專利名稱：平面研磨機的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種金屬表面處理的機械，特別是一種平面研磨機。
背景技術：
平面研磨是指對金屬或其它材料表面進行平整度處理，以達到對
零件表面粗糙度，尺寸精度等的使用要求；目前使用的平面研磨機 械其主要結構包括一個機架，在機架上設置有工件臺，工件臺用來 固定待加工的材料，工件臺上方是由電機帶動的砂帶，在工作時由 電機帶動砂帶高速旋轉，對工件臺上的工件進行研磨加工；現有技 術其不足之處是在研磨加工時在砂帶與工件之間會產生大量無法 及時排走的顆粒，顆粒被重新帶入加工面，從而導致加工表面會再 次被損傷或刮花，影響加工的質量，以及耗費了更多的時間在反復 研磨加工中。 發明內容
為了克服現有技術的不足，本實用新型提供一種能及時消除加工 微粒的平面研磨機。
本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是-一種平面研磨機，其包括機架，機架上方橫向設置兩立柱，在一 側立柱上設置有由電機帶動的主動輪，另一側立柱上設置有從動輪， 所述主動輪與從動輪套在砂帶內，所述立柱之間的機架上設置有升降
臺，其特征在于所述升降臺內設置有可由電機帶動的轉軸，在轉軸 上端固接偏心軸，偏心軸上方與偏心軸塊活動接觸，所述升降臺上設 置有拖板座，在拖板座有縱向設置的導軌，所述導軌上活動接觸下拖 板，下拖板中間開有通槽，所述通槽與偏心塊活動接觸，所述下拖板 的上方通過直線導軌連接有用于安裝工作臺的上拖板。
本實用新型的有益效果是本設計在機座上設置有帶偏心塊的轉 軸，其可以帶動工作臺在縱向來回運動，而砂帶是橫向運動的，因此 工作臺在作縱向運動時其工件有部分會偏離砂帶，此時，在研磨時產 生的顆粒就能及時排走，然后又通過偏心塊的帶動回到砂帶下進行研 磨，保證了工件的光整度，提高了工作效率。以下結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。


圖1是本實用新型的結構示意圖； 圖2是本實用新型的機座局部剖面圖； 圖3是
圖1的A—A向示意圖。
具體實施方式
參照
圖1至圖3， 一種平面研磨機，其包括機架l，在機架上方橫 向安裝有兩立柱ll， 一邊立柱有由電機帶動的主動輪12，另一立柱上 設置有從動輪13，主動輪12與從動輪13套在砂帶14內，在電機帶 動下砂帶高速旋轉，在立柱之間的機架上安裝有升降臺2，升降臺2 內有轉軸31，轉軸31可由電機帶動，在轉軸31上端固定有偏心軸32， 偏心軸32上方通過軸承34與偏心軸塊33活動接觸，在升降臺2上方
設置有拖板座41，在拖板座上有縱向設置的導軌42,所述導軌42上 活動接觸下拖板43，下拖板43可沿導軌的方向移動，在下拖板43的 上方通過直線導軌45連接有用于安裝工作臺46的上拖板47，在下拖 板中間開有長形通槽44，通槽44的長邊為橫向設置，在通槽44內套 有偏心軸塊33，偏心軸塊33可以沿通槽44的長邊來回移動。
本設計中，其升降臺2包括安裝于機架中間通孔內的軸套21，軸 套21內設有升降主軸22，升降主軸22的上端連接拖板座4，在升降 主軸22上部的外牙上套有主軸螺母23，主軸螺母23的外螺紋與升降 手輪24端部的螺紋相嚙合，所述升降主軸22內包含轉軸31，當旋轉 升降手輪時，通過手輪端部與主軸螺母23的嚙合。可驅動主軸螺母 23在原位置轉動，而主軸螺母23旋轉時可通過其內螺紋來推動升降 主軸作垂直升降，從而達到調節工件在垂直方向的高度。
本設計其技術特點是這樣的當轉軸31在電機帶動下旋轉時，通 過其上端的偏心軸32帶動偏心軸塊33運動，由于偏心軸塊33被套在 通槽44內，并且只能沿其長邊移動，因此當偏心軸32往縱向旋轉時， 其偏心軸塊33就推動下拖板42、上拖板47以及工作臺46沿導軌42 移動，同時使得工作臺46上的工件有部分加工面會偏離砂帶，或者使 偏離后的工件重新投入研磨，此運動過程中，工件表面同時受到橫向 研磨及縱向移動，通過兩種不同的作用力，使工件表面中因研磨時產 生的顆粒能及時排走。
權利要求1.一種平面研磨機，其包括機架(1)，機架上方橫向設置兩立柱(11)，在一側立柱上設置有由電機帶動的主動輪(12)，另一側立柱上設置有從動輪(13)，所述主動輪與從動輪套在砂帶(14)內，所述立柱之間的機架上設置有升降臺(2)，其特征在于所述升降臺(2)內設置有可由電機帶動的轉軸(31)，在轉軸(31)上端固接偏心軸(32)，偏心軸(32)上方與偏心軸塊(33)活動接觸，所述升降臺(2)上設置有拖板座(41)，在拖板座有縱向設置的導軌(42)，所述導軌(42)上活動接觸下拖板(43)，下拖板中間開有通槽(44)，所述通槽(44)與偏心塊(33)活動接觸，所述下拖板(43)的上方通過直線導軌(45)連接有用于安裝工作臺(46)的上拖板(47)。
2. 根據權利要求1所述的一種平面研磨機，其特征在于所述下拖 板上開有一長形通槽(44)，所述通槽的長邊為橫向設置。
3. 根據權利要求1所述的一種平面研磨機，其特征在于所述升降 臺(2)包括固接于機架通孔內的軸套(21)，軸套(21)內包含有 升降主軸(22)，升降主軸(22)的上端與拖板座(41)接觸，所 述升降主軸(22)上部套有主軸螺母(23),主軸螺母(23)的外 螺紋與升降手輪(24)端部的螺紋相嚙合，所述升降主軸(22) 內包含轉軸(31)。
4. 根據權利要求1所述的一種平面研磨機，其特征在于所述偏心 軸(32)上方通過軸承(34)與偏心軸塊(33)活動接觸。
專利摘要本實用新型涉及一種平面研磨機，其包括機架，機架上方兩立柱上橫向設置有主動輪和從動輪，機架中間有升降工作臺，工作臺上設置有下拖板，下拖板上安裝有工作臺，其特征是升降臺內設置有可由電機帶動的轉軸，轉軸上端有偏心軸，偏心軸上方連接偏心軸塊，其偏心軸塊可通過一通長形槽推動工作臺縱向運動，使工件表面中因研磨時產生的顆粒能及時排走，本技術提高了產品的質量，提高了工作效率。
文檔編號B24B21/04GK201067859SQ200720053680
公開日2008年6月4日 申請日期2007年6月29日 優先權日2007年6月29日
發明者林世忠, 林彩輝 申請人:林小藝