專(zhuān)利名稱(chēng)：透明電極制作方法、掩膜板以及設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及ー種透明電極制作方法、掩膜板以及設(shè)備。
背景技術(shù)：
現(xiàn)今，液晶顯示器的基板的透明電極的制作エ藝，是先在玻璃基板上成膜并在薄膜上涂布光阻，然后，透過(guò)掩膜板對(duì)光阻進(jìn)行曝光。由于掩膜板的遮擋作用，掩膜板的圖案所對(duì)應(yīng)的部分將不會(huì)被曝光，在隨后的顯影過(guò)程中，被曝光的光阻將被顯影液清洗掉，而在刻蝕過(guò)程中，有光阻保護(hù)的薄膜將保留下來(lái)，形成透明電極的圖案。但是，參閱圖I，在基板中，透明電極主要分布在顯示區(qū)域110 (AA，Active Area),因而，顯示區(qū)域110所需保留的薄膜多于非顯示區(qū)域120所需保留的薄膜。因此，在顯影過(guò)
程中，非顯示區(qū)域120的顯影液消耗得比顯示區(qū)域110多，使得非顯示區(qū)域120的顯影液的濃度低于顯示區(qū)域110的顯影液的濃度。而且，經(jīng)過(guò)擴(kuò)散作用(如圖中箭頭所示低濃度擴(kuò)散方向)，使得與非顯示區(qū)域120相接的顯示區(qū)域110的邊緣區(qū)域的顯影液的濃度低于遠(yuǎn)離非顯示區(qū)域120的顯示區(qū)域110的中心區(qū)域的顯影液的濃度，從而導(dǎo)致邊緣區(qū)域的光阻圖形的間距小于中心區(qū)域的光阻圖形的間距。同樣的情況也發(fā)生在刻蝕過(guò)程中，從而導(dǎo)致顯示區(qū)域110的邊緣區(qū)域的透明電極與顯示區(qū)域110的中心區(qū)域的透明電極的間距大小不一，進(jìn)而影響顯示效果。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明主要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供ー種透明電極制作方法、掩膜板以及設(shè)備，能夠使得成型后的整個(gè)顯示區(qū)域的透明電極的間距誤差減少，從而提高顯示效果。為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是提供ー種透明電極制作方法，包括如下步驟在玻璃基板上成膜并在薄膜上涂布光阻；透過(guò)掩膜板對(duì)所述光阻進(jìn)行曝光，其中，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成至少第一區(qū)域及第ニ區(qū)域兩個(gè)區(qū)域，所述第一區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距設(shè)置為第一間距，所述第ニ區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距設(shè)置為第二間距，并且，第一間距大于相應(yīng)的預(yù)定間距，第一間距與相應(yīng)的預(yù)定間距之間的差大于第二間距與相應(yīng)的預(yù)定間距之間的差；對(duì)曝光后的所述玻璃基板進(jìn)行顯影、刻蝕以在所述玻璃基板上形成透明電極。其中，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域以及第三區(qū)域，所述第三區(qū)域設(shè)置于所述第一區(qū)域與所述第二區(qū)域之間，并且，所述第三區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距為第一間距或第二間距，并且從外至內(nèi)第一間距所占的比例逐漸減少而第二間距所占的比例逐漸増大。其中，所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域以及所述第三區(qū)域?yàn)殚L(zhǎng)寬比一祥的矩形區(qū)域。其中，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域以及第三區(qū)域，所述第三區(qū)域設(shè)置于所述第一區(qū)域與所述第二區(qū)域之間，并且，從外至內(nèi)所述第三區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距逐漸減小。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的另ー個(gè)技術(shù)方案是提供一種掩膜板，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成至少第一區(qū)域及第ニ區(qū)域兩個(gè)區(qū)域，所述第一區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距設(shè)置為第一間距，所述第二區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距設(shè)置為第二間距，并且，第一間距大于相應(yīng)的預(yù)定間距，第一間距與相應(yīng)的預(yù)定間距之間的差大于第二間距與相應(yīng)的預(yù)定間距之間的差。其中，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域以及第三區(qū)域，所述第三區(qū)域設(shè)置于所述第一區(qū)域與所述第二區(qū)域之間，并且，所述第三區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距為第一間距或第二間距，并且從外至內(nèi)第一間距所占的比例逐漸減少而第二間距所占的比例逐漸増大。