技術特征：

技術總結
本發明提供了一種LPCVD工藝腔勻氣裝置，包括上隔離板、勻流板和下隔離板；勻流板上開設有上導流槽和下導流槽；上導流槽具有第一進氣端和第一出氣端，下導流槽具有第二進氣端和第二出氣端；第一進氣端與第一氣源相通；第二進氣端與第二氣源相通；第一出氣端和第二出氣端通過勻流板上開設的出氣孔相通；下隔離板上設置有第一出氣通孔，第一出氣通孔與出氣孔相通。本發明提供的LPCVD工藝腔勻氣裝置保證了氣體擴散的均勻性，提高了CIGS薄膜電池的薄膜成型質量。

技術研發人員：袁世成
受保護的技術使用者：君泰創新（北京）科技有限公司
技術研發日：2017.07.14
技術公布日：2017.11.07