1.一種蒸鍍設備，包括：蒸鍍腔室，位于所述蒸鍍腔室內的蒸發源，位于所述蒸發源內的坩堝，位于所述蒸鍍腔室內、且可繞自身軸線旋轉的轉軸，與所述轉軸固定連接的遮擋板，所述遮擋板可旋轉至所述蒸發源的上方；其特征在于，還包括：
位于所述遮擋板朝向所述坩堝的一側的棘輪機構，所述棘輪機構中的棘爪與所述轉軸固定連接，所述棘輪機構中的棘輪盤樞裝于所述轉軸；
與所述棘輪機構的棘輪盤固定連接的托盤。
2.根據權利要求1所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述托盤為具有凹槽的扇形托盤。
3.根據權利要求1所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述托盤的底面與所述遮擋板朝向所述坩堝的一面之間的距離大于等于50毫米。
4.根據權利要求2所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述遮擋板為圓形遮擋板。
5.根據權利要求4所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述遮擋板在所述托盤的底面所在的平面內的正投影的第一中心線相對所述托盤在其底面所在的平面內的正投影的第一邊逆時針旋轉的角度大于等于0度小于等于所述遮擋板最大擺動角度的一半，其中所述第一中心線與所述轉軸的軸線相交，所述第一邊靠近所述遮擋板在所述托盤的底面所在的平面內的正投影。
6.根據權利要求5所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述圓形遮擋板的直徑小于等于所述托盤的半徑。
7.根據權利要求5所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述托盤的角度大于等于n倍的所述遮擋板的最大擺動角度且小于等于第一設定角度，其中n大于等于2，所述第一設定角度等于360度與所述遮擋板最大擺動角度的差值。
8.根據權利要求5所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述托盤的角度為180度或270度。
9.根據權利要求1所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述托盤朝向所述坩堝的一面與所述坩堝朝向所述托盤的一面之間的距離大于20毫米。
10.根據權利要求1～9任一項所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述托盤為金屬材料的托盤，且所述托盤的表面設有噴砂層。