本發明涉及一種用于執行等離子體化學氣相沉積過程的裝置，其包括大體圓柱形的諧振器，該諧振器設有包圍諧振腔的圓柱形外壁，該諧振腔具有相對于圓柱軸線基本上旋轉對稱的形狀，諧振器還設有沿相對的圓柱軸線方向限制諧振腔的側壁部，其中該裝置還包括微波波導部，該微波波導部的一端穿過圓柱形外壁延伸到諧振腔中。

背景技術：
以DrakaComteqB.V.的名義的歐洲專利公開文獻EP1867610公開了這樣一種用于制造光纖的裝置。當大功率微波應用于長時間持續的過程時，由于內部反射和對擊穿(arcing)的敏感性，可出現關于負載匹配的問題。如果負載不匹配，則整個結構可能變得過熱。那么，部分微波功率可能無法到達等離子體。另外，其他儀器，像自動調諧儀(autotuner)，也可能變得過熱，導致故障或甚至損壞。而且，如果諧振器，也稱為高頻發熱電極(applicator)，對擊穿敏感，則不能適當使用高頻發熱電極。因此，在使用期間將在一些點發生損壞。擊穿過程消耗大量功率，這意味著等離子體自身可能暫時衰減或甚至消失，這對通過等離子體過程制造的任何產品都有負面結果。關于負載匹配的問題，應注意在徑向方向限制腔的徑向內環實際上太薄而不能在其中應用水冷設備以冷卻環。

技術實現要素：
本發明的目的是提供一種根據前序部分的裝置，其中改善負載匹配同時不增加對擊穿的敏感度。另外，根據本發明，諧振腔在圓柱形方向上的長度根據到圓柱軸線的徑向距離變化。本發明部分基于的觀點是，在避免可能出現誘發擊穿的銳邊的同時能夠改變腔的幾何形狀以改善負載匹配。通過根據到圓柱軸線徑向距離改變諧振腔在圓柱形方向上的長度，也稱為腔的寬度，能夠獲得改善的負載匹配，同時能夠保持使微波波導部與諧振器之間能夠電磁耦合的結構。因此，根據本發明的方案，在不引入額外的銳邊的情況下改變腔的形狀，以改善匹配并消除任何進一步擊穿的幾率。在具體優選實施例中，諧振腔在圓柱形方向上至少部分被圓錐的表面限制，該圓錐具有與諧振器的圓柱軸線基本一致的縱軸線，并向腔的相對側表面逐漸變細，使得同時滿足匹配和將擊穿條件最小化。根據本發明的其他優選實施例在所附的權利要求書中描述。附圖說明現在將參照附圖描述僅作為示例給出的本發明的實施例，其中：圖1示出根據本發明的裝置的第一實施例的示意性截面側視圖；圖2A示出根據本發明的裝置的第二實施例的示意性截面側視圖；圖2B示出根據本發明的裝置的第三實施例的示意性截面側視圖；圖2C示出根據本發明的裝置的第四實施例的示意性截面側視圖；圖2D示出根據本發明的裝置的第五實施例的示意性截面側視圖；以及圖2E示出根據本發明的裝置的第六實施例的示意性截面側視圖。具體實施方式應注意，附圖僅示出根據本發明的優選實施例。在圖中，相同的附圖標記表示相同或相應的零件。圖1示出根據本發明的裝置1的第一實施例的示意性截面側視圖。裝置1包括大體圓柱形的諧振器2。該裝置還包括將微波引導至諧振器2的微波波導部3。微波波導部3優選為矩形，使得波導3與諧振器2之間能夠形成最優界面。該裝置能夠用于執行等離子體化學氣相沉積過程。諧振器2設有包圍諧振腔5的圓柱形外壁4。腔具有相對于圓柱軸線C基本上旋轉對稱的形狀。諧振器2還設有在相對的圓柱軸...