本發明屬于激光，涉及激光反射鏡結構及其制造方法與激光加工裝置。

背景技術：

1、激光加工設備以其高精度、高速度和非接觸式的特點，逐漸取代了傳統的機械加工方式，成為現代制造業不可或缺的一部分，已逐漸成為汽車制造、航空航天、船舶建造等多個領域中較為常見的材料切割和焊接工藝設備。

2、為了實現金屬材料，特別是特厚規格的金屬板材料(以下簡稱：特厚板)的切割和焊接，激光加工設備向著集成化、高功率方向發展。目前，激光器標桿產品的輸出功率已達到220kw。然而，對于特厚板而言，固定焦點的大功率激光加工設備很難實現激光加工效率與激光加工質量的兼顧，主要受限的原因在于：固定光斑在熱量傳遞給特厚板時，特厚板沿厚度方向上的能量分配不均勻，無論采用正離焦設置(激光光斑焦點在待加工工件表面之上)還是負離焦設置(激光光斑焦點在待加工工件表面之下)，都很難保障特厚板切割加工面或焊接加工面的傳熱均勻性，導致在特厚板加工過程中不同程度地產生切割或焊接缺陷。而且，對于特厚板而言，由于固定焦點激光加工過程中能量分布不均，使得工藝窗口非常狹窄。任何微小的參數調整都可能導致加工質量問題，增加了工藝調試的難度，降低了作業效率。

3、cn1607059a公開了一種激光雙向切割方法，其通過將被加工件放置在兩個激光束發射方向相對且在一直線上的激光頭之間。用此方法可使用兩個小功率激光發生器替代一個大功率激光發生器對一定厚度的板材切割加工，從而大幅降低激光切割設備成本。類似地，cn2661357y公開了一種雙激光頭激光切割機，以兩個小功率的激光器的激光頭同時同步對板材的雙向進行切割加工，從而代替了一個大功率激光切割機單向對一定厚度板材的切割加工，使激光切割設備制造和使用成本大幅降低。但上述這種多點聚焦會面臨切割精度問題，仍無法完全解決厚度方向上能量分配不均的問題，且系統復雜度增加，維護成本較高。

4、因此，尚需要對激光加工的相關技術進行研究和開發，以通過簡單有效的方式解決特厚板材的激光加工問題。

技術實現思路

1、鑒于現有技術中存在的問題，本發明的目的在于提供激光反射鏡結構及其制造方法與激光加工裝置，所述激光反射鏡結構包括反射鏡主體；所述反射鏡主體包括壓電陶瓷，在其第一表面上層疊設置的第一中間接合層、銅層、第二中間接合層及反射玻璃。本發明通過設置第一中間接合層、銅層以及第二中間接合層，實現壓電陶瓷與反射玻璃的連接，通過銅層對壓電陶瓷施加電場，可以實現激光器內準直激光光束的擺動，使其可以通過后續的聚焦鏡等元件，實現激光焦點在加工目標的厚度方向上的動態擺動，這將有效緩解特厚板切割作業和焊接作業過程中上下板面間溫度不均的問題，可提高切割面質量和焊接接頭內部質量，顯著擴大激光高效切割和焊接特厚板時的激光工藝窗口。

2、為達到此目的，本發明采用以下技術方案：

3、第一方面，本發明提供了一種激光反射鏡結構，包括反射鏡主體；所述反射鏡主體包括壓電陶瓷，所述壓電陶瓷具有相對的第一表面和第二表面；所述第一表面上層疊設置有第一中間接合層、銅層、第二中間接合層及反射玻璃；所述第二中間接合層包括親氧金屬層；所述第二表面上設置有第一電連接點，所述銅層上設置有第二電連接點，用于向所述壓電陶瓷施加外部電場。

4、為了實現激光器內準直激光光束的擺動，并在后續實現激光焦點在加工目標厚度方向上的動態擺動，本發明的構思是利用壓電陶瓷與反光玻璃結合，通過對壓電陶瓷施加外電場，實現反光玻璃位置的變化，進而控制激光器內準直激光光束的擺動。壓電陶瓷具有壓電效應和逆壓電效應，可達成機械能與電能的相互轉換，是壓電驅動裝置的理想材料，具有響應速度快、電壓調節驅動的特點，在電子、驅動、醫療等領域具有廣泛應用。電壓驅動壓電陶瓷所輸出的位移與推力大小跟施加電壓成正比關系。因此，將壓電陶瓷與光學反射玻璃連接，通過壓電陶瓷位移驅動光學反射玻璃發生同頻位移，將達成平行光束反射后的擺動效果。但是，實現壓電陶瓷與反射玻璃有效結合并能保證持續穩定地發揮作用是要解決的兩個主要問題。尤其是受到壓電陶瓷居里溫度限制，壓電陶瓷與玻璃直接低溫連接存在技術瓶頸。

