技術總結
本實用新型涉及自動雕刻輔助設備技術領域，具體指一種用于雕刻的自動吸附平臺，包括機床基座、真空抽氣管和設于機床基座上方的氣倉板，所述氣倉板上側面設有吸附槽，所述吸附槽內均勻分布有若干隔條，所述吸附槽通過若干隔條形成若干真空氣倉，所述真空抽氣管設于機床基座下方，所述真空抽氣管的上端向上延伸至吸附槽中心處。采用上述技術方案，結構簡單，技術合理，使用方便，通過在吸附槽上覆蓋吸附透氣層，并通過吸附透氣層與隔條相配合，使得該吸附平臺能夠適應不同面積大小的產品，使用范圍更大。

技術研發人員：周偉明
受保護的技術使用者：杭州冉弘電子有限公司
文檔號碼：201620497315
技術研發日：2016.05.26
技術公布日：2016.12.07