其中，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域以及第三區(qū)域，所述第三區(qū)域設(shè)置于所述第一區(qū)域與所述第二區(qū)域之間，并且，從外至內(nèi)所述第三區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距逐漸減小。為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的又一個(gè)技術(shù)方案是提供ー種透明電極制作 設(shè)備，包括顯影光源以及掩膜板，所述顯影光源產(chǎn)生顯影光線透過(guò)所述掩膜板，其中，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成至少第一區(qū)域及第ニ區(qū)域兩個(gè)區(qū)域，所述第一區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距設(shè)置為第一間距，所述第二區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距設(shè)置為第二間距，并且，第一間距大于相應(yīng)的預(yù)定間距，第一間距與相應(yīng)的預(yù)定間距之間的差大于第二間距與相應(yīng)的預(yù)定間距之間的差。其中，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域以及第三區(qū)域，所述第三區(qū)域設(shè)置于所述第一區(qū)域與所述第二區(qū)域之間，并且，所述第三區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距為第一間距或第二間距，并且從外至內(nèi)第一間距所占的比例逐漸減少而第二間距所占的比例逐漸増大。其中，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域以及第三區(qū)域，所述第三區(qū)域設(shè)置于所述第一區(qū)域與所述第二區(qū)域之間，并且，從外至內(nèi)所述第三區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距逐漸減小。本發(fā)明的有益效果是本發(fā)明采用在掩膜板設(shè)置接近非顯示區(qū)域的第一區(qū)域以及遠(yuǎn)離非顯示區(qū)域的第二區(qū)域，而第一區(qū)域中圖形的間距大于第二區(qū)域中圖形的間距，第一區(qū)域中顯影液和刻蝕液的濃度比較少，則預(yù)先設(shè)置該區(qū)域的間距較大，第一區(qū)域中顯影液和刻蝕液的濃度比較大，則預(yù)先設(shè)置該區(qū)域的間距較小，從而補(bǔ)償由于濃度差異所導(dǎo)致的間距差異，從而使得成型后的整個(gè)顯示區(qū)域的透明電極的間距誤差減少，從而提高顯示效果O


圖I是現(xiàn)有技術(shù)ー種透明電極制作方法濃度擴(kuò)散示意圖；圖2是本發(fā)明透明電極制作方法ー實(shí)施方式的流程圖；圖3是本發(fā)明透明電極制作方法ー實(shí)施方式中掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是本發(fā)明透明電極制作方法另ー實(shí)施方式中掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5是本發(fā)明透明電極制作方法再ー實(shí)施方式中掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖和具體的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。參閱 圖1，圖I是本發(fā)明透明電極制作方法ー實(shí)施方式的流程圖。透明電極制作方法包括步驟201 :在玻璃基板上成膜并在薄膜上涂布光阻。通過(guò)真空蒸鍍、濺射、分子束蒸鍍或化學(xué)蒸鍍等方法在玻璃基板上形成薄膜，然后通過(guò)光阻涂布機(jī)在薄膜上涂布光阻。步驟202 :透過(guò)掩膜板對(duì)光阻進(jìn)行曝光。將涂布電阻后的玻璃基板輸送至顯影裝置，顯影光源透過(guò)掩膜板對(duì)光阻進(jìn)行曝光。請(qǐng)ー并參閱圖3，掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分300從外至內(nèi)分成至少第一區(qū)域310及第ニ區(qū)域320兩個(gè)區(qū)域，第一區(qū)域310中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距定義為第一間距312，第二區(qū)域320中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距定義為第二間距322，并且，第ー間距312大于相應(yīng)的預(yù)定間距，第一間距312與相應(yīng)的預(yù)定間距之間的差大于第二間距322與相應(yīng)的預(yù)定間距之間的差。預(yù)定間距是指經(jīng)過(guò)顯影刻蝕后，希望得到的薄膜之間的間距。在理想狀態(tài)下，經(jīng)過(guò)顯影刻蝕后薄膜之間的間距應(yīng)與預(yù)定間距一致。步驟203 :對(duì)曝光后的玻璃基板進(jìn)行顯影、刻蝕。曝光后，將玻璃基板放入顯影液中進(jìn)行顯影，以把沒(méi)有被曝光的光阻去棹，然后將顯影后的玻璃基板取出，清洗，再送到刻蝕裝置中，加入刻蝕液以將沒(méi)有光阻的部分刻蝕棹。最后，將光阻剝離以形成基板。