1.一種堆棧式濺射鍍膜裝置，用于對基片進行鍍膜，所述鍍膜裝置至少包括真空鍍膜室、進片室和出片室，所述真空鍍膜室的內(nèi)腔為所述基片的鍍膜空間，所述進、出片室分別用于進、出片，其特征在于：
所述真空鍍膜室的一側(cè)設(shè)置有搬送室，所述搬送室的內(nèi)腔與所述真空鍍膜室的內(nèi)腔相連通，兩者內(nèi)腔之間的連通處為搬送口，在所述搬送室內(nèi)設(shè)置有搬送機構(gòu)，所述搬送機構(gòu)實現(xiàn)所述基片在所述搬送室中的輸送并通過所述搬送口實現(xiàn)所述搬送室與所述真空鍍膜室之間的基片交換；
所述進、出片室分別與所述搬送室相連接，所述搬送室的內(nèi)腔與所述進、出片室的內(nèi)腔相連通，所述搬送室與所述進、出片室內(nèi)腔之間的連通處分別為進片口和出片口，在所述進、出片室內(nèi)分別設(shè)置有進片機構(gòu)和出片機構(gòu)，所述進、出片機構(gòu)分別實現(xiàn)所述基片在所述進、出片室中的輸送并通過所述進、出片口實現(xiàn)所述進、出片室與所述搬送室之間的基片交換。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種堆棧式濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述真空鍍膜室內(nèi)設(shè)置有可旋轉(zhuǎn)的基片架，所述基片架上具有若干承載所述基片的工位，所述搬送機構(gòu)配合所述可旋轉(zhuǎn)的基片架實現(xiàn)基片的裝卸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種堆棧式濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述搬送室的搬送機構(gòu)包括機械手和絲桿模組，其中所述機械手用于實現(xiàn)所述搬送室與所述真空鍍膜室之間的基片交換，所述絲桿模組用于實現(xiàn)所述基片在所述搬送室中的輸送。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種堆棧式濺射鍍膜裝置，其特征在于：分設(shè)于所述進、出片室的所述進片機構(gòu)、出片機構(gòu)均包括機械手和皮帶輸送機構(gòu)，其中所述機械手用于實現(xiàn)所述進、出片室與所述搬送室之間的基片交換，所述皮帶輸送機構(gòu)應(yīng)與實現(xiàn)所述基片在所述進、出片室中的輸送。