對準掩模組件方法
【專利摘要】一種對準掩模組件的方法，包括：提供包括掩模和掩?？蚣艿难谀＝M件；以及通過獨立地移動掩模框架的下部和掩?？蚣艿纳喜恐兄辽僦坏奈恢谜{整掩模框架。
【專利說明】對準掩模組件方法

【技術領域】
[0001]本發明實施方式的多個方面涉及通過使用沉積裝置的對準掩模組件方法。

【背景技術】
[0002]作為平板顯示器，液晶顯示器(IXD)和有機發光二極管(0LED)顯示器是眾所周知的。平板顯示器包括具有預定圖案的金屬層，并且在有機發光二極管(0LED)顯示器的情況下，每個像素形成有具有該預定圖案的有機發光層?？蓱檬褂糜糜谛纬山饘賹雍陀袡C發光層的掩模的沉積方法。
[0003]因為平板顯示器的尺寸增大，所以掩模導致掩模圖案開口的不一致性以及像素位置精度(PPA)的降低。
[0004]【背景技術】部分中公開的上述信息僅用于增強對本發明背景的理解，因此，上述信息可包括并不構成該國的本領域普通技術人員公知的現有技術的信息。


【發明內容】

[0005]根據本發明實施方式的多個方面，沉積裝置控制施加至掩模的張力的減小和增大，并防止或基本防止掩模框架的扭曲，并且提供了使用該沉積裝置的掩模組件對準方法。
[0006]根據本發明實施方式的一方面，提供了通過使用沉積裝置的掩模組件對準方法，其中該沉積裝置包括使用在薄膜(如有機發光層或金屬層)沉積過程中的薄膜沉積掩模組件。
[0007]根據本發明的一個或多個示例性實施方式，使用沉積裝置的掩模組件對準方法包括:提供包括掩模和掩?？蚣艿难谀＝M件；以及通過獨立地移動掩?？蚣艿南虏亢脱谀？蚣艿纳喜恐兄辽僦坏奈恢茫{整掩?？蚣?。
[0008]在調整掩模框架的步驟中，可通過使用下框架位置控制器和上框架位置控制器相等地移動掩?？蚣艿纳喜亢拖虏浚栽黾踊驕p小施加至掩模的張力，其中下框架位置控制器和上框架位置控制器安裝至用于固定掩模組件的掩模臺。
[0009]在調整掩?？蚣艿牟襟E中，可通過使用下框架位置控制器和上框架位置控制器，使掩?？蚣艿纳喜康奈恢靡苿拥帽妊谀？蚣艿南虏康奈恢酶h，以控制掩?？蚣艿呐で?，其中下框架位置控制器和上框架位置控制器安裝至用于固定掩模組件的掩模臺。
[0010]下框架位置控制器可連接至掩模臺的下部，上框架位置控制器可連接至掩模臺的上部。
[0011]下框架位置控制器可包括下支承件、下驅動器、和下驅動力傳輸單元，其中下驅動器安裝至下支承件并配置成產生第一驅動力，下驅動力傳輸單元連接至下驅動器，以通過使用第一驅動力控制掩?？蚣艿南虏康奈恢?，而上框架位置控制器可包括上支承件、上驅動器、和上驅動力傳輸單元，其中上驅動器安裝至上支承件并配置成產生第二驅動力，上驅動力傳輸單元連接至上驅動器，以通過使用第二驅動力控制掩模框架的上部的位置。
[0012]下驅動器和上驅動器均可包括馬達，而下驅動力傳輸單元和上驅動力傳輸單元均可包括螺紋部分。該方法還可包括:安裝防塵器至下框架位置控制器和上框架位置控制器。
[0013]下框架位置控制器和上框架位置控制器中至少之一以與下框架位置控制器和上框架位置控制器中另一個的數量不同的數量設置有多個。
[0014]根據本發明實施方式的一方面，沉積裝置安裝連接在掩模臺之下的下框架位置控制器以及連接在掩模臺上的上框架位置控制器，以使得可通過使用下框架位置控制器和上框架位置控制器使掩模框架的上部和下部移動，從而掩?？蚣艿纳喜康奈恢每杀灰苿拥帽妊谀？蚣艿南虏康奈恢酶h。因此，在由張力扭曲的掩模框架中，可消除或減小扭曲。因此，可補償或減小由掩?？蚣艿呐で冃沃率沟难谀Ｅc襯底之間增大的間隔。
