本實用新型涉及光學元器件加工裝置領域，具體涉及一種單晶硅柱面拋光工裝。

背景技術：

磨床(grinder，grinding machine)是利用磨具對工件表面進行磨削加工的機床。 大多數的磨床是使用高速旋轉的砂輪進行磨削加工，少數的是使用油石、砂帶等其他磨具和游離磨料進行加工，如珩磨機、超精加工機床、砂帶磨床、研磨機和拋光機等。現有的單晶硅柱面拋光采用磨床進行加工，其拋光效果不佳，即表面粗糙度效果不佳。

技術實現要素：

本實用新型為了解決上述技術問題提供一種單晶硅柱面拋光工裝，其利用人工拋光，拋光效果好。

本實用新型通過下述技術方案實現：

單晶硅柱面拋光工裝，包括夾持裝置和拋光裝置，

所述夾持裝置包括左夾持塊、用于驅動左夾持塊轉動的左驅動件、與左夾持塊相配合的右夾持塊、用于驅動右夾持塊沿左夾持塊和右夾持塊所在直線移動的距離調節裝置、用于驅動右夾持塊轉動的右驅動件；

所述拋光裝置包括載片和設置在載片上的拋光結構。

本實用新型的技術方案將機械和人工相結合，以提高單晶硅柱面拋光的精度。左夾持塊和右夾持塊分別從單晶硅柱體的兩端對單晶硅進行固定，距離調節裝置對左夾持塊和右夾持塊之間的距離進行調節，利于單晶硅的取放；左驅動件和右驅動件分別驅動左夾持塊和右夾持塊同步轉動，即帶動單晶硅轉動；載片以固定拋光結構，也便于人手持拋光裝置。人手持拋光裝置對處于轉動中的單晶硅進行拋光操作，有利于提高對單晶硅柱面拋光的表面粗糙度。

所述拋光結構為具有拋光面的拋光柱。將拋光結構設置為柱形結構而不是片狀結構，便于對拋光結構進行打磨。當拋光結構的拋光面被磨損時，可對拋光柱進行切削，再次制作平整的拋光面。

為了避免拋光柱對單晶硅的破壞，所述拋光柱的截面成圓形或橢圓形。拋光柱的截面成圓形或橢圓形，相比于截面為方形、棱形等結構，其不含有棱角，成圓滑結構，在對單晶硅柱面拋光操作時，可避免棱角劃傷單晶硅柱面，避免拋光效果受到影響。

所述拋光柱有多個，多個拋光柱依次緊挨排列且上表面齊平構成拋光面，所述拋光柱的中心軸位于同一平面上。在對單晶硅柱面拋光時，為了便于施力以提高拋光精度，對拋光面的長度有一定的要求，利用多個拋光柱緊挨排列構成拋光結構，便于對拋光面長度進行調節，當拋光面長度較長時，也可有效的減小拋光結構所占載片的面積。拋光柱截面成圓形或橢圓形，其緊挨排列且中心軸位于同一平面上，使得拋光面具有一條完整的拋光線面。

所述拋光柱的拋光面的長度大于40毫米且小于50毫米。拋光柱固定在載片上，拋光柱形成的拋光面的長度不易過長，當其長度過長，操作時，人工手持載片施加在拋光柱上的力不均勻，影響拋光效果；拋光面的長度也不易過短，既不便于手持，也降低了拋光效率。

所述拋光結構為金剛石。

還包括保護罩，所述左夾持塊和右夾持塊均位于保護罩內，所述保護罩包括下蓋和活動連接在下蓋上的上蓋，所述上蓋和下蓋的同一側均設置有開口。在對高速旋轉的單晶硅柱面進行加工時，冷卻液保持慣性運行，極易對操作人員造成傷害，利用保護罩遮擋冷卻液，避免冷卻液對操作人員的攻擊。開口的設置供人手操作。

為了便于保持加工工件與磨具表面的潤濕，所述上蓋上設置有進水口，所述下蓋上設置有出水口。進水口處進水不僅可實現降溫的目的，而且可保證拋光工裝的自銳性，提高加工效率。

