專利名稱：一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，屬于工業(yè)自動(dòng)化領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
離子濺射機(jī)是工業(yè)生產(chǎn)中重要的機(jī)器之一，特別是在信息化的今天，平面型玻璃表面蒸鍍光學(xué)薄膜離不開離子濺射機(jī)。然而圓柱狀光纖側(cè)面也需要像平面型玻璃表面一樣蒸鍍光學(xué)薄膜從而應(yīng)用于工業(yè)領(lǐng)域。本發(fā)明設(shè)計(jì)的真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置將適用 于光纖側(cè)面鍍膜，為光纖鍍膜和生產(chǎn)創(chuàng)造了前所未有的便捷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，光纖側(cè)面如圓柱狀光纖側(cè)面可以通過真空離子濺射裝置蒸鍍光學(xué)薄膜。真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置具有自動(dòng)、快捷、方便和均勻等特點(diǎn)。本發(fā)明通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征在于由固定套管(I)、泵(2)、閥門
(3)、真空室(4)、鈀合金靶(5)、加熱棒(11)、離子引出器(6)、光纖(7)、不銹鋼管(8)、轉(zhuǎn)輪
(9)、電機(jī)(10)和底座(12)組成；光纖(7)從固定套管(I)穿入進(jìn)入不銹鋼針管(8)中，從不銹鋼針管(8)穿出的光纖(7)纏繞在電機(jī)(10)上方的轉(zhuǎn)輪(9)上，使鈀合金鈀(5)被加熱棒加熱并被蒸發(fā)，被蒸發(fā)鈀合金離子可沉積在旋轉(zhuǎn)的光纖(7)上，在光纖表面形成鈀合金膜層，多余的靶合金離子被離子引出器(6)引出裝置。所述的一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征在于固定套管(I)的長(zhǎng)度變化范圍為10-50cm ;電機(jī)轉(zhuǎn)速為0-60rpm可調(diào)。所述的一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征在于被鈀合金鍍膜光纖的種類為單模光纖或者多模光纖或者光子晶體光纖。所述的的一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征在于光纖被鍍膜的長(zhǎng)度范圍根據(jù)固定套管(I)的長(zhǎng)度范圍可調(diào)，鍍膜長(zhǎng)度范圍為10cm-200cm。本發(fā)明的原理為在真空條件下，由固定套管⑴、泵(2)、閥門(3)、真空室(4)、鈀合金靶(5)、加熱棒(11)、離子引出器(6)、光纖(7)、不銹鋼管(8)、轉(zhuǎn)輪(9)、電機(jī)(10)和底座(12)組成；光纖(7)從固定套管(I)穿入進(jìn)入不銹鋼針管(8)中，從不銹鋼針管(8)穿出的光纖(X)纏繞在電機(jī)(10)上方的轉(zhuǎn)輪(9)上，使鈀合金鈀(5)被加熱棒加熱并被蒸發(fā)，被蒸發(fā)鈀合金離子可沉積在旋轉(zhuǎn)的光纖(7)上，在光纖表面形成鈀合金膜層，多余的靶合金離子被離子引出器(6)引出裝置。本發(fā)明的有益效果是光纖側(cè)面可以通過離子濺射鍍膜蒸鍍光學(xué)薄膜，具有精密、自動(dòng)、均勻、快捷和方便等特點(diǎn)。


圖I為一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置示意圖。
具體實(shí)施例方式如圖I所示，一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征是由固定套管(I)、泵
(2)、閥門(3)、真空室(4)、鈀合金靶(5)、加熱棒(11)、離子引出器(6)、光纖(7)、不銹鋼管