區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的情況，本發(fā)明采用在掩膜板設(shè)置接近非顯示區(qū)域的第一區(qū)域以及遠(yuǎn)離非顯示區(qū)域的第二區(qū)域，而第一區(qū)域中圖形的間距大于第二區(qū)域中圖形的間距，第一區(qū)域中顯影液和刻蝕液的濃度比較少，則預(yù)先設(shè)置該區(qū)域的間距較大，第一區(qū)域中顯影液和刻蝕液的濃度比較大，則預(yù)先設(shè)置該區(qū)域的間距較小，從而補(bǔ)償由于濃度差異所導(dǎo)致的間距差異，從而使得成型后的整個(gè)顯示區(qū)域的透明電極的間距誤差減少，從而提高顯示效果。請(qǐng)參閱圖4，圖4是本發(fā)明透明電極制作方法另ー實(shí)施方式中掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖。透明電極制作方法另ー實(shí)施方式與上ー實(shí)施方式基本相似，其不同之處在于，掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成第一區(qū)域310、第二區(qū)域320以及第三區(qū)域330，第三區(qū)域330設(shè)置于第一區(qū)域310與第二區(qū)域320之間，并且，第三區(qū)域330中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距為第一間距312或第二間距322，并且從外至內(nèi)第一間距312所占的比例逐漸減少而第二間距322所占的比例逐漸増大。具體地，第一區(qū)域310、第二區(qū)域320以及第三區(qū)域330以像素大小為基本単位劃分為長(zhǎng)寬比一祥的矩形區(qū)域。將第一區(qū)域310中基本単位內(nèi)的圖形的間距均定義為第一間距312，而將第二區(qū)域320中基本単位內(nèi)的圖形的間距均定義為第二間距322。第三區(qū)域330中，最接近第一區(qū)域310處設(shè)置為第一間距312的基本単位的比例接近100%，而最接近第二區(qū)域320處設(shè)置為第二間距322的基本単位的比例接近100%。在兩者之間，從外至內(nèi)，設(shè)置為第一間距312的基本単位的數(shù)目的比例逐漸減少，而設(shè)置為第二間距322的基本單位的數(shù)目的比例相應(yīng)逐漸增多。
將第三區(qū)域330的圖形的間距設(shè)置為第一間距312或第二間距322，并且從外至內(nèi)第一間距312所占的比例逐漸減少而第二間距322所占的比例逐漸増大，可以使得成型后的整個(gè)顯示區(qū)域的透明電極的間距誤差減少的同時(shí)避免出現(xiàn)過(guò)多的加工規(guī)格，減少掩膜板加工的難度，以及提高掩膜板加工的精度。參見(jiàn)圖5，圖5是本發(fā)明透明電極制作方法再ー實(shí)施方式中掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖。透明電極制作方法另ー實(shí)施方式與上ー實(shí)施方式基本相似，其不同之處在于，掩膜板的第三區(qū)域530從外至內(nèi)圖形之間的間距逐漸減小。特別地，可以設(shè)置從外至內(nèi)，圖形之間的間距分別為間距I、間距2、間距3、間距4……，而且，間距1>間距2>間距3>間距4>……。本發(fā)明還提供了一種掩膜板，具體請(qǐng)見(jiàn)圖3和圖4及相關(guān)描述，此處不再贅述。本發(fā)明還提供了ー種透明電極制作設(shè)備，包括顯影光源以及掩膜板，所述顯影光源產(chǎn)生顯影光線透過(guò)所述掩膜板，其中，掩膜板如圖3和圖4及相關(guān)描述，此處不再贅述。以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施方式，并非因此限制本發(fā)明的專(zhuān)利范圍，凡是利用本 發(fā)明說(shuō)明書(shū)及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專(zhuān)利保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種透明電極制作方法，其特征在于，包括如下步驟 在玻璃基板上成膜并在薄膜上涂布光阻； 透過(guò)掩膜板對(duì)所述光阻進(jìn)行曝光，其中，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成至少第一區(qū)域及第二區(qū)域兩個(gè)區(qū)域，所述第一區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距設(shè)置為第一間距，所述第二區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距設(shè)置為第二間距，并且，第一間距大于相應(yīng)的預(yù)定間距，第一間距與相應(yīng)的預(yù)定間距之間的差大于第二間距與相應(yīng)的預(yù)定間距之間的差； 對(duì)曝光后的所述玻璃基板進(jìn)行顯影、刻蝕以在所述玻璃基板上形成透明電極。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域以及第三區(qū)域，所述第三區(qū)域設(shè)置于所述第一區(qū)域與所述第二區(qū)域之間，并且，所述第三區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距為第一間距或第二間距，并且從外至內(nèi)第一間距所占的比例逐漸減少而第二間距所占的比例逐漸增大。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域以及所述第三區(qū)域?yàn)殚L(zhǎng)寬比一樣的矩形區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域以及第三區(qū)域，所述第三區(qū)域設(shè)置于所述第一區(qū)域與所述第二區(qū)域之間，并且，從外至內(nèi)所述第三區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距逐漸減小。
