本實用新型涉及一種硅片噴砂處理裝置，特別涉及一種硅片背面噴砂機。

背景技術：

硅片在生產過程中，將硅錠切割成硅片后部分硅片可能需要進行噴砂處理，以利于硅片的后續處理。

現有技術中沒有專門針對硅片進行噴砂處理的裝置，由于硅片生產過程中可能并不需要對所有硅片進行噴砂，因此，現有技術中對硅片進行噴砂時均在生產現場直接進行，硅片噴砂處理過程中砂料回收率低，并且，由于噴砂時沒有防護措施，硅片的噴砂過程對環境影響大。為此，現有技術中有采用其它噴砂設備對硅片進行噴砂處理，但是現有技術中的噴砂設備結構不合理，長期使用后觀察口上積聚較多的灰塵，觀察口清潔不方便，造成操作人員無法直觀地觀察噴砂過程，影響硅片的噴砂質量。

技術實現要素：

本實用新型的目的是克服現有技術存在的缺陷，提供一種設計簡單，操作方便，提高了生產效率，硅片噴砂的均一性、噴砂厚度精度穩定的硅片背面噴砂機。

實現本實用新型目的的技術方案是：一種硅片背面噴砂機，具有機床；所述機床上設有傳送帶；所述傳送帶的一端安裝有伺服電機；所述傳送帶上方設有噴嘴；所述噴嘴與砂桶連接；所述砂桶與減壓閥相連；所述傳送帶上設有翻轉裝置；所述翻轉裝置包括一對夾持件、提升氣缸和轉動電機；所述夾持件鏡像分布在傳送帶的兩側，夾持件同時與對應的夾持氣缸、提升氣缸和轉動電機連接。

上述技術方案所述夾持件的內側開有與硅片契合的夾持槽，且一對夾持件呈“[]”形位置設置在傳送帶兩側。

上述技術方案所述夾持槽的槽底和內壁均貼有硅膠或橡膠層。

上述技術方案所述噴嘴與凸輪往復機構連接。

上述技術方案所述砂桶內部設有振動篩。

上述技術方案所述伺服電機與變頻器相連。

上述技術方案所述機床上設有光電開關。

上述技術方案所述砂桶與噴嘴之間設有噴砂壓空流量計。

采用上述技術方案后，本實用新型具有以下積極的效果：

(1)本實用新型具有設計簡單，操作方便等特點，提高了生產效率，保證硅片噴砂的均一性、噴砂厚度精度穩定。

(2)本實用新型的夾持件的內側開有與硅片契合的夾持槽，且一對夾持件呈“[]”形位置設置在傳送帶兩側，每個單獨的夾持件呈“匚”形，保證在夾持過程中夾持槽包覆在硅片的周邊及四個腳，保證了翻轉過程中硅片不易掉落損壞。

(3)本實用新型的夾持槽的槽底和內壁均貼有硅膠或橡膠層，防止硅片磨損。

(4)本實用新型的噴嘴與凸輪往復機構連接，保證硅片噴砂的均一性、噴砂厚度精度穩定。

(5)本實用新型的砂桶內部設有振動篩，保證砂的精細度。

附圖說明

為了使本實用新型的內容更容易被清楚地理解，下面根據具體實施例并結合附圖，對本實用新型作進一步詳細的說明，其中

圖1為本實用新型的結構示意圖；

圖2為本實用新型的翻轉裝置的結構示意圖；

具體實施方式

(實施例1)

見圖1和圖2，本實用新型具有機床；機床上設有傳送帶1；傳送帶1的一端安裝有伺服電機2；傳送帶1上方設有噴嘴3；噴嘴3與砂桶4連接；砂桶4與減壓閥5相連；傳送帶1上設有翻轉裝置6；翻轉裝置6包括一對夾持件7、提升氣缸8和轉動電機9；夾持件7鏡像分布在傳送帶1的兩側，夾持件7同時與對應的夾持氣缸10、提升氣缸8和轉動電機9連接。

夾持件7的內側開有與硅片契合的夾持槽，且一對夾持件7呈“[]”形位置設置在傳送帶1兩側。

夾持槽的槽底和內壁均貼有硅膠或橡膠層。

噴嘴3與凸輪往復機構11連接。

砂桶4內部設有振動篩。

伺服電機2與變頻器12相連。

機床上設有光電開關13。

砂桶4與噴嘴3之間設有噴砂壓空流量計14。

以上所述的具體實施例，對本實用新型的目的、技術方案和有益效果進行了進一步詳細說明，所應理解的是，以上所述僅為本實用新型的具體實施例而已，并不用于限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內，所做的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。