觸控彩膜基板及其制作方法、顯示面板和顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發明公開了一種觸控彩膜基板及其制作方法、顯示面板和顯示裝置，在基板上形成有第一導電層，所述第一導電層的圖案與所述基板上的黑矩陣(BM)的圖案相同；在形成有第一導電層的所述基板上形成有第一絕緣層，所述第一絕緣層的顯示區域圖案與第一導電層的顯示區域圖案相同。通過本發明，能夠提高液晶顯示器(LCD)的透過率，降低制作LCD的工藝復雜性，并能夠有效屏蔽LCD對表面電容所帶來的信號干擾。
【專利說明】觸控彩膜基板及其制作方法、顯示面板和顯示裝置

【技術領域】
[0001]本發明涉及液晶顯示【技術領域】，尤其涉及一種觸控彩膜基板及其制作方法、顯示面板和顯示裝置。

【背景技術】
[0002]液晶顯示器為目前主流的平板顯示器。液晶面板的觸摸功能實現通常包括In-Cell和On-Cell這兩種方法，In-Cell是指將觸摸面板功能嵌入到液晶像素中的方法，On-Cell是指將觸摸面板功能嵌入到彩膜基板和偏振片之間的方法。
[0003]現有技術中，針對薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-1XD)的常規On-Cell表面電容式結構如圖1所示，101表示偏振片，103表示基板(即用于制作的彩膜基板的基板，可以是玻璃基板或塑料基板)，在上玻璃基板103上形成有黑矩陣104、彩膜層105、公共電極層106、取向層107，并且在偏振片101和基板103之間有一層導電層102，導電層102作為彩膜基板的電容傳感器(Capacitive sensor);當用戶手指放在偏振片101上時，由于人體電場，用戶手指與工作面之間形成一個耦合電容Cf ;另外，109表示陣列(array)基板，陣列基板109外側也有偏振片101 ;在陣列基板109和彩膜基板之間填充有液晶108。導電層102的材料通常為氧化銦錫(ΙΤ0，Indium Tin Oxide)。
[0004]現有的常規On-Cell表面電容式結構，是在彩膜基板的表面制作一整面導電層102，整面的導電層102會影響LCD的透過率；而且由于導電層102制作在彩膜基板的外表面，與彩膜基板的制作工序不在同一側，因此需要用到基板翻轉工藝，這增加了工藝復雜性。


【發明內容】

[0005]有鑒于此，本發明的主要目的在于提供一種觸控彩膜基板及其制作方法、顯示面板和顯示裝置，以提高IXD的透過率，降低制作IXD的工藝復雜性。
[0006]為達到上述目的，本發明的技術方案是這樣實現的:
[0007]—種觸控彩膜基板，在基板上形成有第一導電層，所述第一導電層的圖案與所述基板上的黑矩陣BM的圖案相同；在形成有第一導電層的所述基板上形成有第一絕緣層，所述第一絕緣層的顯示區域圖案與所述第一導電層的顯示區域圖案相同。
[0008]在形成有所述第一絕緣層的所述基板上形成有所述BM，且所述BM和所述第一導電層、所述第一絕緣層位于所述基板的同側。
[0009]在形成有所述第一絕緣層的所述基板上形成有第二導電層，所述第二導電層接公共地；且在形成有所述第二導電層的所述基板上形成有第二絕緣層；且所述第二導電層的顯示區域圖案與所述第一導電層的顯示區域圖案相同；所述第二絕緣層的顯示區域圖案與所述第一導電層的顯示區域圖案相同。
[0010]在形成有所述第二絕緣層的基板上形成有所述BM，且所述BM和所述第一導電層、所述第一絕緣層、所述第二導電層、所述第二絕緣層位于所述基板的同側。
[0011]一種顯示面板，包括本發明所述的觸控彩膜基板。
[0012]一種顯示裝置，包括本發明所述的顯示面板。
[0013]一種觸控彩膜基板的制作方法，該方法包括:
[0014]采用與制作黑矩陣BM相同的掩膜板，在基板上制作形成第一導電層；
[0015]在形成有第一導電層的基板上制作形成第一絕緣層；
[0016]所述第一絕緣層的顯示區域圖案與所述第一導電層的顯示區域圖案相同。
[0017]在制作形成第一絕緣層后，該方法還包括:
[0018]在形成有第一絕緣層的基板上，采用制作BM的掩膜板制作形成所述BM。
[0019]在制作形成第一絕緣層后，該方法還包括:
[0020]在形成有第一絕緣層的基板上制作形成第二導電層，所述第二導電層接公共地，并在形成有第二導電層的基板上制作形成第二絕緣層；
[0021]所述第二導電層的顯示區域圖案與所述第一導電層的顯示區域圖案相同；
[0022]所述第二絕緣層的顯示區域圖案與所述第一導電層的顯示區域圖案相同。
[0023]在制作形成第二絕緣層后，該方法還包括:
[0024]在形成有第二絕緣層的基板上，采用制作BM的掩膜板制作形成所述BM。
[0025]本發明所提供的一種觸控彩膜基板及其制作方法、顯示面板和顯示裝置，制作與BM圖案相同的第一導電層,且第一導電層制作在彩膜基板的內側,這樣既不會影響LCD的顯示效果，也省去了翻轉工藝，從而能夠降低制作LCD的工藝復雜性；另外，不再整面制作導電層，也能夠提高LCD的透過率；再有，制作形成的第二導電層還能夠有效屏蔽LCD對表面電容所帶來的信號干擾。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0026]圖1為現有技術中TFT-1XD的常規On-Cell表面電容式結構示意圖；
[0027]圖2為本發明實施例的一種彩膜基板的電容式制作方法的流程圖；
[0028]圖3為本發明實施例的另一種彩膜基板的電容式制作方法的流程圖；
[0029]圖4為本發明實施例的一種彩膜基板的結構示意圖。
[0030]附圖標記說明:
[0031]101偏振片；102導電層；103上基板；104黑矩陣；105彩膜層；106公共電極層；107取向層；108 液晶；109陣列基板；1021第一導電層；1022第二導電層；1101第一絕緣層；1102第二絕緣層。