5.一種掩膜板，其特征在于，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成至少第一區(qū)域及第二區(qū)域兩個(gè)區(qū)域，所述第一區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距設(shè)置為第一間距，所述第二區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距設(shè)置為第二間距，并且，第一間距大于相應(yīng)的預(yù)定間距，第一間距與相應(yīng)的預(yù)定間距之間的差大于第二間距與相應(yīng)的預(yù)定間距之間的差。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域以及第三區(qū)域，所述第三區(qū)域設(shè)置于所述第一區(qū)域與所述第二區(qū)域之間，并且，所述第三區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距為第一間距或第二間距，并且從外至內(nèi)第一間距所占的比例逐漸減少而第二間距所占的比例逐漸增大。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域以及第三區(qū)域，所述第三區(qū)域設(shè)置于所述第一區(qū)域與所述第二區(qū)域之間，并且，從外至內(nèi)所述第三區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距逐漸減小。
8.—種透明電極制作設(shè)備，其特征在于，包括顯影光源以及掩膜板，所述顯影光源產(chǎn)生顯影光線透過(guò)所述掩膜板，其中，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成至少第一區(qū)域及第二區(qū)域兩個(gè)區(qū)域，所述第一區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距設(shè)置為第一間距，所述第二區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距設(shè)置為第二間距，并且，第一間距大于相應(yīng)的預(yù)定間距，第一間距與相應(yīng)的預(yù)定間距之間的差大于第二間距與相應(yīng)的預(yù)定間距之間的差。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的透明電極制作設(shè)備，其特征在于，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域以及第三區(qū)域，所述第三區(qū)域設(shè)置于所述第一區(qū)域與所述第二區(qū)域之間，并且，所述第三區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距為第一間距或第二間距，并且從外至內(nèi)第一間距所占的比例逐漸減少而第二間距所占的比例逐漸增大。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的透明電極制作設(shè)備，其特征在于，所述掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域以及第三區(qū)域，所述第三區(qū)域設(shè)置于所述第一區(qū)域與所述第二區(qū)域之間，并且，從外至內(nèi)所述第三區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距逐漸減小。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種透明電極制作方法、掩膜板以及設(shè)備。所述方法包括如下步驟在玻璃基板上成膜并在薄膜上涂布光阻；透過(guò)掩膜板對(duì)光阻進(jìn)行曝光，其中，掩膜板在對(duì)應(yīng)液晶面板的顯示區(qū)域部分從外至內(nèi)分成至少第一區(qū)域及第二區(qū)域兩個(gè)區(qū)域，第一區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距設(shè)置為第一間距，第二區(qū)域中透明電極所對(duì)應(yīng)的圖形的間距設(shè)置為第二間距，并且，第一間距大于相應(yīng)的預(yù)定間距，第一間距與相應(yīng)的預(yù)定間距之間的差大于第二間距與相應(yīng)的預(yù)定間距之間的差；對(duì)曝光后的玻璃基板進(jìn)行顯影、刻蝕以在玻璃基板上形成透明電極。通過(guò)上述方式，本發(fā)明能夠使得成型后的整個(gè)顯示區(qū)域的透明電極的間距誤差減少，從而提高顯示效果。
文檔編號(hào)G02F1/1343GK102866544SQ20121036368
公開(kāi)日2013年1月9日 申請(qǐng)日期2012年9月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月26日
發(fā)明者陳政鴻, 王醉 申請(qǐng)人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司