本發(fā)明涉及用于確定投影系統(tǒng)的一個(gè)或更多個(gè)像差的方法以及相對(duì)應(yīng)的系統(tǒng)。所述投影系統(tǒng)可以是光刻設(shè)備的投影系統(tǒng)。本發(fā)明也涉及一種用于確定校準(zhǔn)數(shù)據(jù)的校準(zhǔn)方法，所述校準(zhǔn)數(shù)據(jù)表征以下各項(xiàng)之間的任何差：在對(duì)象級(jí)處使用漫射光柵所確定的投影系統(tǒng)的像差，和在對(duì)象級(jí)處使用反射鏡光柵所確定的投影系統(tǒng)的像差。

背景技術(shù)：

1、光刻設(shè)備是被構(gòu)造以將期望的圖案施加至襯底上的機(jī)器。光刻設(shè)備可以例如用于制造集成電路（ic）。例如，光刻設(shè)備可以將圖案形成裝置（例如，掩模）處的圖案投影至設(shè)置在襯底上的輻射敏感材料（抗蝕劑）層上。

2、是在襯底上投影圖案，光刻設(shè)備可以使用電磁輻射。這種輻射的波長(zhǎng)確定可以在襯底上形成的特征的最小大小。較的使用例如具有193?nm的波長(zhǎng)的輻射的光刻設(shè)備，可以使用一種使用極紫外（euv）輻射（具有在4?nm至20?nm范圍內(nèi)的波長(zhǎng)，例如6.7?nm或13.5nm）的光刻設(shè)備來(lái)在襯底上形成較小特征。

3、使用投影系統(tǒng)將已由所述圖案形成裝置圖案化的輻射聚焦至襯底上。所述投影系統(tǒng)可能引入光學(xué)像差，所述光學(xué)像差使得被形成在襯底上的圖像偏離期望的圖像（例如，所述圖案形成裝置的衍射受限圖像）。

4、可能期望提供用于準(zhǔn)確地確定由投影系統(tǒng)引起的這樣的像差使得可以更好地控制這些像差的方法和設(shè)備。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、根據(jù)本公開內(nèi)容的第一方面，提供了一種確定投影系統(tǒng)的一個(gè)或更多個(gè)像差的方法，所述方法包括：執(zhí)行相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程，所述相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程包括：利用照射輻射來(lái)照射第一圖案形成裝置，其中所述第一圖案形成裝置包括鏡面衍射光柵，所述鏡面衍射光柵被布置成形成多個(gè)第一衍射束，所述第一衍射束在剪切方向上被分離開；利用所述投影系統(tǒng)將所述多個(gè)第一衍射束的至少一部分投影至傳感器設(shè)備上，所述傳感器設(shè)備包括：第二圖案形成裝置，所述第二圖案形成裝置被布置成接收來(lái)自所述投影系統(tǒng)的所述第一衍射束并且從所述第一衍射束中的每個(gè)形成多個(gè)第二衍射束；和輻射檢測(cè)器，所述輻射檢測(cè)器被布置成接收所述第二衍射束的至少一部分；和使所述第一圖案形成裝置和所述第二圖案形成裝置中的至少一個(gè)在所述剪切方向上移動(dòng)，使得由所述輻射檢測(cè)器的接收輻射的每個(gè)部分所接收的輻射強(qiáng)度依據(jù)在所述剪切方向上的所述移動(dòng)而變化，以便形成振蕩信號(hào)；以及根據(jù)由所述輻射檢測(cè)器的接收輻射的每個(gè)部分所確定的振蕩信號(hào)來(lái)確定所述投影系統(tǒng)的一個(gè)或更多個(gè)像差。

2、應(yīng)了解，鏡面衍射光柵旨在意味著包括反射部分和輻射吸收部分的圖案的反射衍射光柵，其中來(lái)自反射部分的反射主要是鏡面反射或正反射。換句話說(shuō)，鏡面衍射光柵旨在意味著引起入射到其上的輻射的最小漫射的反射衍射光柵。應(yīng)了解，上述情形可以通過(guò)確保鏡面衍射光柵的反射部分足夠平滑來(lái)實(shí)現(xiàn)。具體地，與鏡面衍射光柵在使用中散射的照射輻射的波長(zhǎng)相比，鏡面衍射光柵的反射部分的任何缺陷或表面粗糙度可以較小。