5、為解決上述問題，本發明通過在壓電陶瓷與反射玻璃之間設置銅層，來作為兩者連接的中間層，且該銅層可以起到導電作用，而實現對壓電陶瓷的一側施加電壓。為了實現反射玻璃與銅層的結合，本發明通過設置所述第二中間接合層來促進與銅層的鍵合，有效提升反射玻璃與銅層的結合強度。

6、以下作為本發明優選的技術方案，但不作為本發明提供的技術方案的限制，通過以下技術方案，可以更好地達到和實現本發明的技術目的和有益效果。

7、作為本發明優選的技術方案，所述壓電陶瓷的成分包括鋯鈦酸鉛、鈦酸鋇或鈮鎂酸鉛中的至少一種。

8、優選地，所述壓電陶瓷摻雜有氧化鉿(hfo2)，氧化鉿的摻雜量≤1wt％，例如1wt％、0.8wt％、0.6wt％、0.4wt％、0.2wt％、0.1wt％或0.05wt％等。

9、本發明中，所述壓電陶瓷中適當加入hfo2可提高壓電陶瓷的居里溫度，有利于擴大低溫下壓電陶瓷與銅膜的焊接(釬焊)的工藝窗口。當摻入量大于1wt％后，居里溫度雖然進一步提高而可以超過210℃，但d33值降低至680pm/v以下，有損于壓電功能性。

10、本發明中所述d33值是衡量材料壓電性能的一個重要參數，具體來說，它是壓電應變常數的一種，表示在施加電場方向(通常是在極化方向施加單位電場強度，即3軸方向)上產生的應變與該方向電場強度的比例關系。簡單地說，當在壓電材料的特定方向(通常是極化后的方向)施加一個電場時，材料在這個方向上的伸長或縮短程度，即所產生的電致伸縮(應變)量。較高的d33值意味著在相同電場作用下材料能夠產生更大的形變。

11、優選地，所述壓電陶瓷的居里溫度為180～210℃，例如180℃、185℃、190℃、195℃、200℃、205℃或210℃等，d33值為680～700pm/v，例如680pm/v、685pm/v、690pm/v、695pm/v或700pm/v等。

12、優選地，所述壓電陶瓷的第一表面設置有第一鍍層，在第一鍍層遠離所述壓電陶瓷的一側表面上設置有所述第一中間接合層；所述壓電陶瓷的第二表面設置有第二鍍層，在第二鍍層上設置有所述第一電連接點。

13、優選地，所述第一鍍層與所述第二鍍層的材料獨立地選自ni、ag、au、cu、ti或pt之中的至少一種；所述第一鍍層與所述第二鍍層的厚度獨立地選自3～10μm，例如3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm或10μm等。

14、本發明中通過設置第一鍍層有利于提高壓電陶瓷的可焊性，有利于提高壓電陶瓷的居里溫度，擴大壓電陶瓷與銅層的焊接工藝窗口，使其更好地與銅層進行焊接而結合。

15、作為本發明優選的技術方案，所述第一中間接合層包括釬焊層。

16、優選地，以所述釬焊層的質量為100％計，所述釬焊層包括(52-y)％的in、(48-z)％的sn以及(x+y)％的ga，且x＝0～2，例如0、0.3、0.5、0.8、1、1.2、1.4、1.6、1.8或2等；y＝0～2，例如0、0.3、0.5、0.8、1、1.2、1.4、1.6、1.8或2等；所述釬焊層的焊接形成溫度比所述壓電陶瓷的居里溫度低40～50℃，例如40℃、42℃、44℃、46℃、48℃或50℃等。

17、優選地，所述釬焊層的厚度為0.02～0.05mm，例如0.02mm、0.03mm、0.04mm或0.05mm等，所述釬焊層與所述銅層的釬焊界面的抗拉強度＞6mpa。

