本實用新型涉及金屬表面改性設備技術領域，具體為一種利用激光熔覆對鈦合金表面處理裝置。

背景技術：

激光熔覆，作為一種新型的表面改性技術，主要在基體表面添加熔覆材料，通過激光輻照掃描使之與基體表層一起熔凝，在基體表面形成一種具有特殊性能的薄層，從而最大限度開發材料的性能，顯著改善基體材料表面的耐磨、耐蝕、耐熱、抗氧化性等的工藝。激光熔覆作為表面工程技術領域的一種新興技術，因其具有界面為冶金結合、組織極細、熔覆層稀釋率低，厚度可控、熱畸變小等諸多獨特的優點，已成為比較活躍的研究領域。

現有技術中，利用激光熔覆對鈦合金進行處理時，裝置的結構過于復雜，熔覆效率低下，并且在熔覆時需要對熔池進行惰性氣體保護。

技術實現要素：

本實用新型的目的在于提供一種利用激光熔覆對鈦合金表面處理裝置，以解決上述背景技術中提出的結構復雜、熔覆效率低下、需要對熔池進行惰性氣體保護的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種利用激光熔覆對鈦合金表面處理裝置，包括箱體，所述箱體的內腔底部設置有數控機床，所述箱體的內腔頂部中央處設置有激光器，所述激光器的底部設置有激光發出管，所述激光發出管的底部設置有噴頭裝置，所述噴頭裝置的左側設置有進氣管，所述進氣管的另一端連接有儲氣罐，所述儲氣罐通過支架安裝在箱體的內腔左側，所述儲氣罐的頂部設置有加氣管，且加氣管穿過箱體的頂部，所述箱體的內腔右側通過支架安裝有送粉器，所述送粉器的頂部設置有加粉管，且加粉管穿過箱體的頂部，所述送粉器的底部設置有出粉管，所述出粉管的另一端設置有噴嘴。

優選的，所述噴頭裝置包括激光通道，所述激光通道的外側設置有氣體通道，所述氣體通道的左側頂部設置有進氣口，所述氣體通道的底部設置有出氣口。

優選的，所述出氣口為圓形，且出氣口均勻等間距的設置在氣體通道的底部。

優選的，所述噴頭裝置的底部與噴嘴的底部在同一水平線上。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：本實用新型能夠改善鈦合金表面的性能，改善了惰性保護氣體的輸送方法，使惰性保護氣體的保護作用發揮的更好，并且降低了成本，結構簡單，使用方便，具有很強的實用性。

附圖說明

圖1為本實用新型結構示意圖；

圖2為本實用新型噴頭裝置結構示意圖；

圖3為本實用新型噴頭裝置截面結構示意圖；

圖4本實用新型噴頭裝置底部示意圖。

圖中：1箱體、2數控機床、3激光器、4激光發出管、5噴頭裝置、51激光通道、52氣體通道、53進氣口、54出氣口、6進氣管、7儲氣罐、8加氣管、9送粉器、10加粉管、11出粉管、12噴嘴。

具體實施方式

下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。

請參閱圖1-4，本實用新型提供一種技術方案：一種利用激光熔覆對鈦合金表面處理裝置，包括箱體1，所述箱體1的內腔底部設置有數控機床2，所述箱體1的內腔頂部中央處設置有激光器3，所述激光器3的底部設置有激光發出管4，所述激光發出管4的底部設置有噴頭裝置5，所述噴頭裝置5的左側設置有進氣管6，所述進氣管6的另一端連接有儲氣罐7，所述儲氣罐7通過支架安裝在箱體1的內腔左側，所述儲氣罐7的頂部設置有加氣管8，且加氣管8穿過箱體1的頂部，所述箱體1的內腔右側通過支架安裝有送粉器9，所述送粉器9的頂部設置有加粉管10，且加粉管10穿過箱體1的頂部，所述送粉器9的底部設置有出粉管11，所述出粉管11的另一端設置有噴嘴12。

其中，所述噴頭裝置5包括激光通道51，所述激光通道51的外側設置有氣體通道52，所述氣體通道52的左側頂部設置有進氣口53，所述氣體通道52的底部設置有出氣口54，所述出氣口54為圓形，且出氣口54均勻等間距的設置在氣體通道52的底部，改善了惰性保護氣體的輸送方法，提高了保護效率，降低了生產成本，所述噴頭裝置5的底部與噴嘴12的底部在同一水平線上，為了提高熔覆的效率。

工作原理：使用時，將處理過的鈦合金放到數控機床2的頂部，然后打開送粉器9，送粉器9將熔覆材料送入出粉管11中，最后通過噴嘴12噴到鈦合金的表面，然后打開激光器3和儲氣罐7，激光通過噴頭裝置5內的激光通道51，然后照射鈦合金表面覆蓋的熔覆材料，從而改善鈦合金的表面性能，儲氣罐7內的惰性保護氣體通過進氣管6輸入到噴頭裝置5中，然后氣體通過氣體通道52,最后氣體從出氣口54出去，這樣在激光熔覆過程中，保護氣圍繞激光束成環狀分布，保護熔池不受到氧化的作用，提高熔覆的效率。

盡管已經示出和描述了本實用新型的實施例，對于本領域的普通技術人員而言，可以理解在不脫離本實用新型的原理和精神的情況下可以對這些實施例進行多種變化、修改、替換和變型，本實用新型的范圍由所附權利要求及其等同物限定。