(8)、轉(zhuǎn)輪(9)、電機(jī)(10)和底座(12)組成；光纖(7)從固定套管(I)穿入進(jìn)入不銹鋼針管
(8)中，從不銹鋼針管(8)穿出的光纖(7)纏繞在電機(jī)(10)上方的轉(zhuǎn)輪(9)上，使鈀合金鈀
(5)被加熱棒加熱并被蒸發(fā)，被蒸發(fā)鈕合金離子可沉積在旋轉(zhuǎn)的光纖(7)上,在光纖表面形成鈀合金膜層，多余的靶合金離子被離子引出器(6)引出裝置。 光纖(7)從一固定套管(I)穿入進(jìn)入一不銹鋼針管(8)中，從不銹鋼針管(8)穿出的光纖(7)纏繞在電機(jī)軸(10)上方的轉(zhuǎn)輪(9)上，轉(zhuǎn)輪(9)帶動(dòng)光纖(7)與電機(jī)軸緊密配合且一起運(yùn)轉(zhuǎn)。電機(jī)轉(zhuǎn)速為40rpm可調(diào)，同時(shí)可耐300°C高溫，固定套管(I) 口徑為5cm，固定套管(I)的長(zhǎng)度為30cm，鍍膜長(zhǎng)度為100cm。在真空室(4)中，利用氣體放電使鈀合金靶(5)蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在旋轉(zhuǎn)的光纖(7)上，同時(shí)利用離子引出器(6)將多余的離子排除容器外。
權(quán)利要求
1.ー種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征在干由固定套管(I)、泵(2)、閥門(3)、真空室(4)、鈀合金靶(5)、加熱棒(11)、離子引出器(6)、光纖(7)、不銹鋼管(8)、轉(zhuǎn)輪(9)、電機(jī)(10)和底座(12)組成；光纖(7)從固定套管(I)穿入進(jìn)入不銹鋼針管(8)中，從不銹鋼針管(8)穿出的光纖(7)纏繞在電機(jī)(10)上方的轉(zhuǎn)輪(9)上，使鈀合金鈀(5)被加熱棒加熱并被蒸發(fā)，被蒸發(fā)鈀合金離子可沉積在旋轉(zhuǎn)的光纖(7)上，在光纖表面形成鈀合金膜層，多余的靶合金離子被離子引出器(6)引出裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征在于固定套管(I)的長(zhǎng)度變化范圍為10-50cm;電機(jī)轉(zhuǎn)速為0-60rpm可調(diào)。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征在于被鈀合金鍍膜光纖的種類為單模光纖或者多模光纖或者光子晶體光纖。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征在于光纖被鍍膜的長(zhǎng)度范圍根據(jù)固定套管(I)的長(zhǎng)度范圍可調(diào)，鍍膜長(zhǎng)度范圍為10cm-200cm。
全文摘要
一種真空離子濺射光纖鍍鈀合金裝置，其特征為由固定套管(1)、泵(2)、閥門(3)、真空室(4)、鈀合金靶(5)、加熱棒(11)、離子引出器(6)、光纖(7)、不銹鋼管(8)、轉(zhuǎn)輪(9)、電機(jī)(10)和底座(12)組成；光纖(7)從固定套管(1)穿入進(jìn)入不銹鋼針管(8)中，從不銹鋼針管(8)穿出的光纖(7)纏繞在電機(jī)(10)上方的轉(zhuǎn)輪(9)上，使鈀合金鈀(5)被加熱棒加熱并被蒸發(fā)，被蒸發(fā)鈀合金離子可沉積在旋轉(zhuǎn)的光纖(7)上，在光纖表面形成鈀合金膜層，多余的靶合金離子被離子引出器(6)引出裝置。該裝置能自動(dòng)、快速、直接和精確地在光纖側(cè)面蒸鍍均勻薄膜，具有廣闊的市場(chǎng)前景。
文檔編號(hào)C23C14/14GK102660731SQ20121015216
公開日2012年9月12日 申請(qǐng)日期2012年5月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月11日
發(fā)明者劉洋, 李萍, 沈常宇, 牟晟, 董新永, 蔣婷婷, 褚金雷, 鄒新, 鐘川, 馬啟飛 申請(qǐng)人:中國(guó)計(jì)量學(xué)院