18、作為本發明優選的技術方案，所述銅層中銅的純度為99.9％～100％；所述銅層的厚度≥0.05mm，例如0.05mm、0.06mm、0.08mm、0.1mm、0.12mm、0.15mm、0.18mm、0.2mm、0.25mm、0.3mm、0.35mm或0.4mm等；所述銅層的熱傳導系數≥390w/(m·k)。

19、優選地，所述銅層具有未被覆蓋的散熱部分，所述散熱部分的面積≥250mm2，例如250mm2、280mm2、300mm2、330mm2、350mm2、380mm2、400mm2、420mm2、450mm2、480mm2或500mm2等。所述未被覆蓋指未被第一中間接合層、所述第二中間接合層以及下述外殼覆蓋的部分，該部分的上下對側表面暴露于環境。

20、在激光反射鏡結構中，雖然反射玻璃具有較高的反射率，很低的折射率，但經過高功率激光長時間照射，仍然可以通過高熱傳導性質的親氧金屬層及銅層對釬焊層傳熱，由于釬焊層的熔點較低，很容易受到影響。尤其是本發明中，如果銅層的厚度低于0.05mm且散熱面積低于250mm2的銅膜傾向于使得反射玻璃片在服役過程中溫度升高至50℃以上，通常50℃～60℃的溫度使得釬焊層軟化，進而顯著降低壓電陶瓷、銅層與第一中間接合層之間接界面的強度，在10kw功率激光照射下的激光反射鏡結構的使役壽命低于240h。因此，本發明中，通過對銅層的設計，以便于加快激光反射鏡元件時的散熱效果，從而提升其結構的穩定性和使役壽命。

21、優選地，所述親氧金屬層包括鋁層；所述鋁層中鋁的純度為99.8％～100％；所述親氧金屬層的厚度為0.01～0.02mm，例如0.01mm、0.011mm、0.012mm、0.013mm、0.014mm、0.015mm、0.016mm、0.017mm、0.018mm、0.019mm或0.02mm等。

22、本發明中，優選使用鋁層作為所述第二中間接合層，鋁元素可以向與玻璃體的界面處擴散，并與玻璃體中的非橋鍵氧原子在界面發生氧化反應而實現連接。同時，鋁元素也向銅層中擴散，以實現銅-鋁的擴散連接，從而有效提升結合強度，實現了銅層與玻璃體之間的可靠連接。

23、優選地，所述反射玻璃包括玻璃體，以及在所述玻璃體中遠離所述第二中間接合層的一側表面上設置的反射膜，所述反射膜的反射率≥99.7％，例如99.7％、99.8％或99.9％等。

24、優選地，以所述玻璃體的質量為100％計，所述玻璃體包括90％～94％的sio2，90％、90.5％、91％、91.5％、92％、92.5％、93％、93.5％或94％等，3％～5％的k2o，例如3％、3.3％、3.5％、3.8％、4％、4.3％、4.5％、4.8％或5％等；以及3％～5％的na2o，例如3％、3.3％、3.5％、3.8％、4％、4.3％、4.5％、4.8％或5％等；所述玻璃體的反射率為88％～92％，例如88％、88.5％、89％、89.5％、90％、90.5％、91％、91.5％或92％等。

25、本發明中，所述玻璃體中應具有適宜的k2o及na2o的含量，較低的k2o及na2o含量不利于玻璃體與銅層之間的鍵合連接。較高的k2o及na2o含量可降低玻璃體的反射率，提高10kw功率激光照射下銅膜的溫度，進而影響所述反射鏡元件的使役壽命。因此，通過對玻璃體的成分設計并搭配設置反射膜，可在實現高反射率的同時，有利于規避壓制體中銅層、第二中間接合層及反射玻璃之間的結合強度在高溫環境下的弱化。

26、作為本發明優選的技術方案，所述激光反射鏡結構還包括上殼體以及下殼體；所述上殼體與所述下殼體通過絕緣膠連接，形成外殼；所述反射鏡主體設置于所述外殼中，所述反射玻璃朝向所述上殼體，所述壓電陶瓷朝向所述下殼體；所述上殼體開設有第一光路孔和第二光路孔，用于激光的入射和反射。