3、應(yīng)了解，所述方法具有剪切干涉測(cè)量術(shù)的形式。

4、根據(jù)第一方面的方法可以適用于光刻設(shè)備內(nèi)。所述第一圖案形成裝置可以被設(shè)置在掩模版級(jí)處（即，在光刻設(shè)備的物平面中），并且所述傳感器設(shè)備可以被設(shè)置在晶片級(jí)處（即，在光刻設(shè)備的像平面中）。具體地，根據(jù)第一方面的方法可以適用于極紫外（euv）光刻設(shè)備內(nèi)。即，所述照射輻射可以包括euv輻射。

5、在光刻過(guò)程期間，使用投影系統(tǒng)，使用輻射在襯底（諸如例如，涂覆有抗蝕劑的晶片）上形成通常衍射受限圖像。實(shí)際上，投影系統(tǒng)將不會(huì)形成完美的圖像，而是將會(huì)受到一定程度的像差的影響。這樣的像差表示從球面波前接近所述投影系統(tǒng)的像平面中的點(diǎn)的光的波前的變形（并且通常可以依賴于光瞳平面中的位置，或替代地依賴于輻射接近投影系統(tǒng)的像平面的角度）。期望最小化像差，并且因此期望執(zhí)行對(duì)所述像差的測(cè)量，其可以用作反饋回路的一部分以盡可能使像差最小化。

6、對(duì)已知的euv光刻設(shè)備的投影系統(tǒng)的像差測(cè)量通常使用與在光刻過(guò)程期間用于對(duì)晶片的曝光的輻射相同的（euv）輻射來(lái)進(jìn)行像差測(cè)量。上述情形顯然是有利的，因?yàn)槠谕麥y(cè)量并且最小化利用euv輻射進(jìn)行成像時(shí)所引起的像差（因?yàn)檫@些像差影響在晶片上所形成的圖像）。然而，輻射經(jīng)由照射系統(tǒng)被提供至光刻設(shè)備的掩模版級(jí)，所述照射系統(tǒng)被布置成優(yōu)化euv輻射在掩模版級(jí)處的角分布以用于光刻成像性能。具體地，雖然已知的euv光刻設(shè)備允許將euv輻射在掩模版級(jí)處的角分布（其可以被稱為照射模式）控制至一定程度，但其不允許均勻的光瞳填充照射（即，利用均勻的輻射錐體對(duì)掩模版級(jí)處的每個(gè)場(chǎng)點(diǎn)進(jìn)行的照射）。所述照射系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)的照射模式將不會(huì)探測(cè)所述投影系統(tǒng)的整個(gè)光瞳平面。因此，已知的euv光刻設(shè)備的投影系統(tǒng)的像差的測(cè)量通常使用漫反射光柵作為第一圖案形成裝置（在掩模版級(jí)處）。漫反射光柵被布置成填充所述投影系統(tǒng)的整個(gè)光瞳平面，以使得在像差測(cè)量期間探測(cè)整個(gè)投影系統(tǒng)。

7、然而，本發(fā)明的發(fā)明人已認(rèn)識(shí)到，這樣的漫反射衍射光柵可以在對(duì)一些像差（例如投影系統(tǒng)的像差映射中的一些澤尼克階的振幅）的測(cè)量中引入顯著誤差。通常，通過(guò)形成應(yīng)用一種反射光柵圖案的粗糙表面而形成用于像差測(cè)量系統(tǒng)的漫反射光柵。例如，可以將均勻的反射層施加至所述粗糙表面，并且在所述反射層上方形成輻射吸收部分的圖案。然而，本發(fā)明的發(fā)明人已認(rèn)識(shí)到，使用漫反射衍射光柵而執(zhí)行的像差測(cè)量依賴于被用于引起漫射的特定粗糙表面。

8、然而，雖然本領(lǐng)域中存在應(yīng)使用漫射來(lái)完全探測(cè)所述投影系統(tǒng)的強(qiáng)烈偏見，但本發(fā)明的發(fā)明人已得出令人驚訝的認(rèn)識(shí)即，使用鏡面衍射光柵進(jìn)行的測(cè)量可以提供改善的像差測(cè)量，至少對(duì)于一些像差（即，澤尼克階）。具體地，甚至當(dāng)使用可以由已知的光刻系統(tǒng)的照射系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)的照射模式（例如，具有大約20%的照射光瞳填充）時(shí)，與使用已知的漫射光柵相比，鏡面衍射光柵的使用也可以提供更佳的像差測(cè)量，至少對(duì)于某些像差（即，澤尼克階）。