[0015]根據本發明實施方式的另一方面，可減小掩模與襯底之間的間隔，以使得可最小化或減少沉積過程中由于由掩模覆蓋的阻擋區域的增加而導致的缺陷。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1是根據本發明示例性實施方式的沉積裝置的俯視圖；
[0017]圖2是圖1的沉積裝置的側視圖；
[0018]圖3和圖4順序示出了根據本發明示例性實施方式的使用沉積裝置的掩模組件對準方法，該方法作為通過去除掩模框架的扭曲來對準掩模組件的方法；
[0019]圖5和圖6順序示出了根據本發明示例性實施方式的使用沉積裝置的掩模組件對準方法，該方法作為通過掩?？蚣艿乃椒较蜻\動對準掩模組件的方法；
[0020]圖7是根據本發明另一示例性實施方式的沉積裝置的俯視圖；
[0021]圖8是根據本發明另一示例性實施方式的沉積裝置的俯視圖。
[0022]指示附圖中一些元件的附圖標記的描述
[0023]20:掩模30:掩?？蚣?br> [0024]40:掩模臺50:框架位置控制器
[0025]51:下框架位置控制器52:上框架位置控制器
[0026]60:防塵器

【具體實施方式】
[0027]下文中將參照附圖更全面地描述本發明，在附圖中示出了本發明的一些示例性實施方式。如本領域技術人員將認識到的，可以各種不同的方式修改描述的實施方式，而不背離本發明的范圍或精神。因此，附圖和描述應被認為本質上是說明性的，而不是限制性的。
[0028]在說明書中，除非明確相反地描述，詞語“包括(compr i se) ”及其變型“包括(comprises) ”或“包括(comprising) ”應理解為意指包括描述的元件，但不排除任何其他元件。另外，應理解，當元件如層、膜、區域、或襯底被認為在另一元件“上(on)”時，其可直接在其他元件上或還可存在插入的元件。相反，當一個元件被稱為直接在另一元件“上(on)”時，應理解，不存在插入的元件。此外，在說明書中，應理解，詞語“上(on)”是指定位在目標部分上或之下，而不僅指基于重力方向定位在目標部分的上側上。
[0029]圖1是根據本發明示例性實施方式的沉積裝置的俯視圖；以及圖2是圖1的沉積裝置的側視圖。
[0030]如圖1和圖2所示，根據本發明示例性實施方式的沉積裝置包括沉積室1、沉積源10、掩模20、以及掩?？蚣?0。另外根據本發明示例性實施方式的沉積裝置還包括至少一個掩模臺40、至少一個框架位置控制器50、以及將框架位置控制器50固定至沉積室I的固定構件70。
[0031]當在沉積室I中執行沉積過程時，沉積室I維持真空。
[0032]沉積源10安裝在沉積室I內部并噴射沉積材料。在一個實施方式中，沉積源10通過使用加熱構件加熱填充有沉積材料的沉積容器來向上噴射沉積材料。在一個實施方式中，沉積室I中可設有多個沉積源10。
[0033]掩模20與沉積源10間隔開，以使得沉積材料以預定圖案進行沉積。在一個實施方式中，掩模20是具有長度(L)和寬度(W)、以及多個圖案開口 20a的四邊形薄金屬板。圖案開口 20a形成為與將被沉積的薄膜具有相同的形狀。因此，在沉積過程中，沉積材料穿過圖案開口 20a并沉積在襯底100上，從而形成具有期望的形狀和圖案的薄膜(例如，金屬層、有機發光層等)。
