1.一種蒸鍍源，其特征在于，包括蒸鍍坩堝，還包括設置在所述蒸鍍坩堝出口側的多個蒸鍍噴嘴，多個所述蒸鍍噴嘴至少排列為一排；
所述蒸鍍坩堝內部包括有蒸鍍材料空腔，所述蒸鍍坩堝出口側的側壁設置有連通所述蒸鍍材料空腔的貫通腔，所述蒸鍍噴嘴包括噴頭以及與所述噴頭固定連接的活動部，所述噴頭通過所述貫通腔與所述蒸鍍材料空腔相連通，所述活動部設置于所述貫通腔內并可在所述貫通腔內轉動，以使得所述噴頭在所述活動部的帶動下擺動。
2.根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，所述活動部為活動軸，所述活動軸一端設置于所述貫通腔側壁、另一端固定連接在所述噴頭側壁上，所述活動軸平行于所述蒸鍍坩堝出口側所在的平面。
3.根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，所述活動部為活動球，所述活動球內部中空且表面加工有開口，所述噴頭通過所述活動球與所述蒸鍍材料空腔相連通；
其中，所述活動球的直徑大于所述貫通腔在所述蒸鍍坩堝出口側上、下表面的直徑且小于所述貫通腔在所述蒸鍍坩堝出口側中心橫截面的直徑。
4.根據權利要求2或3所述的蒸鍍源，其特征在于，所述蒸鍍噴嘴的最大擺動角度小于等于90°。
5.根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，相鄰兩個所述蒸鍍噴嘴的間距設置為10mm-200mm。
6.根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，多個所述蒸鍍噴嘴至少排列為兩排時，相鄰兩排的所述蒸鍍噴嘴交錯設置。
7.根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，還包括控制器，所述控制器分別與每一個所述蒸鍍噴嘴相連接，分別控制每一個所述蒸鍍噴嘴的活動部在所述貫通腔內的轉動。
8.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括權利要求1-7任一項所述的蒸鍍源。
9.一種蒸鍍方法，應用于權利要求8所述的蒸鍍裝置，其特征在于，包括，
加熱蒸鍍坩堝，使所述蒸鍍坩堝內的蒸鍍材料受熱氣化；
控制活動部轉動，以使得噴頭在所述活動部的帶動下擺動。
10.根據權利要求9所述的蒸鍍方法，其特征在于，當所述蒸鍍噴嘴至少排列為兩排時，所述控制活動部轉動具體為：
控制同一排的多個所述活動部沿第一方向轉動，控制相鄰排的多個所述活動部沿所述第一方向或與所述第一方向相反的第二方向轉動。