技術特征：
1.用于晶體硅擴散的勻流板，其特征在于：包括勻流板本體（1），勻流板本體（1）按照區域劃分為爐頂板區域和爐底板區域，爐頂板區域內開有若干勻流通孔（2），爐底板區域為密封板體；爐頂板區域和爐底板區域的面積相等；爐頂板區域和爐底板區域以勻流板本體（1）的軸線對稱設置；勻流通孔（2）的大小從爐頂板區域指向爐底板區域方向由大變小、且同一高度的勻流通孔（2）大小一致的均勻分布在爐頂板區域內。2.根據權利要求1所述的用于晶體硅擴散的勻流板，其特征在于：爐頂板區域和爐底板區域均為半圓形或矩形。3.晶體硅擴散工藝爐，其特征在于：包括工藝爐爐體（3）和權利要1至2中任意一項所述的勻流板本體（1），勻流板本體（1）橫擋在工藝爐爐體（3）內，且勻流板本體（1）的邊緣與工藝爐爐體（3）內壁密封連接，且爐頂板區域位于工藝爐爐體（3）上部區域，爐底板區域位于工藝爐爐體（3）下部區域，工藝爐爐體（3）一端設置有進氣管（6），工藝爐爐體（3）內設置有硅片放置區域，勻流板本體（1）位于進氣管（6）與有硅片放置區域之間。4.根據權利要求3所述的晶體硅擴散工藝爐，其特征在于：進氣管（6）的軸線與勻流板本體（1）表面垂直。5.根據權利要求3所述的晶體硅擴散工藝爐，其特征在于：工藝爐爐體（3）內還設置有尾氣管（7），尾氣管（7）的進氣端位于硅片放置區域遠離勻流板本體（1）的一側，且尾氣管（7）沿著工藝爐爐體（3）底部內壁敷設。6.根據權利要求5所述的晶體硅擴散工藝爐，其特征在于：尾氣管（7）的進氣端位于工藝爐爐體（3）內距離勻流通孔（2）最遠的點上。