[0034]掩模20定位在沉積源10上方，并且襯底100在一個實施方式中定位在掩模20之上并與掩模20間隔開距離(例如，預定距離)(d)。
[0035]掩?？蚣?0支承掩模20并具有比掩模20的尺寸更大的形狀(例如，方形)，并且掩模20例如通過焊接固定至掩?？蚣?0。
[0036]在一個實施方式中，掩?？蚣?0具有形成方形框架形狀的四個邊，并且這四個邊分別包括與掩模20相接觸的框架上表面30a。掩?？蚣?0從框架上表面30a在向下方向上延伸，并具有預定的高度(h)，使得更接近框架上表面30a的端部為掩?？蚣?0的上部32，而更遠離框架上表面30a的端部為掩?？蚣?0的下部31。
[0037]在一個實施方式中，在使掩模20延伸的狀態中，通過將掩模20焊接至掩?？蚣?0上而完成掩模組件。在沉積裝置中，掩?？蚣?0可由一個固定體以高處理精度制造。因此，在一個實施方式中，在掩模20被延伸并焊接后，施加至掩模20的張力可不增大或減小。如上所述，由于可能不增加或減小施加至掩模20的張力，所以掩模20的拉伸過程及掩模框架30上的焊接過程需要大量時間和努力，并且如果掩模20的拉伸過程和焊接過程異常地執行，則該使用的掩模20必須丟棄。另外，當掩模和掩?？蚣苡糜趫绦谐练e過程時，可能產生掩模中開口尺寸的不一致性以及像素位置準確度的降低，并且在這種情況下，被延伸并焊接在掩模框架30上的掩?？膳c掩模框架分離而被丟棄。根據本發明的實施方式，為避免丟棄掩模20，掩模框架30能夠增加或減少施加至掩模20的張力。然而，在對于掩模框架的一整個邊利用相同移動量來增大或減小張力的方法中，當需要掩模局部變化時，該方法就不符合這種情況，并且雖然可增大或減小張力，但可能不能避免掩模框架30的扭曲。
[0038]也就是說，掩模的中心部分可由掩模20的重量向下陷，并且因此，為了防止或基本防止掩模20的圖案開口 20a被改變，在相反方向上延伸掩模20的兩側的狀態中，掩模20通過焊接附接至掩?？蚣?0，以使得當觀察掩模框架30的橫截面時，撓率產生在掩?？蚣?0中，其中掩?？蚣?0以該撓率被扭曲。因此，掩模框架30傾斜，并且掩模框架30的四邊的上部32比下部31更接近，以使得掩?？蚣?0被扭曲。
[0039]因此，在沉積裝置中使用掩模組件的情況下，掩模20通過掩?？蚣?0的拉伸定位在比預定位置更低的位置，以使得與預定值相比較，將被沉積材料沉積的襯底與掩模20之間的間隔增大。如上所述，當襯底和掩模20之間的間隔增大時，由掩模20覆蓋的阻擋區域增大，以使得將沉積材料沉積在比沉積區域更寬的位置，從而在沉積過程產生缺陷。掩模臺40包括臺槽40a，以固定掩?？蚣?0的四個邊，其中掩?？蚣?0固定至臺槽40a。掩?？蚣?0插設在臺槽40a中，以固定至掩模臺40?？蓪⒁粋€或多個掩模臺40安裝至掩?？蚣?0的一個邊。
[0040]至少一個框架位置控制器50控制掩?？蚣?0的位置?？蚣芪恢每刂破?0包括下框架位置控制器51和上框架位置控制器52，其中下框架位置控制器51連接至掩模臺40的下部41，上框架位置控制器52連接至掩模臺40的上部42。
[0041]在一個實施方式中，下框架位置控制器51包括下支承件511、下驅動器512、以及下驅動力傳輸單元513，其中下驅動器512安裝至下支承件511并產生驅動力，下驅動力傳輸單元513連接至下驅動器512并通過使用驅動力控制掩?？蚣?0的位置。
