技術特征：

1.一種光隔離發光側補償裝置，其特征在于，所述裝置包括：

2.根據權利要求1所述的光隔離發光側補償裝置，其特征在于，所述信號輸入模塊包括：

3.根據權利要求2所述的光隔離發光側補償裝置，其特征在于，所述偏置補償模塊包括：

4.根據權利要求1所述的光隔離發光側補償裝置，其特征在于，所述增益補償模塊包括第一運算放大器、光耦隔離器，其中：

5.根據權利要求4所述的光隔離發光側補償裝置，其特征在于，所述光耦隔離器包括發光二極管和光敏電阻，所述疊加控制模塊包括第二運算放大器、激光器，其中：

6.根據權利要求1-5任一項所述的光隔離發光側補償裝置，其特征在于，所述裝置還包括第一pi控制模塊和第二pi控制模塊，其中：

7.一種光隔離雙補償系統，其特征在于，包括：

8.根據權利要求7所述的光隔離雙補償系統，其特征在于，所述系統包括：

9.一種光隔離補償處理方法，用于如權利要求7-8任一項所述系統，其特征在于，所述方法包括：

10.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

技術總結
本發明涉及一種光隔離發光側補償裝置及光隔離雙補償系統，光隔離雙補償系統包括光敏側補償裝置、發光側處理裝置和光隔離發光側補償裝置。光敏側補償裝置采集電輸出信號，解析電輸出信號生成第一解析信號，并將第一解析信號發送至發光側處理裝置，發光側處理裝置采集電輸入信號并根據電輸入信號生成第二解析信號，還用于根據第一解析信號和第二解析信號計算偏置信號和增益信號，作為光隔離發光側補償裝置的調整基礎。通過在光敏側改變電壓以及發光側同步的增益和偏移調整，矯正溫度特性引起的變化，消除發光側和光敏側的誤差。

技術研發人員：巫偉武
受保護的技術使用者：廣州德肯電子股份有限公司
技術研發日：
技術公布日：2025/4/28