技術總結(jié)
本發(fā)明公開了一種鎳鈦系形狀記憶合金，該合金由鈦、鎳、銅、鈷、釹元素構(gòu)成；鈦原子百分比含量為45?50%、鎳的原子百分比含量為30?38%；銅的原子百分比含量為10?13%、鈷的原子百分比含量為10?13%、余量為釹。然后采用磁控濺射的方法制備薄膜合金，再經(jīng)過熱處理而成。本發(fā)明的形狀記憶合金薄膜材料厚度為2?50微米，耐疲勞性能優(yōu)異。

技術研發(fā)人員：不公告發(fā)明人
受保護的技術使用者：蘇州市皎朝納米科技有限公司
文檔號碼：201610536492
技術研發(fā)日：2016.07.08
技術公布日：2016.12.07