9、在掩模版級(jí)處使用鏡面衍射光柵進(jìn)行像差測(cè)量的另一優(yōu)點(diǎn)是可能更容易地將這樣的鏡面衍射光柵設(shè)置在掩模版上。雖然原則上可以在掩模版上形成漫反射光柵，但實(shí)際上，這樣的布置將會(huì)最可能是不實(shí)用的并且目前不是標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐（并且甚至可能不可行）。因此，目前，標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐做法是將漫反射光柵設(shè)置在掩模版平臺(tái)上的別處，諸如基準(zhǔn)件等上。然而，如果可以使用掩模版上的鏡面衍射光柵來(lái)執(zhí)行像差測(cè)量，則可以在像差測(cè)量中顯著節(jié)省時(shí)間。例如，目前，在將襯底的目標(biāo)區(qū)曝光于由掩模版所圖案化的輻射之后，為了執(zhí)行像差測(cè)量，應(yīng)移動(dòng)所述掩模版平臺(tái)，以使得基準(zhǔn)件（而不是掩模版）接收來(lái)自照射系統(tǒng)的euv輻射。此外，在這樣的像差測(cè)量之后，為了將襯底的目標(biāo)區(qū)曝光于由掩模版所圖案化的輻射，應(yīng)移動(dòng)掩模版平臺(tái)，以使得掩模版（而不是基準(zhǔn)件）接收來(lái)自照射系統(tǒng)的euv輻射。然而，如果被用于像差測(cè)量的鏡面衍射光柵可以被設(shè)置在所述掩模版上，則將會(huì)節(jié)省大量時(shí)間，因?yàn)檠谀０嫫脚_(tái)將不需要在對(duì)襯底的曝光與像差測(cè)量之間移動(dòng)那么遠(yuǎn)。此外，利用來(lái)自根據(jù)第一方面的方法的像差測(cè)量，低階澤尼克系數(shù)（諸如例如z2、z3和z4）可以被用于掩模版對(duì)準(zhǔn)。有利地，這可以意味著額外的傳感器（再次設(shè)置在掩模版平臺(tái)上的別處）可以不再需要被用于掩模版對(duì)準(zhǔn)。

10、所述方法可以包括：執(zhí)行多個(gè)相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程，使用不同的照射模式來(lái)執(zhí)行所述多個(gè)相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程中的每個(gè)，使得所述輻射檢測(cè)器的不同部分在所述多個(gè)相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程中的不同過(guò)程期間接收輻射，但所述多個(gè)相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程中的每個(gè)在其它方面中與其它相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程相似；并且其中確定所述投影系統(tǒng)的一個(gè)或更多個(gè)像差的步驟可以包括使用由所述輻射檢測(cè)器的接收輻射的每個(gè)部分根據(jù)所述多個(gè)相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程中的任一個(gè)所確定的所述振蕩信號(hào)。

11、有利地，通過(guò)執(zhí)行多個(gè)不同的相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程，每個(gè)過(guò)程使用不同的照射模式，每個(gè)不同的相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程可以探測(cè)所述投影系統(tǒng)光瞳平面的不同部分。應(yīng)注意，并不針對(duì)每個(gè)單獨(dú)的相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程來(lái)確定像差或像差映射并且然后將其組合。相反，使用所有多個(gè)相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程來(lái)確定像差或像差映射。有利地，這樣的實(shí)施例允許對(duì)所述投影系統(tǒng)的像差進(jìn)行更高分辨率測(cè)量。

12、所述方法還可以包括：執(zhí)行額外的相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程，使用擴(kuò)散衍射光柵作為所述第一圖案形成裝置來(lái)執(zhí)行所述額外的相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程，但在其它方面與所述或每個(gè)其它相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程相似；根據(jù)由所述輻射檢測(cè)器的在所述額外的相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程期間接收輻射的每個(gè)部分所確定的所述振蕩信號(hào)來(lái)確定所述投影系統(tǒng)的一個(gè)或更多個(gè)額外的像差；以及確定表征以下各項(xiàng)之間的任何差的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)：（a）所述投影系統(tǒng)的所確定的一個(gè)或更多個(gè)像差；和（b）所述投影系統(tǒng)的所確定的一個(gè)或更多個(gè)額外的像差。

