專利名稱：一種真空鍍膜裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種真空鍍膜裝置。
背景技術：
在真空鍍膜裝置中，通常將待鍍膜的基片放入真空室內，并由安裝在基片承載部上的夾具對基片進行夾持，然后由轉動軸帶動基片承載部轉動，并由離子源對置放在鍍膜材料置放部的鍍膜材料進行轟擊，使鍍膜材料濺射并均勻沉積在基片表面。但是在上述鍍膜過程中，鍍膜材料不僅被濺射到基片上，而且也會被濺射到基片承載部上，在多次鍍膜后基片承載部上就會沉積相當多的鍍膜材料，使得鍍膜材料得不到充分地利用，這就造成了鍍膜材料的浪費，同時，由于這些鍍膜材料通常為昂貴的金屬材料,因而也大大增加了鍍膜的成本。

發明內容
鑒于以上問題點，本發明的目的在于提供一種能夠充分利用鍍膜材料進行鍍膜的
真空鍍膜裝置。本發明為了達到以上的目的，采用了以下結構。本發明的一種真空鍍膜裝置，用于將鍍膜材料鍍到基片上，含有:真空室、轉動軸、鍍膜材料置放部支撐座以及對基片進行夾持的復數個夾具，其特征在于，還具有:兩個鍍膜鍋，一個作為基板，另一個作為用于置放鍍膜材料的鍍膜材料置放部；和一個基板承載部，與轉動軸相連，用于承載作為基板的鍍膜鍋和裝載復數個夾具，其中，鍍膜鍋包括:鍋底板、與該鍋底板固定相連 并環繞鍋底板設置的鍋身，鍋底板含有:定位凸臺、與夾具的形狀相對應并且個數相等的復數個貫穿孔、第一連接部以及第二連接部，第一連接部與基板承載部相對應，用于當鍍膜鍋作為基板時與基板承載部相連接，第二連接部與鍍膜材料置放部支撐座相對應，用于當鍍膜鍋作為鍍膜材料置放部時與鍍膜材料置放部支撐座相連接，基板承載部包含:與轉動軸相匹配的定位座和與該定位座固定相連的承載板，定位座與轉動軸相連，承載板上設有:與定位凸臺相對應的定位凹槽、與第一連接部相對應的連接固定部以及與復數個貫穿孔和復數個夾具相對應用于連接該復數個夾具的夾具裝載部，當鍍膜鍋作為基板時，夾具的連接軸穿過貫穿孔與夾具裝載部相連。進一步地，在本發明的真空鍍膜裝置中，還可以具有這樣的特征:定位凸臺上設有第一外螺紋、定位凹槽內設有與第一外螺紋相匹配的第一內螺紋，在鍋底板作為基板時，定位凸臺與定位凹槽通過第一外螺紋與第一內螺紋相連接。進一步地，在本發明的真空鍍膜裝置中，還可以具有這樣的特征:第一連接部含有若干個第一螺紋孔，連接固定部含有:與第一螺紋孔的形狀相對應，并且個數與若干個第一螺紋孔的個數相同的若干個第二螺紋孔；以及與第一螺紋孔和第二螺紋孔相對應，并且個數與第二螺紋孔的個數相同的若干個第一螺栓。進一步地，在本發明的真空鍍膜裝置中，還可以具有這樣的特征:鍋底板的形狀為圓臺形。進一步地，在本發明的真空鍍膜裝置中，還可以具有這樣的特征:鍋底板的厚度在1^4mm范圍內。 進一步地，在本發明的真空鍍膜裝置中，還可以具有這樣的特征:轉動軸與定位座采用螺紋連接、嵌合連接、卡合連接中的任一種連接方式相連。進一步地，在本發明的真空鍍膜裝置中，還可以具有這樣的特征:轉動軸與定位座采用螺紋連接方式相連，轉動軸含有用于安裝基板承載部的安裝部，安裝部含有多個第二螺栓，定位座包括與多個第二螺栓相對應，并且個數相等的多個第三螺紋孔。進一步地，在本發明的真空鍍膜裝置中，還可以具有這樣的特征:夾具裝載部包括與復數個夾具的個數相等的復數個夾具裝載臺。