專利名稱：用于薄膜沉積的掩模框架組件及其制造方法
技術領域：
本發明涉及用于薄膜沉積的掩模框架組件，更具體地講，涉及使用拼合掩模(split mask)的掩模框架組件和制造所述掩模框架組件的方法。
背景技術：
通常，在顯示裝置中，有機發光顯示裝置具有寬的視角、優異的對比度和高的響應速度。有機發光顯示裝置具有堆疊結構，在該堆疊結構中，發射層插入在陽極和陰極之 間并基于如下原理實現顏色當從陽極和陰極注入到發射層中的空穴和電子復合時，發射光。然而，使用上述結構難以獲得高的發光效率，因此諸如電子注入層、電子傳輸層、空穴傳輸層和空穴注入層的其他中間層選擇性地設置在電極與發射層之間。可以使用各種方法形成電極和包括發射層在內的中間層，這些方法中的一種是沉積。為了使用沉積法制造有機發光顯示裝置，在基底上排布其圖案與將要形成的薄膜的圖案相同的精細金屬掩模(FMM)，并沉積薄膜的原材料，從而形成具有期望圖案的薄膜。然而，如果將FMM形成為具有大的表面積以與大尺寸顯示裝置對應，則FMM的中心部分因其重量而產生的下垂變大，因此，多個掩模棒彼此平行而附著的拼合掩模是優選的。然而，拼合掩模也是薄的，因此拼合掩模會在一定程度上下垂，雖然不如大尺寸掩模下垂得那樣多。因此，在沉積操作中拼合掩模不會緊密地附于基底，這很可能導致沉積缺陷。為了解決該問題，使用如下結構沿著與將拼合掩模布置在框架上所沿的方向垂直的方向將支撐條安裝在框架上，將拼合掩模的兩個端部焊接到框架，并將所述兩個端部之間中心部分的與支撐條交叉的部分焊接到支撐條，以防止下垂。也就是說，因為當只有拼合掩模的所述兩個端部固定到框架時中心部分會下垂，所以通過焊接將中心部分固定到支撐條，從而防止拼合掩模的下垂。然而，雖然可通過安裝支撐條以固定拼合掩模來防止下垂，但是當將要使拼合掩模附于基底以執行沉積操作時，拼合掩模的在焊點(在該焊點，拼合掩模被焊接到支撐條)周圍的部分不會容易地附于基底。也就是說，在沉積操作中，將包括拼合掩模的掩模框架組件設置在基底上(或將基底設置在掩模框架組件上)，并通過來自基底的磁力向基底吸引拼合掩模，從而將拼合掩模完全附于基底。然而，因為焊接到支撐條的部分被固定，所以焊點周圍的部分不是緊密地附于基底。總之，如果不安裝支撐條，則拼合掩模因其重量而產生的下垂大，在沉積操作過程中拼合掩模不會緊密地附于基底。如果安裝支撐條并通過焊接來固定拼合掩模的中心部分，則防止了拼合掩模的下垂，但是焊點周圍的部分不是緊密地附于基底。因此，需要一種解決該問題的方法。

發明內容
本發明的一個或多個實施例提供了使拼合掩模和基底彼此容易地且緊密地附著并使用支撐條來防止拼合掩模的下垂的用于薄膜沉積的掩模框架組件及其制造方法。根據本發明的一方面，一種用于薄膜沉積的掩模框架組件可包括框架，具有開ロ部分；支撐條，安裝在框架上并橫過開ロ部分；以及多個拼合掩模，安裝在框架上并橫過開ロ部分以與支撐條交叉；其中，多個拼合掩模的兩個端部固定到框 架，多個拼合掩模在多個拼合掩模與支撐條交叉的點處固定到支撐條；其中，通過切除多個拼合掩模的部分，在多個拼合掩模固定到支撐條的每個點處的周圍形成局部切除部分。多個沉積圖案可形成在多個拼合掩模中，拼合掩模與支撐條可在多個沉積圖案之間的點處彼此交叉。多個支撐條可彼此平行地安裝在框架上。可通過在拼合掩模與支撐條交叉的每個點處進行點焊而形成焊點來將拼合掩模和支撐條彼此固定，ー對局部切除部分可關于焊點對稱地形成。ー對局部切除部分可從拼合掩模的外部向內部彼此平行地形成。ー對局部切除部分可按照ー對局部切除部分從拼合掩模的外部向內部會聚的方式形成。ー對局部切除部分可按照ー對局部切除部分從拼合掩模的外部向內部散開的方式形成。可通過在拼合掩模與支撐條交叉的每個點處進行點焊而形成焊點來將拼合掩模和支撐條彼此固定，局部切除部分可具有圍繞焊點的U形。