27、優選地，所述銅層延伸到所述上殼體與所述下殼體進行連接的區域，并通過所述絕緣膠進行固定。

28、優選地，所述下殼體開設有通孔，所述反射鏡主體設置于所述通孔的上方，使所述壓電陶瓷的部分第二表面暴露于所述通孔中，其余部分的第二表面通過絕緣膠固定于所述下殼體。

29、第二方面，本發明提供了一種第一方面所述的激光反射鏡結構的制造方法，所述制造方法包括如下步驟：

30、提供反射玻璃、親氧金屬層膜片、銅層膜片、第一中間接合層原料及壓電陶瓷；

31、在所述反射玻璃的一側表面上依次層疊設置所述親氧金屬層膜片以及銅層膜片，得到層疊體；將所述層疊體進行壓制，所述親氧金屬層膜片形成親氧金屬層，作為第二中間接合層，得到壓制體；

32、所述壓電陶瓷具有相對的第一表面和第二表面；利用所述第一中間接合層原料，在所得壓制體中的銅層膜片一側與壓電陶瓷的第一表面之間形成第一中間接合層，所述銅層膜片形成銅層，構成反射鏡主體，得到激光反射鏡結構；

33、在所述壓電陶瓷的第二表面上設置第一電連接點，在所述銅層上設置第二電連接點，用于向所述壓電陶瓷施加外部電場。

34、作為本發明優選的技術方案，所述制造方法包括，所述反射玻璃、親氧金屬層膜片及銅層膜片預先進行清洗，去除表面油污。所述清洗包括采用丙酮、酒精清洗并進行烘干。

35、本發明中，通過對銅層膜片與壓電陶瓷采用釬焊工藝連接，可大幅提升銅層與壓電陶瓷間的導電性能。釬焊形成的金屬連接比常規的膠水連接更堅固，能夠改善因膠水的柔性導致壓電陶瓷的壓電效應減弱的問題，確保壓電陶瓷在電場作用下充分發揮其壓電效應。

36、優選地，所述壓制在真空度為10-5～10-2pa的真空環境下進行，例如10-5pa、10-4pa、10-3pa或10-2pa等。

37、優選地，所述壓制的施加壓力為30～50mpa，例如30mpa、33mpa、35mpa、38mpa、40mpa、42mpa、44mpa、46mpa、48mpa或50mpa等。

38、優選地，在開始壓制時，以30～50℃/min的速率，例如30℃/min、35℃/min、40℃/min、45℃/min或50℃/min等，升溫至350～450℃，例如350℃、360℃、370℃、380℃、390℃、400℃、410℃、420℃、430℃、440℃或450℃等，進行保溫保壓3～5min，例如3min、3.5min、4min、4.5min或5min等。

39、優選地，在所述保溫保壓的過程中，通過銅層膜片施加300～400v直流電壓，例如300v、320v、340v、360v、380v或400v等。

40、本發明中，所述壓制優選在溫度-壓力-電場的協同作用下進行，這些外場可以加強玻璃體中的堿金屬氧化物的化學鍵的打破，促進氧原子向玻璃體與第二中間接合層(如鋁層)的界面遷移，第二中間接合層中的元素，如鋁元素也同時向與玻璃體的結合界面擴散，從而使得鋁離子與玻璃體中的非橋鍵氧原子在界面發生氧化反應而實現連接。與此同時，銅與鋁在電場作用下加速了互擴散速率，進而可同時達成玻璃體與鋁層的鍵合連接以及銅層與鋁層的擴散連接。

41、如果不使用第二中間接合層，而通過銅層直接與玻璃體進行鍵合時。在相同工藝條件下，玻璃體與銅層的鍵合連接強度不足2mpa，這是因為銅的親氧能力弱于親氧金屬，如鋁。例如當壓力低于30mpa、溫度低于350℃，會使得壓制體整體界面結合強度降低。而要達到相同水平的結合強度，需要施加更高的溫度-壓力-電場的外場作用。但是，當溫度超過450℃，壓力超過50mpa后，玻璃體會發生顯微壓縮變形，其表面的反射膜也會發生損壞。