進一步地，在本發明的真空鍍膜裝置中，還可以具有這樣的特征:夾具的連接軸與夾具裝載臺采用螺紋連接、 嵌合連接、卡合連接中的任一種連接方式相連。進一步地，在本發明的真空鍍膜裝置中，還可以具有這樣的特征:夾具的連接軸與夾具裝載臺采用螺紋連接方式相連，夾具的連接軸上含有第二外螺紋，夾具裝載臺具有與連接軸相對應的裝載凹槽，該裝載凹槽內設有第二內螺紋。發明的作用與效果根據本發明涉及的真空鍍膜裝置，因為該真空鍍膜裝置不僅含有真空室、轉動軸、鍍膜材料置放部支撐座以及對基片進行夾持的復數個夾具，還含有兩個鍍膜鍋和一個基板承載部，一個鍍膜鍋作為基板，另一個鍍膜鍋作為鍍膜材料置放部，所以當作為基板的鍍膜鍋上已沉積了一定量的鍍膜材料后，操作員可以將作為基板的鍍膜鍋與作為鍍膜材料置放部的鍍膜鍋交換位置使用，即、將原本作為基板的鍍膜鍋安裝在鍍膜材料置放部支撐座上以作為鍍膜材料置放部使用，并將原本作為鍍膜材料置放部的鍍膜鍋安裝在轉動軸上以作為基板使用，這時就不要另外在鍍膜材料置放部上放置鍍膜材料，而可以直接將鍍膜材料置放部上沉積的鍍膜材料轟擊到基片表面，對基片進行鍍膜。因此，該真空鍍膜裝置備使得未鍍在基片上的那些鍍膜金屬也得到了有效地利用，從而達到了充分利用鍍膜材料進行鍍膜的目的，而且也大大降低了鍍膜的成本。


圖1是本發明涉及的真空鍍膜裝置在實施例中的結構示意圖；圖2是本發明涉及的鍍膜鍋在實施例中的結構示意圖；圖3是本發明涉及的鍍膜鍋在實施例中的底視圖；以及圖4是本發明涉及的基板承載部在實施例中的結構示意圖。
具體實施例方式以下結合附圖對本發明所涉及的真空鍍膜裝置的優選實施例做詳細闡述，但本發明并不僅僅限于該實施例。為了使公眾對本發明有徹底的了解，在以下本發明優選實施例中詳細說明了具體的細節。實施例圖1是本發明涉及的真空鍍膜裝置在實施例中的結構示意圖。
如圖1所示，真空鍍膜裝置10用于將鍍膜材料11鍍到圖中未顯示的基片上，它含有:真空室12、轉動軸13、復數個夾具14、兩個鍍膜鍋15、基板承載部16、鍍膜材料置放部支撐座17、離子源18。真空室12用于提供真空的鍍膜環境。轉動軸13安裝在真空室12內，進行轉動從而帶動基板承載部16進行轉動，使得鍍膜材料能夠均勻沉積在基片(圖中未顯示)的表面。夾具14用于對基片(圖中未顯示)進行夾持。在本實施例中，共設有八個夾具14，圖1中只顯示了四個夾具14，另外四個未顯示出來。兩個鍍膜鍋15的結構完全相同，這兩個鍍膜鍋15中的一個作為基板，另一個作為用于置放鍍膜材料11的鍍膜材料置放部。在本實施例中，如圖1所示，這兩個鍍膜鍋15均包括鍋底板19和鍋身20。圖2是本發明涉及的鍍膜鍋在實施例中的結構示意圖。如圖2所示，在本實施例的鍍膜鍋15中鍋底板19的形狀為圓臺形，鍋底板19的厚度在f 4mm范圍內。鍋身20與鍋底板19固定相連并環繞鍋底板設置。鍋底板19與鍋身20圍成一個凹槽結構，當鍍膜鍋15作為鍍膜材料置放部時，鍍膜材料11被放置在該凹槽結構中。圖3是本發明涉及的鍍膜鍋在實施例中的底視圖。如圖2、3所示，鍋底板19含有:定位凸臺21、復數個貫穿孔22、第一連接部23以及第二連接部24。在本實施例中，定位凸臺21上設有第一外螺紋21a。貫穿孔22與夾具14的形狀相對應，并且貫穿孔22的個數與夾具14的個數相等，由于夾具14個數為八個，因此，在本實施例中，鍋底板19上共設有八個貫穿孔22，當鍍膜鍋15作為基板時，夾具14的連接軸14a能夠穿過貫穿孔22與夾具裝載部29相連。