13、這樣的布置可以利用產(chǎn)生校準(zhǔn)數(shù)據(jù)，所述校準(zhǔn)數(shù)據(jù)可以在后續(xù)測(cè)量中被用于校正使用擴(kuò)散衍射光柵作為所述第一圖案形成裝置而產(chǎn)生的投影系統(tǒng)的額外的像差。有利地，這可以允許使用這樣的擴(kuò)散衍射光柵作為第一圖案形成裝置的一些像差（例如，所述投影系統(tǒng)的像差映射中的一些澤尼克階的振幅）的測(cè)量中的潛在顯著誤差被校正移除。這可以允許使用擴(kuò)散衍射光柵作為第一圖案形成裝置來(lái)進(jìn)行后續(xù)像差測(cè)量，這有利地可以使得后續(xù)像差測(cè)量更快，潛在增加所述光刻設(shè)備的吞吐量。

14、所述方法還可以包括將所確定的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)儲(chǔ)存在存儲(chǔ)器中。

15、根據(jù)本公開內(nèi)容的第二方面，提供了一種校準(zhǔn)方法，所述方法包括：使用對(duì)象級(jí)鏡面衍射光柵執(zhí)行相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程，以便產(chǎn)生一個(gè)或更多個(gè)振蕩信號(hào)；根據(jù)所述一個(gè)或更多個(gè)振蕩信號(hào)確定所述投影系統(tǒng)的一個(gè)或更多個(gè)像差；使用對(duì)象級(jí)擴(kuò)散衍射光柵執(zhí)行額外的相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程，以便產(chǎn)生一個(gè)或更多個(gè)額外的振蕩信號(hào)；根據(jù)所述一個(gè)或更多個(gè)額外的振蕩信號(hào)確定所述投影系統(tǒng)的一個(gè)或更多個(gè)額外的像差；以及確定表征以下各項(xiàng)之間的任何差的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)：（a）所述投影系統(tǒng)的所確定的一個(gè)或更多個(gè)像差；和（b）所述投影系統(tǒng)的所確定的一個(gè)或更多個(gè)額外的像差。

16、這樣的布置允許產(chǎn)生校準(zhǔn)數(shù)據(jù)，所述校準(zhǔn)數(shù)據(jù)可以在后續(xù)測(cè)量中被用于校正使用擴(kuò)散衍射光柵作為第一圖案形成裝置而產(chǎn)生的所述投影系統(tǒng)的額外的像差。有利地，這可以允許使用這樣的擴(kuò)散衍射光柵作為所述第一圖案形成裝置的一些像差（例如，投影系統(tǒng)的像差映射中的一些澤尼克階的振幅）的測(cè)量中的潛在顯著誤差被校正移除。這可以允許使用擴(kuò)散衍射光柵作為第一圖案形成裝置來(lái)進(jìn)行后續(xù)像差測(cè)量，這有利地可以使得后續(xù)像差測(cè)量更快，潛在地增加所述光刻設(shè)備的吞吐量。

17、所述方法還可以包括：執(zhí)行后續(xù)相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程，使用所述擴(kuò)散衍射光柵作為所述第一圖案形成裝置來(lái)執(zhí)行所述后續(xù)相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程，但所述后續(xù)相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程在其它方面與所述或每個(gè)其它相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程相似；根據(jù)由所述輻射檢測(cè)器的在所述后續(xù)相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程期間接收輻射的每個(gè)部分所確定的所述振蕩信號(hào)來(lái)確定所述投影系統(tǒng)的一個(gè)或更多個(gè)原始后續(xù)像差；以及根據(jù)所述投影系統(tǒng)的所述一個(gè)或更多個(gè)原始后續(xù)像差和所述校準(zhǔn)數(shù)據(jù)確定一個(gè)或更多個(gè)經(jīng)校正的后續(xù)像差。