42、在本發明中，所述壓制過程中的保溫保壓較為關鍵。保溫保壓時間過低，電場下元素互擴散不充分，影響整體界面結合強度；保溫時間過長，電場下界面的反應互擴散雖然充分，但反應擴散界面的寬度顯著增加，界面內易形成明顯且復雜的金屬間化合物ims，這些ims往往是脆性相，雖然一定程度有利于提升強度，但卻有損于元件使役過程中的疲勞壽命。同理，直流電壓大小的控制與作用效果相似于保溫時間。電壓越大，越容易促進界面互擴散，也更容易在界面形成ims。電壓減小，不利于整體界面結合強度的提高。總之，溫度-壓力-電場三種外場所施加的程度應根據實際情況進行合理地調整，以大幅度提升鍵合強度，提高元件使役壽命。

43、優選地，所述保溫保壓結束后，以5～10℃/min的降溫速率，例如5℃/min、6℃/min、7℃/min、8℃/min、9℃/min或10℃/min等，冷卻至60℃以下，取出得到所述壓制體。

44、作為本發明優選的技術方案，所述制造方法包括，所述壓電陶瓷、所述壓制體中的銅層一側預先進行清洗，去除表面油污。所述清洗包括采用丙酮、酒精清洗并進行烘干。

45、優選地，所述第一中間接合層原料包括釬焊料。

46、優選地，以所述釬焊料的質量為100％計，所述釬焊料包括(52-y)％的in、(48-z)％的sn以及(x+y)％的ga，且x＝0～2，例如0、0.3、0.5、0.8、1、1.2、1.4、1.6、1.8或2等；y＝0～2，例如0、0.3、0.5、0.8、1、1.2、1.4、1.6、1.8或2等。

47、本發明中，通過對釬焊料中成分的調整，可以控制其熔點以及焊接溫度區間，優選熔點為108～118℃，焊接溫度區間為118～130℃；需要說明的是，本發明忽略在釬焊界面形成的ims，形成的釬焊層中的成分及其占比與釬焊料中相同。

48、優選地，所述釬焊料包括預合金化釬焊片，厚度為0.02～0.05mm，例如0.02mm、0.025mm、0.03mm、0.035mm、0.04mm、0.045mm或0.05mm等。

49、本發明中，預合金化釬焊片的厚度低于0.02mm，在釬焊壓力作用下，釬料容易被擠出，降低釬焊界面結合強度；厚度大于0.05mm，釬焊界面可能存在大量ims，亦影響激光反射鏡元件使役疲勞壽命。

50、優選地，所述預合金化釬焊片的表面設置有助焊劑，所述助焊劑的厚度為3～5μm；例如3μm、3.2μm、3.4μm、3.6μm、3.8μm、4μm、4.2μm、4.4μm、4.6μm、4.8μm或5μm等。

51、本發明中，表面預涂覆設置的助焊劑的厚度低于3μm，釬焊界面潤濕性傾向于不足，釬焊強度降低；厚度高于5μm，壓電陶瓷與cu釬焊后的邊緣傾向于會殘留更多助焊劑，影響激光反射鏡元件焊接表面質量。

52、優選地，所述預合金化釬焊片的面積值根據理論待釬焊面積值計算，其面積值＝理論待釬焊面積×(0.94～0.95)，以保證真空低溫釬焊后，實際釬焊面積達到理論待釬焊面積的99％以上。

53、優選地，以所述助焊劑的質量為100％計，所述助焊劑包括35％～55％的松香(c19h29cooh)，例如可以是35％、38％、40％、42％、45％、48％、50％、52％或55％等；5％～20％的含鹵化合活化劑，例如可以是5％、8％、10％、12％、15％、18％或20％等；以及25％～35％的環氧乙烷((c2h4o)n，n代表環氧乙烷鏈中重復單元數量)，例如可以是25％、28％、30％、32％或35％等，余量為添加劑和有機溶劑。

54、優選地，所述含鹵化合活化劑包括氯化亞錫(sncl2)；所述添加劑包括丁二酸和/或蘋果酸；所述有機溶劑包括乙醇、丙酮或醋酸酯中的至少一種。

55、優選地，形成所述第一中間接合層的方法包括釬焊。

56、優選地，所述釬焊在真空度為10-4-10-2pa真空環境下進行，例如10-4pa、10-3pa或10-2pa等。

57、優選地，所述釬焊的壓力為0.03～0.04n/mm2，例如0.03n/mm2、0.032n/mm2、0.034n/mm2、0.036n/mm2、0.038n/mm2或0.04n/mm2等。