第一連接部23與基板承載部16相對應，用于當鍍膜鍋15作為基板時與基板承載部16相連接，在本實施例中，該第一連接部23含有若干個第一螺紋孔23a。在本實施例中，如圖1、3所示，第一連接部23共設有八個第一螺紋孔23a。第二連接部24與鍍膜材料置放部支撐座17相對應，用于當鍍膜鍋15作為鍍膜材料置放部時與鍍膜材料置放部支撐座17相連接。如圖1所示，基板承載部16與轉動軸13相連，用于承載作為基板的鍍膜鍋15，并且裝載復數個的夾具14。圖4是本發明涉及的基板承載部在實施例中的結構示意圖。如圖1、4所示，基板承載部16包含:定位座25和承載板26。定位座25與轉動軸13相連。承載板26上設有定位凹槽27、連接固定部28以及夾具裝載部29。定位凹槽27與定位凸臺21相對應,用于固定該定位凸臺21。在本實施例中，定位凹槽27上設有與第一外螺紋21a相匹配的第一內螺紋27a。連接固定部28與第一連接部23相對應，用于與第一連接部23固定相連。在本實施例中，連接固定部28含有若干個第二螺紋孔28a和圖中未顯不的若干個第一螺栓。第二螺紋孔28a與第一螺紋孔23a的形狀相對應，并且個數與第一螺紋孔23a的個數相同為八個。第一螺栓(圖中未顯示)的個數與第二螺紋孔28a的個數相同也為八個，并且與第一螺紋孔23a和第二螺紋孔28a的形狀相對應。夾具裝載部29與復數個貫穿孔22和復數個夾具14相對應，用于連接該復數個夾具14。在本實施例中，夾具裝載部29包括與夾具14的個數相等的八個夾具裝載臺30，并且在夾具裝載臺30內設有連接軸14a相對應的裝載凹槽30a。在本實施例中，夾具14的連接軸14a上含有圖中未顯示的第二外螺紋。與該第二外螺紋相對應地在該裝載凹槽30a內設有圖中未顯示的第二內螺紋。這樣使得連接軸14a與夾具裝載臺30通過螺紋連接方式相連。如圖1所示，在本實施例中，轉動軸13含有用于安裝基板承載部16的安裝部31，該安裝部31中設有四個第二螺栓31a，圖1中只顯示除了兩個第二螺栓31a。如圖4所示，定位座25包括與這些第二螺栓31a相對應的四個第三螺紋孔25a。這樣使得轉動軸13與定位座25采用螺紋連接方式相連。鍍膜材料置放部支撐座17用于支撐作為鍍膜材料置放部的鍍膜鍋15。在本實施例中，如圖1所示，該鍍膜材料置放部支撐座17上設有按照一定間隔排列的兩個螺栓17a。如圖1、3所示，在本實施例中，八個第一螺紋孔23a的都形狀與螺栓17a的形狀相對應，并且任意兩個相對向的第一螺紋孔23a的間隔與兩個螺栓17a的間隔相同，因此，任意兩個相對向的第一螺紋孔23a即可組成第二連接部24與兩個螺栓17a通過螺紋相連。如圖1所示，在真空鍍膜裝置10中，離子源18用于發射離子流，從而對置放在鍍膜材料置放部的鍍膜材料11進行進行轟擊，將鍍膜材料11濺射并沉積在基片(圖中未顯示)的表面。

在本實施例中，如圖1至4所示，將基板承載部16與轉動軸13相連，然后將一個鍍膜鍋15作為基板，使它的定位凸臺21與基板承載部16上的定位凹槽27通過螺紋方式相連接，再將夾具14的連接軸14a穿過作為基板的鍍膜鍋15上的貫穿孔22再與夾具裝載部29通過螺紋方式相連，從而將夾具安裝到基板承載部16上。接著將另一個鍍膜鍋15作為鍍膜材料置放部，使它的鍋底板19上的兩個相對向的第一螺紋孔23a與鍍膜材料置放部支撐座17上的兩個螺栓17a通過螺紋相連，從而將該鍍膜鍋15固定在鍍膜材料置放部支撐座17上。