技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
控制裝置、基板處理系統(tǒng)、基板處理方法以及存儲介質(zhì)。控制裝置控制基板形成第一膜后形成第二膜而形成層疊膜的基板處理裝置的動作，具有：制程存儲部，存儲包括形成第一膜的第一成膜條件和形成第二膜的第二成膜條件的成膜條件；模型存儲部，存儲包括表示第一成膜條件對第一膜特性影響的第一工藝模型和表示第二成膜條件對第二膜特性影響的第二工藝模型的工藝模型；以及控制部，基于包括利用制程存儲部存儲的第一成膜條件和第二成膜條件形成第一膜和第二膜的層疊膜的特性的測定值和模型存儲部存儲的第二工藝模型調(diào)整第二成膜條件，基于利用第一成膜條件和調(diào)整后的第二成膜條件形成層疊膜的情況下預(yù)測層疊膜特性的預(yù)測值判定是否要調(diào)整第一成膜條件。

技術(shù)研發(fā)人員：竹永裕一;笠井隆人
受保護的技術(shù)使用者：東京毅力科創(chuàng)株式會社
技術(shù)研發(fā)日：2017.03.28
技術(shù)公布日：2017.10.10