[0042]在一個實施方式中，下支承件511可以是呈六面體形的框架，并且下驅動器512安裝并固定在下支承件511中。下驅動力傳輸單元513的一端5131連接至下驅動器512，而下驅動力傳輸單元513的另一端5132聯接至螺紋槽40b，螺紋槽40b形成在掩模臺40的下部41中。
[0043]在一個實施方式中，上框架位置控制器52包括上支承件521、上驅動器522、以及上驅動力傳輸單元523，其中上驅動器522安裝至上支承件521并產生驅動力，上驅動力傳輸單元523連接至上驅動器522并通過使用驅動力控制掩?？蚣?0的位置。
[0044]在一個實施方式中，上支承件521可以是呈六面體形的框架，并且上驅動器512安裝并固定在上支承件521中。上驅動力傳輸單元523的一端5231連接至上驅動器522，而上驅動力傳輸單元523的另一端5232聯接至形成在掩模臺40上部42中的螺紋槽40b。
[0045]下驅動器512和上驅動器522均可包括馬達，并且下驅動力傳輸單元513和上驅動力傳輸單元523均可包括螺紋部分。
[0046]通過使用上驅動器522使上驅動力傳輸單元523的螺紋部分旋轉，可使掩模臺40的附接至上驅動力傳輸單元523的上部42朝向沉積室I的側部移動，并且通過使用下驅動器512使下驅動力傳輸單元513的螺紋部分旋轉，可使掩模臺40的附接至下驅動力傳輸單元513的下部41朝向掩模20的中心處移動。
[0047]如上所述，通過使用下框架位置控制器51和上框架位置控制器52獨立地移動掩模框架30的上部32和下部31的位置，可控制掩模框架30的上部32的位置，以與掩模框架30的下部31不同，因此通過施加至掩?？蚣?0的上部32和下部31的張力不平衡而被扭曲的掩?？蚣?0的張力可被控制為一致或基本一致。
[0048]因此，可補償通過掩?？蚣?0的拉伸變形而增大的、掩模20與襯底100之間的間隔或距離⑷。
[0049]另外，可通過使用下框架位置控制器51和上框架位置控制器52而相等地移動掩?？蚣?0的上部32和下部31的位置。
[0050]通過使用上驅動器522使上驅動力傳輸單元523旋轉，可使掩模臺40的附接至上驅動力傳輸單元523的上部42朝向沉積室I的側部移動，并且通過使用下驅動器512使下驅動力傳輸單元513旋轉，可使掩模臺40的附接至下驅動力傳輸單元513的下部41朝向沉積室I的側部移動，如上部42那樣。另外，通過使用上驅動器522使上驅動力傳輸單元523旋轉，可使掩模臺40的附接至上驅動力傳輸單元523的上部42朝向掩模20的中心處移動，并且通過使用下驅動器512使下驅動力傳輸單元513旋轉，可使掩模臺40的附接至下驅動力傳輸單元513的下部41朝向掩模20的中心處移動，如上部42那樣。
[0051]在這種情況下，水平方向的力可施加至掩?？蚣?0，以使得施加至被延伸并焊接至掩?？蚣?0的掩模20的張力可被控制，從而控制掩模20的圖案開口 20a的位置。
[0052]如上所述，可通過使用下框架位置控制器51和上框架位置控制器52額外地增大或減小施加至掩模20的張力，以使得可減少掩模20與掩?？蚣?0之間的初始拉伸過程和焊接過程所需的時間和努力。
