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一種用于MOCVD設(shè)備的鎢涂層加熱片及其制備方法與流程

文檔序號:12415800閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種用于MOCVD設(shè)備的鎢涂層加熱片的制備方法,其特征在于包括如下步驟:

a)以純度≥99.99%且平均費氏粒度為1~10μm的高純鎢粉為原料,采用真空熱壓燒結(jié)法獲得密度≥99%理論密度、純度≥99.99%且平均晶粒尺寸≤50μm的鎢板;

b)將所述鎢板加工成重復(fù)環(huán)繞的多環(huán)C形結(jié)構(gòu)的加熱片基體,采用兩片所述加熱片基體對稱安裝布局;

c)利用噴砂機將20~80目的鎢砂打到所述加熱片基體表面,再經(jīng)過丙酮清洗獲得潔凈、粗糙的表面;

d)對所述加熱片基體進行預(yù)熱處理以活化所述加熱片基體表面;

e)提供40~80目的球形鎢粉,對所述球形鎢粉進行烘烤處理;

f)通過等離子噴涂技術(shù),采用所述球形鎢粉在所述加熱片基體表面熱噴涂形成厚度為10~100μm的粗糙鎢涂層,從而獲得所述鎢涂層加熱片。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于MOCVD設(shè)備的鎢涂層加熱片的制備方法,其特征在于:步驟a)中,將所述原料裝入熱壓燒結(jié)模具內(nèi),再將所述熱壓燒結(jié)模具置于真空熱壓燒結(jié)爐中,按5~10℃/min的升溫速率升溫至2000~2300℃,加壓至35~50MPa,保溫保壓150~200min進行真空熱壓燒結(jié)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于MOCVD設(shè)備的鎢涂層加熱片的制備方法,其特征在于:步驟b)中,所述加熱片基體包括由內(nèi)到外依次排列的第一段、第二段、第三段以及第四段,所述第一段、第二段、第三段以及第四段分別由兩個相互平行的C形結(jié)構(gòu)組成;所述第四段的頂端與所述第一段的頂端相連,所述第一段的底端與所述第三段的底端相連,所述第三段的頂端與所述第二段的頂端相連,所述第二段的兩C形結(jié)構(gòu)于底端相連。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于MOCVD設(shè)備的鎢涂層加熱片的制備方法,其特征在于:步驟b)中,所述加熱片基體的厚度為1.5~4mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于MOCVD設(shè)備的鎢涂層加熱片的制備方法,其特征在于:步驟d)中,對所述加熱片基體在80~160℃,真空度≤1×10-5Pa的環(huán)境下進行預(yù)熱處理。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于MOCVD設(shè)備的鎢涂層加熱片的制備方法,其特征在于:步驟e)中,將所述球形鎢粉置于80~150℃的馬弗爐中烘烤90min以上。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于MOCVD設(shè)備的鎢涂層加熱片的制備方法,其特征在于:步驟f)中,在真空度≤1×10-5Pa的環(huán)境下,將所述球形鎢粉注入高溫等離子火焰中并噴涂到所述加熱片基體表面形成所述粗糙鎢涂層。

8.一種由權(quán)利要求1~7任一項所述方法制備的用于MOCVD設(shè)備的鎢涂層加熱片。

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