技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種圖像形成裝置，其具備使圖像載體曝光的曝光裝置。該曝光裝置具有：發(fā)光元件陣列，包含排列在第一方向且各自發(fā)出光的多個(gè)發(fā)光元件；以及透鏡陣列，在與所述第一方向正交的第二方向上，與所述發(fā)光元件陣列對(duì)向配置，分別使由所述多個(gè)發(fā)光元件各自發(fā)出的多份所述光成像，滿足下列式（1）和式（2）。其中，L0是透鏡陣列的焦距，L1是透鏡陣列與發(fā)光元件陣列的距離，L2是透鏡陣列與圖像載體的距離。175μm≤L0?L1≤250μm?……（1）175μm≤L0?L2≤250μm?……（2）。

技術(shù)研發(fā)人員：兼藤大志
受保護(hù)的技術(shù)使用者：日本沖信息株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.20
技術(shù)公布日：2017.07.28