18、所述照射輻射可以包括極紫外輻射。

19、所述第一圖案形成裝置可以設(shè)置在基準(zhǔn)件上。

20、所述第一圖案形成裝置可以設(shè)置在掩模版上。

21、根據(jù)由輻射檢測(cè)器的接收輻射的每個(gè)部分所確定的振蕩信號(hào)確定所述投影系統(tǒng)的一個(gè)或更多個(gè)像差、所述投影系統(tǒng)的一個(gè)或更多個(gè)額外的像差、或所述投影系統(tǒng)的一個(gè)或更多個(gè)原始后續(xù)像差中的任一個(gè)，可以根據(jù)需要或要求包括任何已知的剪切干涉測(cè)量技術(shù)。例如，對(duì)這些像差中的任一種的確定可以包括wo2019/149468中所披露的任何技術(shù)，其內(nèi)容由此以全文引用的方式而被合并入本文中。為了避免疑問(wèn)，對(duì)這些像差中任何相差的確定可以包括wo2019/149468中作為現(xiàn)有技術(shù)而被披露的任何技術(shù)和/或由wo2019/149468所教導(dǎo)的任何技術(shù)。

22、任何相位步進(jìn)或相位掃描過(guò)程還可以包括：利用照射輻射來(lái)照射所述第一圖案形成裝置，其中，所述第一圖案形成裝置包括鏡面衍射光柵，所述鏡面衍射光柵被布置成形成多個(gè)第一衍射束，所述第一衍射束在第二剪切方向上被分離開；利用所述投影系統(tǒng)將所述多個(gè)第一衍射束的至少一部分投影至所述傳感器設(shè)備上；以及使所述第一圖案形成裝置和所述第二圖案形成裝置中的至少一個(gè)在所述第二剪切方向上移動(dòng)，使得由所述輻射檢測(cè)器的接收輻射的每個(gè)部分所接收的輻射強(qiáng)度依據(jù)在所述第二剪切方向上的所述移動(dòng)而變化，以便形成振蕩信號(hào)。

23、例如，所述第一圖案形成裝置可以包括：第一部分，所述第一部分被布置成在剪切方向上剪切所述照射輻射；和第二部分，所述第二部分被布置成在第二剪切方向上剪切所述照射輻射。在照射所述第一圖案形成裝置的所述第一部分期間，使所述第一圖案形成裝置和所述第二圖案形成裝置中的至少一個(gè)在剪切方向上步進(jìn)。這產(chǎn)生第一相位步進(jìn)數(shù)據(jù)，所述第一相位步進(jìn)數(shù)據(jù)至少在階上可以與剪切方向上的像差映射的梯度相關(guān)。在照射所述第一圖案形成裝置的所述第二部分期間，使所述第一圖案形成裝置和所述第二圖案形成裝置中的至少一個(gè)在第二剪切方向上步進(jìn)。這產(chǎn)生第二相位步進(jìn)數(shù)據(jù)，所述第二相位步進(jìn)數(shù)據(jù)至少在一階處可以與第二剪切方向上的像差映射的梯度相關(guān)。組合第一相位步進(jìn)數(shù)據(jù)和第二相位步進(jìn)數(shù)據(jù)以確定所述投影系統(tǒng)的一個(gè)或更多個(gè)像差。可以組合第一相位步進(jìn)數(shù)據(jù)和第二相位步進(jìn)數(shù)據(jù)以確定所述投影系統(tǒng)的像差（或相對(duì)相位）映射。

24、根據(jù)由所述輻射檢測(cè)器的接收輻射的每個(gè)部分所確定的所述振蕩信號(hào)來(lái)確定所述投影系統(tǒng)的所述一個(gè)或更多個(gè)像差、所述投影系統(tǒng)的所述一個(gè)或更多個(gè)額外的像差或所述投影系統(tǒng)的所述一個(gè)或更多個(gè)原始后續(xù)像差中的任一種可以包括：使由所述輻射檢測(cè)器的接收輻射的每個(gè)部分所接收的所述振蕩信號(hào)的諧波的相位等于所述投影系統(tǒng)的光瞳平面中的一對(duì)位置之間的至少一個(gè)像差映射差的總和。

