1.一種研磨墊，其特征在于，包括：
研磨層，其中所述研磨層包括中心區域、邊緣區域以及位于所述中心區域以及所述邊緣區域之間的主要研磨區域；
至少一環狀溝槽，位于所述研磨層的所述主要研磨區域中；
邊緣溝槽，位于所述研磨層的所述邊緣區域中，且所述邊緣溝槽包括格狀溝槽；以及
至少一徑向延伸溝槽，位于所述研磨層的所述主要研磨區域，且所述徑向延伸溝槽與所述至少一環狀溝槽相連接。
2.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述研磨層具有旋轉中心，所述旋轉中心位于所述研磨層的中心位置，且所述至少一環狀溝槽以所述旋轉中心為中心呈現同心排列。
3.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述邊緣溝槽的所述格狀溝槽的形狀為正方格、長方格、菱形格、梯形格、三角形格、多角形格、或其組合。
4.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述徑向延伸溝槽延伸至所述邊緣區域，且所述徑向延伸溝槽與所述邊緣溝槽相連接。
5.根據權利要求4所述的研磨墊，其特征在于，所述徑向延伸溝槽為所述邊緣溝槽的所述格狀溝槽一部分的延伸。
6.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，還包括中心溝槽，位于所述研磨層的所述中心區域中，且所述中心溝槽包括格狀溝槽。
7.根據權利要求6所述的研磨墊，其特征在于，所述中心溝槽的所述格狀溝槽的形狀為正方格、長方格、菱形格、梯形格、三角形格、多角形格、或其組合。
8.根據權利要求6所述的研磨墊，其特征在于，所述徑向延伸溝槽延伸至所述中心區域，且所述徑向延伸溝槽與所述中心溝槽相連接。
9.根據權利要求6所述的研磨墊，其特征在于，所述徑向延伸溝槽為所述中心溝槽的所述格狀溝槽一部分的延伸。
10.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，在所述研磨層半徑方向上，所述中心區域具有第一寬度，所述主要研磨區域具有第二寬度，所述 邊緣區域具有第三寬度。
11.根據權利要求10所述的研磨墊，其特征在于，
所述第一寬度為所述研磨層半徑的5％～25％，
所述第二寬度為所述研磨層半徑的50％～90％，且
所述第三寬度為所述研磨層半徑的5％～25％。
12.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述邊緣溝槽中不與所述徑向延伸溝槽連接的每一溝槽具有：
第一端點，位于所述主要研磨區域的外側處，其中所述第一端點具有一端面；以及
第二端點，位于所述邊緣區域的外側處，且不具有端面。
13.一種研磨系統，其特征在于，包括：
研磨墊，包括：
研磨層，其中所述研磨層包括中心區域、邊緣區域以及位于所述中心區域以及所述邊緣區域之間的主要研磨區域；
至少一環狀溝槽，位于所述研磨層的所述主要研磨區域中；
邊緣溝槽，位于所述研磨層的所述邊緣區域中，且所述邊緣溝槽包括一格狀溝槽；以及
至少一徑向延伸溝槽，位于所述研磨層的所述主要研磨區域，且所述徑向延伸溝槽與所述至少一環狀溝槽相連接；以及
研磨物件，位于所述研磨墊上，其中所述研磨物件具有中央區域以及包圍所述中央區域的周邊區域，
其中，在進行研磨程序中，所述研磨物件的所述中央區域與所述研磨層的所述至少一環狀溝槽以及所述徑向延伸溝槽接觸，且所述研磨物件的所述周邊區域與所述研磨層的所述至少一環狀溝槽、所述邊緣溝槽以及所述徑向延伸溝槽接觸。
14.根據權利要求13所述的研磨系統，其特征在于，所述研磨層具有旋轉中心位于所述研磨層的中心位置，且所述至少一環狀溝槽以所述旋轉中心為中心呈現同心排列。
15.根據權利要求13所述的研磨系統，其特征在于，所述邊緣溝槽的所述格狀溝槽的形狀為正方格、長方格、菱形格、梯形格、三角形格、多角形 格、或其組合。
16.根據權利要求13所述的研磨系統，其特征在于，所述徑向延伸溝槽延伸至所述邊緣區域，且所述徑向延伸溝槽與所述邊緣溝槽相連接。
17.根據權利要求16所述的研磨系統，其特征在于，所述徑向延伸溝槽為所述邊緣溝槽的所述格狀溝槽一部分的延伸。
18.根據權利要求13所述的研磨系統，其特征在于，還包括中心溝槽，位于所述研磨層的所述中心區域中，且所述中心溝槽包括格狀溝槽。
19.根據權利要求18所述的研磨系統，其特征在于，所述中心溝槽的所述格狀溝槽的形狀為正方格、長方格、菱形格、梯形格、三角形格、多角形格、或其組合。
20.根據權利要求18所述的研磨系統，其特征在于，所述徑向延伸溝槽延伸至所述中心區域，且所述徑向延伸溝槽與所述中心溝槽相連接。
21.根據權利要求18所述的研磨系統，其特征在于，所述徑向延伸溝槽為所述中心溝槽的所述格狀溝槽一部分的延伸。
22.根據權利要求13所述的研磨系統，其特征在于，在所述研磨層半徑方向上，所述中心區域具有第一寬度，所述主要研磨區域具有第二寬度，所述邊緣區域具有第三寬度。
23.根據權利要求22所述的研磨系統，其特征在于，
所述第一寬度為所述研磨層半徑的5％～25％，
所述第二寬度為所述研磨層半徑的50％～90％，且
所述第三寬度為所述研磨層半徑的5％～25％。