本實(shí)用新型涉及鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種真空鍍膜機(jī)。

背景技術(shù)：

真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代，四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀(jì)80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)，屬于物理氣相沉積工藝。因?yàn)殄儗映榻饘俦∧ぃ室卜Q真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中，以塑料最為常見，其次，為紙張鍍膜。相對于金屬、陶瓷、木材等材料，塑料具有來源充足、性能易于調(diào)控、加工方便等優(yōu)勢，因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結(jié)構(gòu)材料，大量應(yīng)用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業(yè)領(lǐng)域。

而現(xiàn)有的真空鍍膜機(jī)包括具有一開口的箱體和蓋設(shè)于箱體上的箱蓋，且為了增加箱蓋和箱體之間的密封性能，而現(xiàn)有結(jié)構(gòu)中的箱蓋和箱體之間的密封圈，往往是通過簡單的增加常規(guī)的O型密封圈來實(shí)現(xiàn)密封效果，這種常規(guī)的O型密封圈密封效果較差，而且長時(shí)間在高溫狀態(tài)使用時(shí)，O型密封圈容易損壞，使得箱蓋和箱體之間得不到密封效果，導(dǎo)致箱體無法獲得較好的真空度，從而影響了鍍膜質(zhì)量。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種密封圈效果好及保證鍍膜質(zhì)量的真空鍍膜機(jī)。

本實(shí)用新型的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的：一種真空鍍膜機(jī)，包括箱體，所述箱體內(nèi)設(shè)置有真空鍍膜室，箱體的頂部設(shè)有箱蓋，所述箱蓋與箱體之間設(shè)有密封裝置，所述密封裝置包括第一密封圈和第二密封圈，所述箱蓋的密封面上開設(shè)有密封槽，密封槽內(nèi)放置有第一密封圈和第二密封圈，所述第一密封圈和第二密封圈之間開設(shè)有泄氣槽，所述泄氣槽上設(shè)有泄氣孔；所述真空鍍膜室的底部設(shè)有電加熱裝置，真空鍍膜室內(nèi)還設(shè)有電弧蒸發(fā)裝置，所述箱蓋的下側(cè)設(shè)有溫度傳感器，箱體的上表面設(shè)置有控制裝置，其特征在于：所述第一密封圈和第二密封圈均包括密封圈本體，該密封圈本體的外壁呈向外凸出的弧形狀，該密封圈本體的內(nèi)壁呈內(nèi)凹的弧形面，該密封圈本體內(nèi)圈的邊沿向軸向兩端延伸有第一環(huán)形凸起及第二環(huán)形凸起，密封圈本體外圈的邊沿向軸向兩端延伸有第三環(huán)形凸起及第四環(huán)形凸起，該第一環(huán)形凸起與第三環(huán)形凸起形成上環(huán)形凹槽，該第二環(huán)形凸起與第四環(huán)形凸起形成下環(huán)形凹槽，所述的第三環(huán)形凸起的端面上間隔設(shè)置有上緩沖塊，第四環(huán)形凸起的端面上間隔設(shè)置有下緩沖塊。

優(yōu)選為：所述電加熱裝置、電弧蒸發(fā)裝置和溫度傳感器均與控制裝置電連接。

優(yōu)選為：所述第一密封圈和第二密封圈分別嵌于相對獨(dú)立的兩密封槽內(nèi)。

優(yōu)選為：所述泄氣槽通過泄氣孔連接真空管道一端，真空管道另一端連接真空泵。

通過采用上述技術(shù)方案，通過三層密封圈對箱體和箱蓋之間實(shí)現(xiàn)了密封性能，該密封圈的密封效果較好，從而有效的保證了箱體與箱蓋之間的密封性能，使得箱體與箱蓋連接更加緊密，且長時(shí)間在高溫狀態(tài)使用時(shí)，密封圈不會(huì)容易損壞，使得箱蓋和箱體之間得到了密封效果，保證了箱體獲得了較好的真空度，從而保證了鍍膜質(zhì)量；不用經(jīng)常維修，結(jié)構(gòu)布局合理；密封圈的外壁為弧形狀，且在密封圈上設(shè)置上環(huán)形凹槽與下環(huán)形凹槽，有效的增加了該密封圈的柔韌性，使密封圈具備受力時(shí)的回彈力，使該結(jié)構(gòu)的密封圈的密封性能更強(qiáng)，上緩沖塊及下緩沖塊具有緩沖余量，使得密封圈受到箱體和箱蓋之間擠壓時(shí)，不易變形，提高了密封圈抗變形能力，保證了密封圈的使用壽命。

本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述上環(huán)形凹槽的槽寬由槽底往槽口方向逐漸變大，所述下環(huán)形凹槽的槽寬由槽底往槽口方向逐漸變大。

通過采用上述技術(shù)方案，進(jìn)一步的提高了該密封圈的柔韌性，使密封圈具備受力時(shí)的回彈力，使該結(jié)構(gòu)的密封圈的密封性能更強(qiáng)，從而進(jìn)一步的提高了箱體和箱蓋之間的密封效果，保證箱體獲得了較好的真空度，從而保證了鍍膜質(zhì)量。