[0053]另外，如果沒有以期望的精度執行掩模20與掩模框架30之間的初始拉伸過程和焊接過程，則可通過使用下框架位置控制器51和上框架位置控制器52增大或減小施加至掩模20的張力，可將掩模20的精度調整至期望的值，并可控制掩模20的圖案開口的尺寸和一致性以及像素位置精度(PPA)，而不是丟棄與掩模框架30分離的掩模20，從而降低或使丟棄的掩模的數量最小化，并且減少了掩模更換的時間，以使得沉積裝置的連續處理時間增加，從而提高生產率。
[0054]在一個實施方式中，下框架位置控制器的51和上框架位置控制器52安裝有防塵器60，防塵器60分別從下支承件511和上支承件521延伸，并覆蓋下驅動器512和下驅動力傳輸單元513、以及上驅動器522和上驅動力傳輸單元523。防塵器60防止或基本防止顆粒如在下驅動器512、上驅動器522、下驅動力傳輸單元513、和上驅動力傳輸單元523中生成的灰塵沉積在襯底100上。在一個實施方式中，作為用于遮蔽下驅動器512、上驅動器522、下驅動力傳輸單元513、和上驅動力傳輸單元523不受外部影響的結構的防塵器60可包括O形環或波紋管閥。
[0055]下文參照圖3至圖6描述了根據本發明示例性實施方式的使用沉積裝置的掩模組件對準方法。
[0056]圖3和圖4順序示出了根據本發明示例性實施方式的使用沉積裝置的掩模組件對準方法，該方法作為通過去除掩模框架的扭曲對準掩模組件的方法；圖5和圖6順序示出了根據本發明示例性實施方式的使用沉積裝置的掩模組件對準方法，該方法作為通過掩?？蚣艿乃椒较蜻\動對準掩模組件的方法。
[0057]如圖3所示，在掩?？蚣?0通過施加至掩模20的張力被扭曲的狀態下，如圖4所示，通過使用下框架位置控制器51和上框架位置控制器52，掩?？蚣?0的上部32被移動得比下部31遠，從而去除掩模框架30的拉伸。
[0058]另外，如圖5所示，通過使用下框架位置控制器51和上框架位置控制器52，掩?？蚣?0的下部31和上部32的位置被相等地移動，以增大施加至掩模20的張力，或如圖6所示，以減小施加至掩模20的張力。
[0059]在一個示例性實施方式中，多個下框架位置控制器和上框架位置控制器被安裝至掩模框架30的一個邊。然而，在另一示例性實施方式中，一個下框架位置控制器和一個上框架位置控制器可安裝至掩模框架30的一個邊。
[0060]圖7是根據本發明另一示例性實施方式的沉積裝置的俯視圖。
[0061]除下框架位置控制器和上框架位置控制器的數量以外，圖7所示示例性實施方式與圖1和圖2所示示例性實施方式基本相同，因此省略了相同部件的重復描述。
[0062]如圖7所示，根據本發明另一示例性實施方式的沉積裝置的固定掩?？蚣?0的掩模臺40逐個安裝至掩模框架30的每個邊。另外，一個框架位置控制器50’與安裝至每個邊的掩模臺40相連接?？蚣芪恢每刂破?0’包括支承件501、驅動器502、和驅動力傳輸單元503，其中驅動器502安裝至支承件501并產生驅動力，驅動力傳輸單元503連接至驅動器502，并通過使用驅動力控制掩模框架30的位置。
[0063]如上所述，通過將安裝框架位置控制器50’至掩模臺40，可容易地控制增加或減少的施加至掩模20的張力，其中掩模臺40逐個安裝至掩模框架30的每個邊。
[0064]雖然未示出，但是在圖7所示的示例性實施方式中，下框架位置控制器和上框架位置控制器的數量可以相同。也就是說，在圖7中，所示的框架位置控制器50’是上框架位置控制器，并且還包括與上框架位置控制器相對應的下框架位置控制器。然而，在另一實施方式中，如下所述，下框架位置控制器的數量與上框架位置控制器的數量可以不同。