再將鍍膜材料11置放在作為鍍膜材料置放部的鍍膜鍋15中。然后采用離子源18發射離子流，對鍍膜材料11進行進行轟擊，將鍍膜材料11濺射并沉積在基片(圖中未顯示)的表面，對基片(圖中未顯示)進行鍍膜。然后，當作為基板的鍍膜鍋15上已經沉積了一定量的鍍膜材料11后，讓操作員將兩個鍍膜鍋15拆卸下來，并將原本作為基板的鍍膜鍋15安裝在鍍膜材料置放部支撐座17上以作為鍍膜材料置放部使用，并將原本作為鍍膜材料置放部的鍍膜鍋15安裝在轉動軸13上以作為基板使用，這時就不要另外在作為鍍膜材料置放部使用的鍍膜鍋15上放置鍍膜材料了，而可以采用離子源18直接將作為鍍膜材料置放部使用的鍍膜鍋15上沉積的鍍膜材料轟擊到基片(圖中未顯示)表面，對基片(圖中未顯示)進行鍍膜。實施例的作用與效果根據本實施例所涉及的真空鍍膜裝置，因為該真空鍍膜裝置不僅含有真空室、轉動軸、鍍膜材料置放部支撐座以及對基片進行夾持的復數個夾具，還含有兩個鍍膜鍋和一個基板承載部，一個鍍膜鍋作為基板，另一個鍍膜鍋作為鍍膜材料置放部，所以當作為基板的鍍膜鍋上已沉積了一定量的鍍膜材料后，操作員可以將作為基板的鍍膜鍋與作為鍍膜材料置放部的鍍膜鍋交換位置使用，即、將原本作為基板的鍍膜鍋安裝在鍍膜材料置放部支撐座上以作為鍍膜材料置放部使用，并將原本作為鍍膜材料置放部的鍍膜鍋安裝在轉動軸上以作為基板使用，這時就不要另外在鍍膜材料置放部上放置鍍膜材料，而可以采用離子源直接將作為鍍膜材料置放部的鍍膜鍋上沉積的鍍膜材料轟擊到基片表面，對基片進行鍍膜。因此，該真空鍍膜裝置備使得未鍍在基片上的那些鍍膜金屬也得到了有效地利用，從而達到了充分利用鍍膜材料進行鍍膜的目的，而且也大大降低了鍍膜的成本。另外，由于鍍膜鍋的鍋底板的厚度在廣4_范圍內，這一厚度足夠薄，因此可以確保離子流對放置在作為鍍膜材料置放部的鍍膜鍋上的鍍膜材料能夠進行有效地轟擊。當然，本發明所涉及的真空鍍膜裝置并不僅僅限定于在本實施例中的結構。在本實施例的真空鍍膜裝置中，夾具的連接軸與夾具裝載臺是采用螺紋連接。在本發明的真空鍍膜裝置中，根據不同的實際安裝需要，夾具的連接軸與夾具裝載臺也可以采用嵌合連接或卡合連接。另外，在本實施例的真空鍍膜裝置中，轉動軸與定位座是采用螺紋連接的。在本發明的真空鍍膜裝置中，根據不同 的實際安裝需要，轉動軸與定位座也可以采用嵌合連接或卡合連接。
權利要求
1.一種真空鍍膜裝置，用于將鍍膜材料鍍到基片上，含有:真空室、轉動軸、鍍膜材料置放部支撐座以及對所述基片進行夾持的復數個夾具，其特征在于，還具有: 兩個鍍膜鍋，一個作為基板，另一個作為用于置放所述鍍膜材料的鍍膜材料置放部；和一個基板承載部，與所述轉動軸相連，用于承載作為基板的所述鍍膜鍋和裝載所述復數個夾具， 其中，所述鍍膜鍋包括:鍋底板、與該鍋底板固定相連并環繞所述鍋底板設置的鍋身，所述鍋底板含有:定位凸臺、與所述夾具的形狀相對應并且個數相等的復數個貫穿孔、第一連接部以及第二連接部，所述第一連接部與所述基板承載部相對應，用于當所述鍍膜鍋作為基板時與所述基板承載部相連接，所述第二連接部與所述鍍膜材料置放部支撐座相對應，用于當所述鍍膜鍋作為鍍膜材料置放部時與所述鍍膜材料置放部支撐座相連接， 所述基板承載部包含:與所述轉動軸相匹配的定位座和與該定位座固定相連的承載板，所述定位座與所述轉動軸相連，所述承載板上設有:與所述定位凸臺相對應的定位凹槽、與所述第一連接部相對應的連接固定部以及與所述復數個貫穿孔和所述復數個夾具相對應用于連接該復數個夾具的夾具裝載部， 當所述鍍膜鍋作為基板時，所述夾具的連接軸穿過所述貫穿孔與所述夾具裝載部相連。