本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述密封圈本體采用硅膠材料制成。

通過采用上述技術(shù)方案，具有不變形、耐高溫、耐酸堿、不膨脹的特點(diǎn)，延長了密封圈的使用壽命，不會(huì)輕易損壞，不用經(jīng)常維修。

附圖說明

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實(shí)用新型具體實(shí)施方式結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型具體實(shí)施方式中密封裝置結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實(shí)用新型具體實(shí)施方式中第一密封圈結(jié)構(gòu)主視示意圖；

圖4為本實(shí)用新型具體實(shí)施方式中第一密封圈結(jié)構(gòu)剖視示意圖；

圖5為圖4的A部放大圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

如圖1—圖5所示，本實(shí)用新型公開了一種真空鍍膜機(jī)，包括箱體6，所述箱體6內(nèi)設(shè)置有真空鍍膜室，箱體6的頂部設(shè)有箱蓋2，所述箱蓋2與箱體6之間設(shè)有密封裝置，所述密封裝置包括第一密封圈72和第二密封圈75，所述箱蓋2的密封面上開設(shè)有密封槽71，密封槽71內(nèi)放置有第一密封圈72和第二密封圈75，所述第一密封圈72和第二密封圈75之間開設(shè)有泄氣槽73，所述泄氣槽73上設(shè)有泄氣孔74，其特征在于：所述第一密封圈和第二密封圈均包括密封圈本體9，該密封圈本體9的外壁呈向外凸出的弧形狀，該密封圈本體9的內(nèi)壁呈內(nèi)凹的弧形面，該密封圈本體內(nèi)圈的邊沿向軸向兩端延伸有第一環(huán)形凸起10及第二環(huán)形凸起12，密封圈本體外圈的邊沿向軸向兩端延伸有第三環(huán)形凸起11及第四環(huán)形凸起13，該第一環(huán)形凸起10與第三環(huán)形凸起11形成上環(huán)形凹槽14，該第二環(huán)形凸起12與第四環(huán)形凸起13形成下環(huán)形凹槽15，所述的第三環(huán)形凸起11的端面上間隔設(shè)置有上緩沖塊16，第四環(huán)形凸起13的端面上間隔設(shè)置有下緩沖塊17。

優(yōu)選為：所述電加熱裝置、電弧蒸發(fā)裝置和溫度傳感器均與控制裝置電連接。

優(yōu)選為：所述第一密封圈72和第二密封圈75分別嵌于相對獨(dú)立的兩密封槽71內(nèi)。

優(yōu)選為：所述泄氣槽73通過泄氣孔74連接真空管道一端，真空管道另一端連接真空泵；通過真空泵可以把第一密封圈72和第二密封圈75間的氣體排出，形成真空，提高密封效果，采用兩個(gè)密封圈，使得密封性能更可靠，不會(huì)因其中一個(gè)密封圈的失效而影響真空鍍膜室的密封性。

通過采用上述技術(shù)方案，通過三層密封圈對箱體和箱蓋之間實(shí)現(xiàn)了密封性能，該密封圈的密封效果較好，從而有效的保證了箱體與箱蓋之間的密封性能，使得箱體與箱蓋連接更加緊密，且長時(shí)間在高溫狀態(tài)使用時(shí)，密封圈不會(huì)容易損壞，使得箱蓋和箱體之間得到了密封效果，保證了箱體獲得了較好的真空度，從而保證了鍍膜質(zhì)量；不用經(jīng)常維修，結(jié)構(gòu)布局合理；密封圈的外壁為弧形狀，且在密封圈上設(shè)置上環(huán)形凹槽與下環(huán)形凹槽，有效的增加了該密封圈的柔韌性，使密封圈具備受力時(shí)的回彈力，使該結(jié)構(gòu)的密封圈的密封性能更強(qiáng)，上緩沖塊及下緩沖塊具有緩沖余量，使得密封圈受到箱體和箱蓋之間擠壓時(shí)，不易變形，提高了密封圈抗變形能力，保證了密封圈的使用壽命。

所述真空鍍膜室的底部設(shè)有電加熱裝置5，真空鍍膜室內(nèi)還設(shè)有電弧蒸發(fā)裝置4，所述箱蓋2的下側(cè)設(shè)有溫度傳感器3，箱體6的上表面設(shè)置有控制裝置1，溫度傳感器3用于檢測真空鍍膜室內(nèi)的溫度，然后將信號傳遞給控制裝置1，控制裝置1控制電加熱裝置5工作；控制裝置1還控制電弧蒸發(fā)裝置4。

本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述上環(huán)形凹槽14的槽寬由槽底往槽口方向逐漸變大，所述下環(huán)形凹槽15的槽寬由槽底往槽口方向逐漸變大。

通過采用上述技術(shù)方案，進(jìn)一步的提高了該密封圈的柔韌性，使密封圈具備受力時(shí)的回彈力，使該結(jié)構(gòu)的密封圈的密封性能更強(qiáng)，從而進(jìn)一步的提高了箱體和箱蓋之間的密封效果，保證箱體獲得了較好的真空度，從而保證了鍍膜質(zhì)量。

本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述密封圈本體9采用硅膠材料制成。

通過采用上述技術(shù)方案，具有不變形、耐高溫、耐酸堿、不膨脹的特點(diǎn)，延長了密封圈的使用壽命，不會(huì)輕易損壞，不用經(jīng)常維修。

以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。