[0065]圖8是根據本發明另一示例性實施方式的沉積裝置的俯視圖。
[0066]除下框架位置控制器和上框架位置控制器的數量不同以外，圖8所示的示例性實施方式與圖1和圖2所示的示例性實施方式基本相同，因此省略了相同部件的重復描述。
[0067]如圖8所示，根據本發明另一示例性實施方式的沉積裝置的框架位置控制器50”包括下框架位置控制器51和上框架位置控制器50’，其中下框架位置控制器51連接至掩模臺40的下部，上框架位置控制器50’連接至掩模臺40的上部。
[0068]下框架位置控制器51的數量和上框架位置控制器50’的數量可以不同。在圖8中，下框架位置控制器51的數量是二，而上框架位置控制器50’的數量是一。
[0069]如上所述，通過使下框架位置控制器51的數量與上框架位置控制器50’的數量不同，可更容易控制掩模框架30的扭曲。
[0070]雖然已結合當前認為是一些實際示例性實施方式對本發明進行了描述，但應理解，本發明并受公開的實施方式的限制，相反地，本發明旨在涵蓋包括在所附權利要求書及其等同的精神和范圍內的各種修改和等效布置。
【權利要求】
1.一種對準掩模組件方法,包括: 提供掩模組件，所述掩模組件包括掩模和掩?？蚣?；以及 通過獨立地移動所述掩?？蚣艿南虏亢退鲅谀？蚣艿纳喜恐兄辽僦坏奈恢茫{整所述掩模框架。
2.如權利要求1所述的方法，其中， 在調整所述掩?？蚣艿牟襟E中，通過使用下框架位置控制器和上框架位置控制器相等地移動所述掩模框架的上部和所述掩模框架的下部，以增加或減小施加至所述掩模的張力，其中所述下框架位置控制器和所述上框架位置控制器被安裝至用于固定所述掩模組件的掩模臺。
3.如權利要求1所述的方法，其中， 在調整所述掩模框架的步驟中，通過使用下框架位置控制器和上框架位置控制器，所述掩?？蚣艿纳喜康奈恢帽灰苿拥帽人鲅谀？蚣艿南虏康奈恢酶h，以控制所述掩模框架的扭曲，其中所述下框架位置控制器和所述上框架位置控制器被安裝至用于固定所述掩模組件的掩模臺。
4.如權利要求3所述的方法，其中， 所述下框架位置控制器與所述掩模臺的下部相連接，以及 所述上框架位置控制器與所述掩模臺的上部相連接。
5.如權利要求4所述的方法，其中， 所述下框架位置控制器包括: 下支承件； 下驅動器，安裝至所述下支承件，并配置成產生第一驅動力；以及 下驅動力傳輸單元，連接至所述下驅動器，以通過使用 所述第一驅動力控制所述掩?？蚣艿南虏康奈恢?，以及所述上框架位置控制器包括: 上支承件； 上驅動器，安裝至所述上支承件，并配置成產生第二驅動力；以及上驅動力傳輸單元，連接至所述上驅動器，以通過使用所述第二驅動力控制所述掩?？蚣艿纳喜康奈恢?。
6.如權利要求5所述的方法，其中， 所述下驅動器和所述上驅動器均包括馬達， 所述下驅動力傳輸單元和所述上驅動力傳輸單元均包括螺紋部分。
7.如權利要求4所述的方法，還包括: 安裝防塵器至所述下框架位置控制器和所述上框架位置控制器。
8.如權利要求4所述的方法，其中所述下框架位置控制器和所述上框架位置控制器中至少之一以與所述下框架位置控制器和所述上框架位置控制器中另一個的數量不同的數量設置有多個。
【文檔編號】C23C14/04GK104419891SQ201410165421
【公開日】2015年3月18日 申請日期:2014年4月23日 優先權日:2013年9月11日
【發明者】韓政洹 申請人:三星顯示有限公司