1.一種鎂鋁尖晶石的制備方法，其特征在于采用直流電弧等離子體噴射化學(xué)氣相沉積制備，步驟如下：
1)將鋁片用砂紙打磨去除表面氧化層，將含有鎳或鎳離子、鎂或鎂離子的混合物涂于鋁片表面，待混合物風(fēng)干后，將鋁片放入直流電弧等離子體噴射化學(xué)氣相沉積反應(yīng)爐中，樣品與陽(yáng)極圈距離為0-40mm；
2)關(guān)閉反應(yīng)爐送樣口，先后啟動(dòng)一級(jí)機(jī)械泵和二級(jí)分子泵抽真空，直至反應(yīng)爐的腔壓、泵壓均達(dá)到-100Pa以下；
3)向真空室內(nèi)通入H2、惰性氣體和N2的混合氣體，將真空度保持在腔壓0-3000Pa、泵壓3000-20000Pa；
4)開啟電源，施加電流和電壓，調(diào)節(jié)樣品與陽(yáng)極圈距離使溫度達(dá)到400-2300℃；
5)溫度達(dá)到步驟4)要求范圍開始計(jì)時(shí)，反應(yīng)時(shí)間為1-100分鐘，期間保持電壓、電流、樣品與陽(yáng)極圈距離等參數(shù)不變；
6)反應(yīng)結(jié)束后，關(guān)閉電源，停止通入H2、惰性氣體和N2的混合氣體，繼續(xù)抽真空至少5分鐘，然后關(guān)閉真空系統(tǒng)，待系統(tǒng)冷卻后，向反應(yīng)爐中沖入空氣，待反應(yīng)爐氣壓與大氣壓相同時(shí)，打開反應(yīng)爐取出制得的目標(biāo)產(chǎn)品。
2.根據(jù)權(quán)利書要求1所述的鎂鋁尖晶石的制備方法，其特征在于：鋁片純度為99.99％、規(guī)格為10mm×20mm×2mm；鎳或鎳離子、鎂或鎂離子的混合物涂抹于鋁片表面的量為1-2毫升。
3.根據(jù)權(quán)利書要求1所述的鎂鋁尖晶石的制備方法，其特征在于：步驟3)和步驟6)中所述H2、惰性氣體和N2純度皆為99.999％，H2流量為100-3000sccm，惰性氣體流量為100-3000sccm，N2流量為10-1000sccm。
4.根據(jù)權(quán)利書要求1所述的鎂鋁尖晶石的制備方法，其特征在于：步驟4)中所述施加的電流為120A，電壓為60V。
5.根據(jù)權(quán)利書要求1或3所述的鎂鋁尖晶石的制備方法，其特征在于：所述的惰性氣體為Ar或He或Ne中的一種。
6.根據(jù)權(quán)利書要求1或2所述的鎂鋁尖晶石的制備方法，其特征在于：鎳或鎳離子、鎂或鎂離子的混合物為硝酸鎳、硝酸鎂混合溶液，母液為純度為≧99.7％的酒精，硝酸鎳、硝酸鎂含量均為0.6mol/L。