本實用新型與現有技術相比，至少具有如下的優點和有益效果：

1、本實用新型將機械和人工相結合，人手持拋光裝置對處于轉動中的單晶硅進行拋光操作，利用人工拋光，有利于提高對單晶硅柱面拋光的表面粗糙度。

2、本實用新型的拋光柱的拋光面的長度大于40毫米且小于50毫米，使人工作用于拋光面的作用力均勻，提高拋光效果。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本實用新型實施例的進一步理解，構成本申請的一部分，并不構成對本實用新型實施例的限定。在附圖中：

圖1為本實用新型夾持裝置的結構示意圖。

圖2為本實用新型拋光裝置的結構示意圖。

附圖中標記及對應的零部件名稱：

11、左夾持塊；12、左驅動件；21、右夾持塊；22、距離調節裝置；23、右驅動件；31、載片；32、拋光結構；41、下蓋；42、上蓋；43、開口；44、進水口；45、出水口。

具體實施方式

為使本實用新型的目的、技術方案和優點更加清楚明白，下面結合實施例和附圖，對本實用新型作進一步的詳細說明，本實用新型的示意性實施方式及其說明僅用于解釋本實用新型，并不作為對本實用新型的限定。

實施例1

如圖1和圖2所示的一種單晶硅柱面拋光工裝，包括夾持裝置和拋光裝置，

所述夾持裝置包括左夾持塊11、用于驅動左夾持塊11轉動的左驅動件12、與左夾持塊11相配合的右夾持塊21、用于驅動右夾持塊21沿左夾持塊11和右夾持塊21所在直線移動的距離調節裝置22、用于驅動右夾持塊21轉動的右驅動件23；

所述拋光裝置包括載片31和設置在載片31上的拋光結構32。

左驅動件12、右驅動件23均可采用電機等結構實現，其分別控制左夾持塊11、右夾持塊21沿相同方向、相同轉速轉動。距離調節裝置22可采用現有多種結構實現。

操作時，微調距離調節裝置22，使右夾持塊21向遠離左夾持塊11的方向移動，將單晶硅柱體橫放與左夾持塊11、右夾持塊21之間，再次調節距離調節裝置22，使右夾持塊21向相反方向移動以與左夾持塊11配合夾緊單晶硅柱體。控制左驅動件12、右驅動件23，左夾持塊11、右夾持塊21在同步轉動的同時帶動單晶硅轉動，操作人員手持載片，利用拋光結構對單晶硅柱面拋光。本方案即采用機械與人工相結合，提高對單晶硅柱面的拋光的表面粗糙度。

實施例2

本實施例在上述實施例的基礎上做了細化，即所述拋光結構32為具有拋光面的拋光柱。

所述拋光柱可采用截面為圓形或橢圓形的結構。

拋光柱可采用單個實現也可采用多個實現，為了便于拋光結構的設置，優選的拋光柱有多個，多個拋光柱依次緊挨排列且上表面齊平構成拋光面，所述拋光柱的中心軸位于同一平面上。

所述拋光柱的拋光面的長度大于40毫米且小于50毫米。大量實驗證明，拋光面的的長度在45毫米左右時，人工施加在拋光柱上的力均勻，且便于對力道進行控制。優選的可直接將拋光面的長度設置為45毫米。

所述拋光結構32為金剛石。

實施例3

本實施例在上述實施例的基礎上做了優化，即還包括保護罩，所述左夾持塊11和右夾持塊21均位于保護罩內，所述保護罩包括下蓋41和活動連接在下蓋41上的上蓋42，所述上蓋42和下蓋41的同一側均設置有開口43。上蓋和下蓋之間可通過活頁等結構連接。

為了便于對單晶硅柱體拋光情況的觀察，工件保護罩的上蓋42一般為透明狀。

所述上蓋42上設置有進水口44，所述下蓋41上設置有出水口45。

以上所述的具體實施方式，對本實用新型的目的、技術方案和有益效果進行了進一步詳細說明，所應理解的是，以上所述僅為本實用新型的具體實施方式而已，并不用于限定本實用新型的保護范圍，凡在本實用新型的精神和原則之內，所做的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。