1.一種具有提升氣體管路的RH法真空槽，其特征在于，該具有提升管路的RH法真空槽包括:
真空槽，所述真空槽呈豎直放置，其底部插接有兩浸漬管，兩所述浸漬管相互平行，并分別與所述真空槽的內腔相連通；
至少一提升管路，沿豎向布設在所述真空槽的外側，其下端與兩支管路相連通，兩所述支管路上分別安裝有一閥門，兩者的自由端對應與兩所述浸漬管相連通。
2.如權利要求1所述的具有提升氣體管路的RH法真空槽，其特征在于，所述支管路的自由端通過一金屬軟管與所述浸漬管相連接。
3.如權利要求1或2所述的具有提升氣體管路的RH法真空槽，其特征在于，所述提升管路的下端高于所述真空槽的底部，兩者的距離為1～2m。
4.如權利要求3所述的具有提升氣體管路的RH法真空槽，其特征在于，所述提升管路設置有4條，各所述提升管路相互平行。
5.如權利要求1所述的具有提升氣體管路的RH法真空槽，其特征在于，所述提升管路設置有4條，各所述提升管路相互平行。
6.一種RH法真空槽的提升氣體管路的布置方法，該布置方法包括以下步驟：
S1：在豎直放置的真空槽的底部安裝兩個浸漬管，使所述浸漬管與所述真空槽的內腔相連通；
S2：在所述真空槽的外側沿豎向布設至少一提升管路，所述提升管路的下端連通兩支管路，并在各所述支管路上分別安裝一閥門；
S3：將兩所述支管路的自由端對應與兩所述浸漬管相連通。
7.如權利要求6所述的RH法真空槽的提升氣體管路的布置方法，其特征在于，所述支管路的自由端通過一金屬軟管與所述浸漬管相連通。