第二水槽清洗件，第二水槽清洗件設置在支撐架體和驅動裝置的另一側。

25、本申請的第二方面提供一種清潔基站，包括底座和如上述任一技術方案提供的的清潔模組，底座上設置有導軌結構，清潔模組通過導軌結構支撐在底座上。

26、本申請的第三方面提供一種清潔系統，包括清潔設備和如上述技術方案提供的清潔基站。

27、本申請的有益效果在于：現有相關技術中，清潔模組通常采用旋轉的滾刷清洗清洗設備的清潔元件，需要驅動裝置帶動滾刷旋轉，使得清潔模組的結構復雜；而本申請實施例中，第一清洗部相對不動地設于支撐架體上的，無需驅動裝置帶動第一清洗部動作，以利于簡化清潔模組的結構。

技術特征：

1.一種清潔模組，其特征在于，所述清潔模組(1)包括：

2.如權利要求1所述的清潔模組，所述驅動裝置(12)用于帶動所述支撐架體(11)往復移動。

3.如權利要求1所述的清潔模組，其特征在于，所述清潔模組(1)還包括出液結構(14)，所述出液結構(14)上設置有出液孔(141)，所述出液結構(14)設置在所述支撐架體(11)上。

4.如權利要求3所述的清潔模組，其特征在于，所述清潔模組(1)上形成有清洗槽(15)，所述第一清洗部(13)位于所述清洗槽(15)。

5.如權利要求4所述的清潔模組，其特征在于，所述出液結構(14)設置在所述支撐架體(11)的頂面上且所述出液結構(14)與所述支撐架體(11)之間圍成有所述清洗槽(15)。

6.如權利要求5所述的清潔模組，其特征在于，所述支撐架體(11)的頂部形成有阻擋凸起(119)，所述阻擋凸起(119)與所述出液結構(14)圍成所述清洗槽(15)。

7.如權利要求5所述的清潔模組，其特征在于，所述第一清洗部(13)的數量為多個，每個所述第一清洗部(13)分別位于對應的所述清洗槽(15)內。

8.如權利要求4所述的清潔模組，其特征在于，所述支撐架體(11)的頂面向下凹陷形成所述清洗槽(15)，所述第一清洗部(13)和所述出液結構(14)均位于所述清洗槽(15)內。

9.如權利要求8所述的清潔模組，其特征在于，所述第一清洗部(13)為兩個且兩個所述第一清洗部(13)分別位于所述出液結構(14)的兩側；

10.如權利要求9所述的清潔模組，其特征在于，所述出液結構(14)上形成有限位凸條(143)，所述限位凸條(143)設置在所述出液結構(14)的頂面上且兩個限位凸條(143)沿兩個所述第一清洗部(13)的分布方向平行間隔設置，兩個所述限位凸條(143)之間設置所述出液孔(141)。

11.如權利要求4所述的清潔模組，其特征在于，所述清潔模組(1)還包括第二清洗部(16)，所述第二清洗部(16)設置在所述支撐架體(11)上，在所述清洗槽(15)沿所述清潔模組(1)移動方向的前側或/和后側設置所述第二清洗部(16)。

12.如權利要求11所述的清潔模組，其特征在于，所述第二清洗部(16)為浮動刮板。

13.如權利要求1-12中任一項所述的清潔模組，其特征在于，所述第一清洗部(13)為分布在所述支撐架體(11)上的若干凸起。

14.如權利要求13所述的清潔模組，其特征在于，所述凸起間隔設置以形成沿垂直于所述支撐架體(11)移動方向的一排所述凸起，且沿所述支撐架體(11)的移動方向設置一排以上所述凸起。

15.如權利要求1-12中任一項所述的清潔模組，其特征在于，所述清潔模組(1)還包括第一水槽清洗件(17)，所述第一水槽清洗件(17)設置在所述支撐架體(11)和所述驅動裝置(12)的一側。

16.如權利要求15所述的清潔模組，其特征在于，所述第一水槽清洗件(17)包括支撐部(171)和彈性部(172)，所述支撐部(171)安裝在所述支撐架體(11)上，所述彈性部(172)安裝在所述支撐部(171)的底部。

17.如權利要求16所述的清潔模組，其特征在于，所述支撐部(171)的底面和所述彈性部(172)的頂面兩者其中設置有若干插孔(1721)、另一設置有若干配合凸起(1711)，所述配合凸起(1711)和所述插孔(1721)一一對應，所述配合凸起(1711)插入對應的所述插孔(1721)；和/或，

18.如權利要求15所述的清潔模組，其特征在于，所述驅動裝置(12)包括驅動殼體(124)，所述驅動殼體(124)設置在所述支撐架體(11)的一端；所述第一水槽清洗件(17)凸出所述驅動殼體(124)背離所述支撐架體(11)一端的端面。

19.如權利要求15所述的清潔模組，其特征在于，所述清潔模組(1)還包括第二水槽清洗件(18)，所述第二水槽清洗件(18)設置在所述支撐架體(11)和所述驅動裝置(12)的另一側。

20.一種清潔基站，其特征在于，包括底座(2)和權利要求1-19中任一項所述的清潔模組(1)，所述底座(2)上設置有導軌結構(3)，所述清潔模組通過所述導軌結構(3)支撐在所述底座(2)上。

21.一種清潔系統，其特征在于，包括清潔設備和權利要求20所述的清潔基站。

技術總結
本申請提供一種清潔模組、清潔基站以及清潔系統，清潔模組用于清潔基站，清潔模組包括支撐架體、驅動裝置以及清潔組件，驅動裝置設置在支撐架體的一端，驅動裝置用于帶動支撐架體沿清潔基站的導軌結構移動，清潔組件設于支撐架體上。現有相關技術中，清潔模組通常采用旋轉的滾刷清洗清洗設備的清潔元件，需要驅動裝置帶動滾刷旋轉，使得清潔模組的結構復雜；而本申請實施例中，第一清洗部相對不動地設于支撐架體上的，無需驅動裝置帶動第一清洗部動作，以利于簡化清潔模組的結構。第一清洗部為分布在支撐架體上的若干凸起，凸起與清潔設備的清潔元件接觸時阻力相對小，清潔模組沿清潔基站的導軌移動時所需電流值相對小，進而達到節省電能的效果。

技術研發人員：盧遙,趙立棟,胡彩云
受保護的技術使用者：北京石頭世紀科技股份有限公司
技術研發日：
技術公布日：2025/4/28