根據本發明的另一方面，ー種制造用于薄膜沉積的掩模框架組件的方法可包括下述步驟準備框架，支撐條安裝在框架上并橫過框架的開ロ部分；準備多個拼合掩模，多個拼合掩模安裝在框架上同時與支撐條交叉，其中，通過切除多個拼合掩模的部分，在多個拼合掩模與支撐條將要交叉的每個點的周圍形成局部切除部分；將拼合掩模的兩個端部固定到框架；以及在多個拼合掩模與支撐條交叉的點處將拼合掩模固定到支撐條。可在拼合掩模中形成多個沉積圖案，可在多個沉積圖案之間的點處安裝拼合掩模與支撐條，同時拼合掩模與支撐條彼此交叉。可將多個支撐條彼此平行地安裝在框架上。可通過在拼合掩模與支撐條交叉的每個點處進行點焊而形成焊點來將拼合掩模和支撐條彼此固定，可關于焊點對稱地形成ー對局部切除部分。可從拼合掩模的外部向內部彼此平行地形成ー對局部切除部分。可按照ー對局部切除部分從拼合掩模的外部向內部會聚的方式形成ー對局部切除部分。可按照ー對局部切除部分從拼合掩模的外部向內部散開的方式形成ー對局部切除部分。可通過在拼合掩模與支撐條交叉的每個點處進行點焊而形成焊點來將拼合掩模和支撐條彼此固定，局部切除部分可具有圍繞焊點的U形。


當結合附圖考慮時，通過參照下面的詳細描述，對本發明更完全的理解以及本發明許多隨附的優點將易于清楚，同時變得更好理解，在附圖中同樣的標記表示相同或相似的組件，其中圖I是根據本發明實施例的掩模框架組件的拆解透視圖；圖2是示出使用圖I中示出的掩模框架組件的沉積操作的示意圖；圖3是示出圖I中示出的掩模框架組件的拼合掩 模的結構的平面圖；以及圖4A至圖4C示出了圖3中示出的拼合掩模的改變的結構。
具體實施例方式現在將參照附圖更充分地描述本發明，附圖中示出了本發明的示例性實施例。圖I是根據本發明實施例的掩模框架組件的拆解透視圖；圖2是示出使用圖I中示出的掩模框架組件的沉積操作的示意圖。更具體地講，圖2是示出在將掩模框架組件安裝在沉積室中之后執行的沉積操作的示意圖。首先，如圖I中所示，掩模框架組件100包括框架120，具有開ロ部分121 ；以及多個拼合掩模110，具有固定到框架120的兩個端部。在圖I中，為了便于描述，僅示出了拼合掩模110中的ー些，以示出開ロ部分121，但是當完成掩模框架組件100的制造時，開ロ部分121被拼合掩模110完全填充。框架120形成掩模框架組件100的具有矩形形狀的輪廓，所述矩形形狀具有處于掩模框架組件100的中心的開ロ部分121。拼合掩模110的所述兩個端部通過點焊固定到框架120的一對相對的邊。還示出了所述兩個端部的焊點115。此外，多個支撐條130安裝在框架120上，以相對于拼合掩模110垂直地橫過開ロ部分121。支撐條130確保拼合掩模110不下垂，且拼合掩模110和支撐條130在拼合掩模110和支撐條130交叉的點處通過點焊彼此固定。拼合掩模110是長的棒狀構件，并包括位于開ロ部分121中的多個沉積圖案111，拼合掩模110的所述兩個端部在焊點115處通過點焊被固定到框架120，焊點115與拼合掩模110和支撐條130彼此交叉處的焊點113相似。拼合掩模110可以由例如鎳、鎳合金、鎳鈷合金等形成。拼合掩模110和支撐條130交叉處的焊點113位于多個沉積圖案111之間。也就是說，支撐條130與拼合掩模110交叉，同時避開與沉積圖案111對應的部分，通過在拼合掩模110與支撐條130交叉處的點形成焊點113來將支撐條130和拼合掩模110彼此組合。因此，在這樣的交叉結構中，支撐條130不干擾沉積圖案111。參照圖2，通過在沉積室500中安裝具有上述結構的掩模框架組件100并執行沉積操作，當從沉積源400產生的沉積材料通過形成在拼合掩模110中的沉積圖案111沉積在基底200上時，可以獲得期望的圖案。還包括磁體300,磁體300施加磁力以使掩模框架組件100的拼合掩模110附于基底 200。圖3是示出圖I中示出的掩模框架組件的拼合掩模的結構的平面圖。在圖3中，局部切除部分112a作為拼合掩模110的主體的部分而形成，局部切除部分112a形成在支撐條130和拼合掩模110交叉的每個點處的焊點113的周圍。
