1.一種超高真空催化裝置，其特征在于，包括用于傳遞團簇的超高真空傳樣裝置、用于氣相催化的催化裝置、以及用于檢測催化產物的四極質譜儀；超高真空傳樣裝置的出口端與催化裝置的進口端連通，催化裝置的出口端與四極質譜儀進口端連通。
2.根據權利要求1所述的超高真空催化裝置，其特征在于，所述催化裝置包括催化裝置本體、加熱裝置、樣品底座以及外部加熱電源，所述外部電源位于所述催化裝置本體外部，所述樣品底座設于所述催化裝置本體內，所述加熱裝置的一端與所述樣品底座連接，所述加熱裝置的另一端與所述外部加熱電源連接。
3.根據權利要求2所述的超高真空催化裝置，其特征在于，所述催化裝置還包括外部電源儀表以及用于測量團簇電學特性的電輸運測量裝置，所述外部電源儀表設于所述催化裝置本體外部，所述電輸運測量裝置的一端與所述樣品底座連接，所述電輸運測量裝置的另一端與所述外部電源儀表連接。
4.根據權利要求1所述的超高真空催化裝置，其特征在于，所述超高真空傳樣裝置包括傳遞桿、沉積室，所述傳遞桿與所述沉積室連通。
5.根據權利要求4所述的超高真空催化裝置，其特征在于，所述傳遞桿包括第一伸縮桿、第二伸縮桿、襯底夾、所述第一伸縮桿的一端封閉，另一端套設于所述第二伸縮桿的一端，所述第二伸縮桿的另一端與所述襯底夾連接。
6.權利要求5所述的超高真空催化裝置，其特征在于，所述傳遞桿還包括襯底片，所述襯底片與所述襯底夾活動連接。
7.根據權利要求4所述的超高真空催化裝置，其特征在于，所述沉積室還包括用于觀測團簇沉積的觀察窗、沉積腔，所述觀察窗設于所述沉積腔的外部。
8.根據權利要求1所述的超高真空催化裝置，其特征在于，所述超高真空催化裝置還包括插板閥，所述插板閥位于所述催化裝置和所述超高真空傳樣裝置之間。
9.根據權利要求1所述的超高真空催化裝置，其特征在于，所述超高真空催化裝置還包括流量計，所述流量計設置于所述催化裝置的氣體入口處。
10.一種團簇沉積設備，其特征在于，包括團簇產生裝置、質量檢測裝置以及如權利要求1-9任意一項所述的超高真空催化裝置。