【具體實施方式】
[0032]下面結合附圖和具體實施例對本發明的技術方案進一步詳細闡述。
[0033]本發明實施例提供一種觸控彩膜基板的制作方法，如圖2所示，該方法主要包括:
[0034]步驟201，采用與制作黑矩陣(BM)相同的掩膜板，在基板上制作形成第一導電層。
[0035]用于制作彩膜(CF)基板的基板可以是玻璃基板或塑料基板。在用于制作彩膜(CF)的基板上，采用與制作BM相同的掩膜板，制作形成第一導電層。也就是說，制作第一導電層和制作BM時所采用的掩膜板為相同的掩膜板，那么在觸控彩膜基板上形成的第一導電層和BM的圖案是相同的。第一導電層是作為觸控彩膜基板的電容傳感器(Capacitivesensor)，其材料可以是ITO，當然，本發明實施例的第一導電層并非僅限于ITO這一種材料，其他可以用作觸控彩膜基板上Capacitive sensor的材料也都屬于本發明實施例的保護范圍。
[0036]步驟202，在形成有第一導電層的基板上制作形成第一絕緣層。
[0037]第一絕緣層的材料可以是二氧化硅(S12),當然，本發明實施例的第一絕緣層并非僅限于S12這一種材料，其他可以用作彩膜基板上絕緣層的材料也都屬于本發明實施例的保護范圍。制作形成的第一絕緣層需保證其顯示區域圖案與第一導電層的顯示區域圖案相同，只是第一絕緣層的周邊焊接(bonding)區域需要挖空，以便于第一導電層引出。
[0038]隨后，在形成有第一絕緣層的基板上，采用制作BM的掩膜板制作形成BM，后續工序與制作彩膜基板的正常工序相同，此處不再贅述。
[0039]作為本發明的一種較佳實施例，如圖3所示，在步驟202之后，還包括:
[0040]步驟203，在形成有第一絕緣層的基板上制作形成第二導電層，所述第二導電層接公共地(比如觸控屏的金屬框)。
[0041]制作形成的第二導電層需保證其顯示區域圖案與第一導電層的顯示區域圖案相同，在第二導電層的周邊引線區域能連接一根用于接公共地的引線即可。
[0042]第二導電層可以是ΙΤ0，也可以是其他導電材料。
[0043]步驟204，在形成有第二導電層的基板上制作形成第二絕緣層。
[0044]制作形成的第二絕緣層需保證其顯示區域圖案與第一導電層的顯示區域圖案相同，第二絕緣層中除顯示區域的其他區域能夠保證第二導電層和公共電極層無接觸，且保證第一導電層的信號引出即可。
[0045]第二絕緣層可以是S12,也可以是其他絕緣材料。
[0046]隨后，在形成有第二絕緣層的基板上，采用制作BM的掩膜板制作形成BM，后續工序與制作彩膜基板的正常工序相同，此處不再贅述。
[0047]對應圖2所示的方法，本發明實施例提供的一種觸控彩膜基板，在制作彩膜基板的基板上形成有第一導電層，所述第一導電層的圖案與所述基板上的BM的圖案相同，在形成有第一導電層的所述基板上形成有第一絕緣層，所述第一絕緣層的顯示區域圖案與第一導電層的顯示區域圖案相同。在形成有所述第一絕緣層的所述基板上形成有所述BM，且所述BM和所述第一導電層、第一絕緣層位于所述基板的同側。
[0048]對應圖3所示的方法，本發明實施例提供的另一種觸控彩膜基板，如圖4所示，101表示偏振片，103表示上基板(即用于制作的彩膜基板的基板，可以是玻璃基板或塑料基板)，上基板103上形成有第一導電層1021，所述第一導電層1021是通過制作BM的掩膜板制作形成的，第一導電層1021上形成有第一絕緣層1101，在第一絕緣層1101上形成有第二導電層1022，在第二導電層1022上形成有第二絕緣層1102，在第二絕緣層1102上形成有黑矩陣104，其中，黑矩陣104的圖案與第一導電層1021的圖案相同，黑矩陣104與第一導電層1021、第一絕緣層1101、第二導電層1022、第二絕緣層1102都位于上基板103的同一側。另外，在上基板103上還有通過制作彩膜基板的正常工序所形成的各層，如:彩膜層105、公共電極層106、取向層107等等。彩膜基板與陣列基板109對盒，中間填充液晶108。且第二導電層1022的顯示區域圖案與第一導電層1021的顯示區域圖案相同；第二絕緣層1102的顯示區域圖案與所述第一導電層1021的顯示區域圖案相同。