也就是說，如圖I和圖3中所示，ー對局部切除部分112a對稱地形成在將支撐條130與拼合掩模110組合的每個焊點113的周圍。換言之，將拼合掩模110的主體的在焊點113周圍的部分從外部向內部切除一點。這增強了當圖2的磁體300使用磁力吸引拼合掩模110以使拼合掩模110附于基底200時的附著力。也就是說，如上所述，當支撐條130和拼合掩模110被固定時，可以防止拼合掩模110的下垂。然而，當磁體300向著基底200吸引拼合掩模110吋，因為拼合掩模110的在焊點113周圍的部分通過點焊固定到支撐條130，所以不能容易地吸引所述部分，且沉積圖案111的在焊點113附近的端部不會附于基底200。如果在這種狀態下執行沉積操作，則與沉積圖案111的所述端部對應的沉積質量下降，并且具有如此下降的質量的產品會具有火焰缺陷(flame defect)，S卩，對應的部分出現火焰形的異常發光。然而，如果如在本發明的當前實施例中形成局部切除部分112a，則固定拼合掩模110的位于焊點113周圍的部分的約束カ變弱，也就是說，拼合掩模110的位于沉積圖案111附近的部分與焊點113通過局部切除部分112在一定程度上分開，因此通過磁體300的磁力而容易地向著基底200吸引拼合掩模110。因此，拼合掩模110的位于沉積圖案111周 圍的部分直至拼合掩模110的位于焊點113附近的部分牢固地附于基底200，因此可以提供穩定的沉積質量。參照圖I至圖3，可以如下制造掩模框架組件100。首先，準備其上安裝有支撐條130的框架120以及其中形成有沉積圖案111和局部切除部分112a的拼合掩模110。通過考慮拼合掩模110將被焊接到支撐條130的位置，在預計將要形成焊點113的位置的兩側對稱地預先形成局部切除部分112a。然后，順序地將拼合掩模110固定到框架120。通過點焊將拼合掩模110的兩個端部固定到框架120，并且還通過點焊在拼合掩模110和支撐條130交叉的點處將拼合掩模110固定到支撐條130。在這方面，形成在拼合掩模110和支撐條130交叉的點處的焊點113位于預先形成的成對的局部切除部分112a之間。因此，如上所述，通過使用支撐條130，防止了拼合掩模110的下垂，并且可以制造包括更好地附于基底200的拼合掩模110的掩模框架組件100。此外，確保了當需要時可以增強支撐條130和拼合掩模110之間的結合力。如果不形成局部切除部分112a，則即使為了支撐條130和拼合掩模110之間更穩定的結合而期望增加焊點113的數目，也因為存在拼合掩模110和基底200之間的附著會變差的可能性，所以不能增加焊點113的數目。然而，根據本發明的當前實施例，當通過形成局部切除部分112a而顯著改善拼合掩模110與基底200之間的附著時，可以通過例如增加焊點113的數目來充分地增大支撐條130與拼合掩模110之間的結合力，并實現了更穩定的、剛性的結構。此外，可以在各種薄膜沉積操作(包括將有機發射層圖案化的操作)中使用用于薄膜沉積的掩模框架組件100。同時，根據本發明的當前實施例，ー對局部切除部分112a彼此平行地形成，但是還可以不同的形式來設置它們。圖4A至圖4C示出了圖3中示出的拼合掩模的改變的結構。例如，如圖4A中所示，可將ー對局部切除部分112b形成為從拼合掩模110的主體的外部向內部會聚。相反地，如圖4B中所示，可以形成散開的ー對局部切除部分112c。另外，如圖4C中所示，還可以形成具有圍繞焊點113的U形的局部切除部分112d。也就是說，只要局部切除部分減弱拼合掩模110和支撐條130之間的約束カ以使沉積圖案111的部分容易地附于基底200，局部切除部分就還可以具有其他各種形式。如上所述，依照根據本發明實施例的用于薄膜沉積的掩模框架組件及其制造方法，可以使拼合掩模和基底在沉積操作過程中彼此緊密地附著，因此可以有效地防止沉積缺陷。雖然已經參照本發明的示例性實施例具體示出并描述了本發明，但是本領域普通技術人員應當理解，在不脫離本發明的由權利要求書限定的精神和范圍的情況下，在此可 以做出形式上和細節上的各種改變。