25、所述振蕩信號(hào)的諧波可以是所述振蕩信號(hào)的一次諧波。

26、根據(jù)本公開內(nèi)容的第三方面，提供了一種承載計(jì)算機(jī)程序的計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，所述計(jì)算機(jī)程序包括被配置成導(dǎo)致計(jì)算機(jī)實(shí)施根據(jù)本公開內(nèi)容的第一方面或本公開內(nèi)容的第二方面的方法的計(jì)算機(jī)可讀指令。

27、根據(jù)本公開內(nèi)容的第四方面，提供了一種計(jì)算機(jī)設(shè)備，所述計(jì)算機(jī)設(shè)備包括：儲(chǔ)存處理器可讀指令的存儲(chǔ)器，和被布置成讀取并且執(zhí)行被儲(chǔ)存在所述存儲(chǔ)器中的指令的處理器，其中所述處理器可讀指令包括被布置成控制計(jì)算機(jī)實(shí)施根據(jù)本公開內(nèi)容的第一方面或本公開內(nèi)容的第二方面的方法的指令。

28、根據(jù)本公開內(nèi)容的第五方面，提供了一種用于確定投影系統(tǒng)的一個(gè)或更多個(gè)像差的測(cè)量系統(tǒng)，所述測(cè)量系統(tǒng)包括：第一圖案形成裝置，其中所述第一圖案形成裝置包括鏡面衍射光柵；傳感器設(shè)備，所述傳感器設(shè)備包括第二圖案形成裝置和輻射檢測(cè)器，所述第一圖案形成裝置和所述傳感器設(shè)備能夠被定位成使得所述投影系統(tǒng)能夠利用照射輻射在所述第二圖案形成裝置上形成所述第一圖案形成裝置的圖像，并且使得所述輻射檢測(cè)器被布置成在所述照射輻射已傳遞穿過(guò)所述第二圖案形成裝置之后接收所述照射輻射；定位設(shè)備，所述定位設(shè)備被配置成移動(dòng)所述第一圖案形成裝置和所述傳感器設(shè)備中的至少一個(gè)；以及控制器，所述控制器被配置成：控制所述定位設(shè)備以使所述第一圖案形成裝置和所述傳感器設(shè)備中的至少一個(gè)在剪切方向上移動(dòng)，使得由所述輻射檢測(cè)器的每個(gè)部分接收的輻射強(qiáng)度依據(jù)在所述剪切方向上的所述移動(dòng)而變化，以便形成振蕩信號(hào)；從所述輻射檢測(cè)器確定在所述輻射檢測(cè)器上的多個(gè)位置處的所述振蕩信號(hào)的諧波的相位；以及根據(jù)在所述輻射檢測(cè)器上的所述多個(gè)位置處的所述振蕩信號(hào)的諧波的所述相位來(lái)確定表征所述投影系統(tǒng)的至少一個(gè)像差的至少一個(gè)系數(shù)。

29、根據(jù)第五方面的測(cè)量系統(tǒng)可以適用于光刻設(shè)備內(nèi)。所述第一圖案形成裝置可以被設(shè)置在掩模版級(jí)處（即，在所述光刻設(shè)備的物平面中），并且所述傳感器設(shè)備可以被設(shè)置在晶片級(jí)處（即，在所述光刻設(shè)備的像平面中）。具體地，根據(jù)第五方面的測(cè)量系統(tǒng)可以適合用于極紫外（euv）光刻設(shè)備內(nèi)。即，所述照射輻射可以包括euv輻射。

30、應(yīng)了解，所述測(cè)量系統(tǒng)具有剪切干涉測(cè)量?jī)x的形式。

31、所述控制器可以被配置成實(shí)施根據(jù)本公開內(nèi)容的第一方面或本公開內(nèi)容的第二方面的方法。

32、所述系統(tǒng)還可以包括照射系統(tǒng)，所述照射系統(tǒng)可操作以利用照射輻射來(lái)照射所述第一圖案形成裝置。

33、所述照射輻射可以包括極紫外輻射。

34、所述第一圖案形成裝置可以設(shè)置在基準(zhǔn)件上。

35、所述第一圖案形成裝置可以設(shè)置在掩模版上。

36、根據(jù)本公開內(nèi)容的第六方面，提供了一種光刻設(shè)備，所述光刻設(shè)備包括根據(jù)本公開內(nèi)容的第五方面的測(cè)量系統(tǒng)。