本實用新型涉及一種真空鍍膜機，屬于鍍膜機技術領域。

背景技術：

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

現有的真空鍍膜機在進行支架傳輸時比較困難，而且浪費時間，工作效率低，操作復雜。

技術實現要素：

針對上述問題，本實用新型要解決的技術問題是提供一種真空鍍膜機。

本實用新型的一種真空鍍膜機，它包含機架、第一過渡腔、鍍膜腔、第二過渡腔、真空隔離閥、真空抽泵、過渡門、支架傳輸軌、鍍膜支架、電弧濺射源機構、氣液分離器、單向氣閥；機架的內部分別設置有第一過渡腔、鍍膜腔、第二過渡腔，第一過渡腔、鍍膜腔、第二過渡腔之間依次通過真空隔離閥連接，鍍膜腔、第二過渡腔的內部安裝有鍍膜支架，第一過渡腔的一側安裝有過渡門，真空吸泵安裝在機架的側面，且真空吸泵通過管道分別與第一過渡腔、鍍膜腔、第二過渡腔的抽真空口連接，且抽真空口上安裝有單向氣閥，氣液分離器安裝在真空吸泵的管道上，電弧濺射源機構安裝在鍍膜腔的內部，支架傳輸軌安裝在機架的內部，且支架傳輸軌與鍍膜腔、第二過渡腔連接。

作為優選，所述的真空抽泵為大功率真空抽泵。

作為優選，所述的機架的底部安裝有支撐腳。

本實用新型的有益效果為：便于實現快速抽真空與真空鍍膜，同時傳輸快速，節省時間。

附圖說明：

為了易于說明，本實用新型由下述的具體實施及附圖作以詳細描述。

圖1為本實用新型的結構示意圖。

圖中：1-機架；2-第一過渡腔；3-鍍膜腔；4-第二過渡腔；5-真空隔離閥；6-真空抽泵；7-過渡門；8-支架傳輸軌；9-鍍膜支架；10-電弧濺射源機構；11-氣液分離器；12-單向氣閥。

具體實施方式：

為使本實用新型的目的、技術方案和優點更加清楚明了，下面通過附圖中示出的具體實施例來描述本實用新型。但是應該理解，這些描述只是示例性的，而并非要限制本實用新型的范圍。此外，在以下說明中，省略了對公知結構和技術的描述，以避免不必要地混淆本實用新型的概念。

如圖1所示，本具體實施方式采用以下技術方案：它包含機架1、第一過渡腔2、鍍膜腔3、第二過渡腔4、真空隔離閥5、真空抽泵6、過渡門7、支架傳輸軌8、鍍膜支架9、電弧濺射源機構10、氣液分離器11、單向氣閥12；機架1的內部分別設置有第一過渡腔2、鍍膜腔3、第二過渡腔4，第一過渡腔2、鍍膜腔3、第二過渡腔4之間依次通過真空隔離閥5連接，鍍膜腔3、第二過渡腔4的內部安裝有鍍膜支架9，第一過渡腔2的一側安裝有過渡門7，真空吸泵6安裝在機架1的側面，且真空吸泵6通過管道分別與第一過渡腔2、鍍膜腔3、第二過渡腔4的抽真空口連接，且抽真空口上安裝有單向氣閥12，氣液分離器11安裝在真空吸泵6的管道上，電弧濺射源機構10安裝在鍍膜腔3的內部，支架傳輸軌8安裝在機架1的內部，且支架傳輸軌8與鍍膜腔3、第二過渡腔4連接。

進一步的，所述的真空抽泵6為大功率真空抽泵。

進一步的，所述的機架1的底部安裝有支撐腳。

本具體實施方式的工作原理為：第一過渡腔中的鍍膜支架裝上被鍍工件，真空吸泵6實現抽真空，同時對第一過渡腔中的工件進行加熱與離子清洗，打開真空隔離閥5，鍍膜支架進入鍍膜腔進行鍍膜，完成后，通過支架傳輸軌8將鍍膜支架傳輸到第二過渡腔7內，第二過渡腔7內的工件通過打開真空隔離閥5傳輸到鍍膜腔內，能節省時間，操作簡便。

以上顯示和描述了本實用新型的基本原理和主要特征和本實用新型的優點。本行業的技術人員應該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下，本實用新型還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內。本實用新型要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。