權利要求
1.一種用于薄膜沉積的掩模框架組件，所述掩模框架組件包括 框架，具有開口部分； 支撐條，安裝在框架上并橫過開口部分；以及 多個拼合掩模，安裝在框架上并橫過開口部分以與支撐條交叉； 其中，每個拼合掩模的兩個端部固定到框架，所述每個拼合掩模在所述每個拼合掩模與支撐條交叉的點處固定到支撐條； 其中，通過切除所述每個拼合掩模的部分，在所述每個拼合掩模固定到支撐條的每個所述點處的周圍形成局部切除部分。
2.根據權利要求I所述的掩模框架組件，其中，多個沉積圖案形成在所述多個拼合掩模中； 其中，拼合掩模與支撐條在所述多個沉積圖案之間的點處彼此交叉。
3.根據權利要求I所述的掩模框架組件，其中，多個支撐條彼此平行地安裝在框架上。
4.根據權利要求I所述的掩模框架組件，其中，通過在所述每個拼合掩模與支撐條交叉的所述點處進行點焊而形成焊點來將所述每個拼合掩模和支撐條彼此固定，一對局部切除部分關于焊點對稱地形成。
5.根據權利要求4所述的掩模框架組件，其中，所述一對局部切除部分從所述每個拼合掩模的外部向內部彼此平行地形成。
6.根據權利要求4所述的掩模框架組件，其中，所述一對局部切除部分按照所述一對局部切除部分從所述每個拼合掩模的外部向內部會聚的方式形成。
7.根據權利要求4所述的掩模框架組件，其中，所述一對局部切除部分按照所述一對局部切除部分從所述每個拼合掩模的外部向內部散開的方式形成。
8.根據權利要求I所述的掩模框架組件，其中，通過在所述每個拼合掩模與支撐條交叉的所述點處進行點焊而形成焊點來將所述每個拼合掩模和支撐條彼此固定，局部切除部分具有圍繞焊點的U形。
9.一種制造用于薄膜沉積的掩模框架組件的方法，所述方法包括下述步驟 準備框架，支撐條安裝在框架上并橫過框架的開口部分； 準備多個拼合掩模，所述多個拼合掩模安裝在框架上并與支撐條交叉； 通過切除每個拼合掩模的部分，在所述每個拼合掩模與支撐條將要交叉的每個點的周圍形成局部切除部分； 將所述每個拼合掩模的兩個端部固定到框架；以及 在所述每個拼合掩模與支撐條交叉的點處將所述每個拼合掩模固定到支撐條。
10.根據權利要求9所述的方法，所述方法還包括下述步驟 在所述每個拼合掩模中形成沉積圖案；以及 在沉積圖案之間的點處將所述每個拼合掩模與支撐條安裝成彼此交叉。
11.根據權利要求9所述的方法，其中，將多個支撐條彼此平行地安裝在框架上。
12.根據權利要求9所述的方法，其中，通過在所述每個拼合掩模與支撐條交叉的所述點處進行點焊而形成焊點來將所述每個拼合掩模和支撐條彼此固定，關于焊點對稱地形成一對局部切除部分。
13.根據權利要求12所述的方法，其中，從所述每個拼合掩模的外部向內部彼此平行地形成所述一對局部切除部分。
14.根據權利要求12所述的方法，其中，按照所述一對局部切除部分從所述每個拼合掩模的外部向內部會聚的方式形成所述一對局部切除部分。
15.根據權利要求12所述的方法，其中，按照所述一對局部切除部分從所述每個拼合掩模的外部向內部散開的方式形成所述一對局部切除部分。
16.根據權利要求9所述的方法，其中，通過在所述每個拼合掩模與支撐條交叉的所述點處進行點焊而形成焊點來將所述每個拼合掩模和支撐條彼此固定，局部切除部分具有圍繞焊點的U形。
全文摘要
本發明公開了一種用于薄膜沉積的掩模框架組件及其制造方法，可用安裝在框架上同時彼此交叉的支撐條和多個棒形拼合掩模來構造該掩模框架組件。通過在支撐條與多個拼合掩模交叉的點處彼此焊接支撐條和拼合掩模而將支撐條和拼合掩模彼此固定，并通過切除拼合掩模的部分，在每個焊點的周圍形成局部切除部分。增強了拼合掩模與基底之間的附著，并通過使用支撐條，防止了拼合掩模下垂。
文檔編號C23C14/04GK102766841SQ201210005289
公開日2012年11月7日 申請日期2012年1月6日 優先權日2011年5月6日
發明者洪宰敏 申請人:三星移動顯示器株式會社