2.根據權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于: 其中，所述定位凸臺上設有第一外螺紋、所述定位凹槽內設有與所述第一外螺紋相匹配的第一內螺紋， 在所述鍋底板作為基板時，所述定位凸臺與所述定位凹槽通過所述第一外螺紋與所述第一內螺紋相連接。
3.根據權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于: 其中，所述第一連接部含有若干個第一螺紋孔， 所述連接固定部含有:與所述第一螺紋孔的形狀相對應，并且個數與所述若干個第一螺紋孔的個數相同的若干個第二螺紋孔；以及與所述第一螺紋孔和所述第二螺紋孔相對應，并且個數與所述第二螺紋孔的個數相同的若干個第一螺栓。
4.根據權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于: 其中，所述鍋底板的形狀為圓臺形。
5.根據權利要求1或4所述的真空鍍膜裝置，其特征在于: 其中，所述鍋底板的厚度在f 4mm范圍內。
6.根據權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于: 其中，所述轉動軸與所述定位座采用螺紋連接、嵌合連接、卡合連接中的任一種連接方式相連。
7.根據權利要求6所述的真空鍍膜裝置，其特征在于: 其中，所述轉動軸與所述定位座采用螺紋連接方式相連， 所述轉動軸含有用于安裝所述基板承載部的安裝部，所述安裝部含有多個第二螺栓， 所述定位座包括與所述多個第二螺栓相對應，并且個數相等的多個第三螺紋孔。
8.根據權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于: 其中，所述夾具裝載部包括與所述復數個夾具的個數相等的復數個夾具裝載臺。
9.根據權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于: 其中，所述夾具的連接軸與所述夾具裝載臺采用螺紋連接、嵌合連接、卡合連接中的任一種連接方式相連。
10.根據權利要求9所述的真空鍍膜裝置，其特征在于: 其中，所述夾具的連接軸與所述夾具裝載臺采用螺紋連接方式相連， 所述夾具的連接軸上含有第二外螺紋， 所述夾具裝載臺具有與所述連接軸相對應的裝載凹槽，該裝載凹槽內設有第二內螺紋。
全文摘要
本發明提供一種能夠能夠充分利用鍍膜材料進行鍍膜的真空鍍膜裝置。本發明的一種真空鍍膜裝置，用于將鍍膜材料鍍到基片上，含有真空室、轉動軸、鍍膜材料置放部支撐座以及對基片進行夾持的復數個夾具，其特征在于，還具有兩個鍍膜鍋，一個作為基板，另一個作為用于置放鍍膜材料的鍍膜材料置放部；和一個基板承載部，與轉動軸相連，用于承載作為基板的鍍膜鍋和裝載復數個夾具。
文檔編號C23C14/50GK103147052SQ20131009340
公開日2013年6月12日 申請日期2013年3月20日 優先權日2013年3月20日
發明者徐海波, 仲梁維 申請人:上海理工大學