58、本發明中，釬焊的壓力過低，釬焊界面結合強度傾向于不足；釬焊壓力過大，在目標溫度118～130℃下的熔融態釬料容易被擠出，不僅影響釬焊表面質量，還可能在局部因缺失釬料而形成虛焊，亦容易影響釬焊界面的結合強度。

59、優選地，所述釬焊的溫度比所述壓電陶瓷的居里溫度低40～50℃，以避免損害壓電陶瓷的d33值，例如40℃、42℃、44℃、46℃、48℃或50℃等。

60、優選地，所述釬焊的溫度為118～130℃，例如118℃、120℃、122℃、124℃、126℃、128℃或130℃等。

61、優選地，所述釬焊的過程包括，以10～12℃/min的升溫速率，例如10℃/min、11℃/min或12℃/min等，升至90℃后，再以8～10℃/min的升溫速率，例如8℃/min、9℃/min或10℃/min等，升至100～118℃，例如110℃、112℃、114℃、116℃或118℃等，隨后以3～5℃/min的升溫速率，例如3℃/min、4℃/min或5℃/min等，升至118～130℃，例如118℃、120℃、122℃、124℃、126℃、128℃或130℃等，保溫90～100s后，例如90s、92s、94s、96s、98s或100s等，以3～5℃/min的冷卻速率，例如3℃/min、4℃/min或5℃/min等，降至100℃，再隨爐冷卻至40℃以下，取出得到所述反射鏡主體。

62、在本發明中，溫度升至目標溫度(釬焊的溫度)118～130℃后，保溫時間低于90s，釬焊界面內的氣孔排出時間傾向于不足，界面氣孔率偏高，影響釬焊后的界面使役疲勞壽命；保溫時間高于100s，釬焊界面易形成過多的cu-al?ims，且釬焊界面顯著變寬，亦影響釬焊后的界面使役疲勞壽命。

63、本發明中，所述釬焊的過程為真空低溫釬焊工藝，整體呈現逐步升溫+逐步降溫的形式，可減少升溫過程的溫度過沖，也可減少降溫過程中釬焊界面因快速冷卻而造成界面殘余應力上升，保障了釬焊界面的使役疲勞壽命。

64、總之，通過對銅層膜片與壓電陶瓷之間進行真空釬焊連接，釬焊工藝采用逐步升溫+逐步降溫的形式，以對釬焊工藝中的溫度、壓力、保溫時間等參數進行控制，同時匹配特定化學成分及厚度的預合金化釬焊片，可實現高質量焊接，提高釬焊界面結合強度，延長元件釬焊界面使役壽命。

65、作為本發明優選的技術方案，所述制造方法還包括：

66、提供上殼體、下殼體及絕緣膠；利用所述絕緣膠組裝所述上殼體、下殼體及所述反射鏡主體，得到所述激光反射鏡結構。

67、需要說明的是，所述銅層膜片應具有幾何中心特征，以使得形成的銅層具備足夠的接觸面積與其他層結構相結合，并能得以延伸得到適宜的散熱部分以及與外殼進行連接固定的部分，但并不限制其具體的外形形狀。

68、第三方面，本發明提供了一種激光加工裝置，所述激光加工裝置含有第一方面所述的激光反射鏡結構。

69、需要說明的是，本發明并不一一列舉上述數值范圍內的所有點值，但也并不僅限于已列舉的數值，上述數值范圍內其他未列舉的數值同樣適用。

70、與現有技術方案相比，本發明至少具有以下有益效果：

71、本發明提供的激光反射鏡結構中設置第一中間接合層、銅層以及第二中間接合層，實現了壓電陶瓷與反射玻璃的穩定連接，通過銅層對壓電陶瓷施加電場，可以實現激光器內準直激光光束的擺動，使其可以通過后續的聚焦鏡等元件，實現激光焦點在加工目標的厚度方向上的動態擺動，這將有效緩解特厚板切割作業和焊接作業過程中上下板面間溫度不均的問題，可提高切割面質量和焊接接頭內部質量，顯著擴大激光高效切割和焊接特厚板時的激光工藝窗口。

72、本發明所述制造方法通過先將反射玻璃、親氧金屬層膜片及銅層膜片進行壓制，得到壓制體，再將壓制體與壓電陶瓷進行釬焊，通過優化及控制壓制過程及釬焊過程，可以提升激光反射鏡結構中的各層之間的結合強度，有效延長激光反射鏡結構的使役壽命。