[0049]本發明實施例制作與BM圖案相同的第一導電層1021，且第一導電層1021制作在彩膜基板的內側，這樣既不會影響LCD的顯示效果，也省去了翻轉工藝，從而能夠降低制作LCD的工藝復雜性；另外，不再整面制作導電層，也能夠提高LCD的透過率；再有，制作形成的第二導電層還能夠有效屏蔽LCD對表面電容所帶來的信號干擾。
[0050]另外，采用本發明實施例所述觸控彩膜基板的顯示面板、以及采用所述顯示面板的顯示裝置應當都屬于本發明實施例的保護范圍。
[0051]以上所述，僅為本發明的較佳實施例而已，并非用于限定本發明的保護范圍。
【權利要求】
1.一種觸控彩膜基板，其特征在于，在基板上形成有第一導電層，所述第一導電層的圖案與所述基板上的黑矩陣BM的圖案相同；在形成有第一導電層的所述基板上形成有第一絕緣層，所述第一絕緣層的顯示區域圖案與所述第一導電層的顯示區域圖案相同。
2.根據權利要求1所述觸控彩膜基板，其特征在于，在形成有所述第一絕緣層的所述基板上形成有所述BM，且所述BM和所述第一導電層、所述第一絕緣層位于所述基板的同側。
3.根據權利要求1所述觸控彩膜基板，其特征在于，在形成有所述第一絕緣層的所述基板上形成有第二導電層，所述第二導電層接公共地；且在形成有所述第二導電層的所述基板上形成有第二絕緣層；且所述第二導電層的顯示區域圖案與所述第一導電層的顯示區域圖案相同；所述第二絕緣層的顯示區域圖案與所述第一導電層的顯示區域圖案相同。
4.根據權利要求1所述觸控彩膜基板，其特征在于，在形成有所述第二絕緣層的所述基板上形成有所述BM，且所述BM和所述第一導電層、所述第一絕緣層、所述第二導電層、所述第二絕緣層位于所述基板的同側。
5.一種顯示面板，其特征在于，包括權利要求1至4任一項所述的觸控彩膜基板。
6.一種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求5所述的顯示面板。
7.—種觸控彩膜基板的制作方法，其特征在于，該方法包括: 采用與制作黑矩陣BM相同的掩膜板，在基板上制作形成第一導電層； 在形成有第一導電層的基板上制作形成第一絕緣層； 所述第一絕緣層的顯示區域圖案與所述第一導電層的顯示區域圖案相同。
8.根據權利要求7所述觸控彩膜基板制作方法，其特征在于，在制作形成第一絕緣層后，該方法還包括: 在形成有第一絕緣層的基板上，采用制作BM的掩膜板制作形成所述BM。
9.根據權利要求7所述觸控彩膜基板的制作方法，其特征在于，在制作形成第一絕緣層后，該方法還包括: 在形成有第一絕緣層的基板上制作形成第二導電層，所述第二導電層接公共地，并在形成有第二導電層的基板上制作形成第二絕緣層； 所述第二導電層的顯示區域圖案與所述第一導電層的顯示區域圖案相同； 所述第二絕緣層的顯示區域圖案與所述第一導電層的顯示區域圖案相同。
10.根據權利要求9所述觸控彩膜基板的制作方法，其特征在于，在制作形成第二絕緣層后，該方法還包括: 在形成有第二絕緣層的基板上，采用制作BM的掩膜板制作形成所述BM。
【文檔編號】G02F1/1335GK104049403SQ201310076903
【公開日】2014年9月17日 申請日期:2013年3月11日 優先權日:2013年3月11日
【發明者】劉英明, 王海生, 楊盛際, 劉紅娟 申請人:北京京東方光電科技有限公司