本實(shí)用新型涉及一種陽(yáng)光控制鍍膜玻璃，尤其是涉及一種低反射低輻射陽(yáng)光控制鍍膜玻璃。

背景技術(shù)：

陽(yáng)光控制膜玻璃又稱熱反射玻璃，是在玻璃表面鍍上金屬、非金屬及其氧化物薄膜使其具有一定的反射能力，其主要功能是反射室外的太陽(yáng)輻射能，使其盡可能少地進(jìn)入室內(nèi)，從而降低室內(nèi)的溫度，節(jié)省空調(diào)費(fèi)用的開支。但普通的陽(yáng)光控制膜玻璃可見光透過率較低，可見光反射比較高，具有較高的鏡面反射，常常會(huì)產(chǎn)生眩光效果及光污染“光污染”，使其應(yīng)用范圍受到極大限制。因此需降低陽(yáng)光控制膜玻璃的鏡面反射。

例如，授權(quán)公告號(hào)CN201284290Y，授權(quán)公告日2009年8月5日的中國(guó)專利公開了一種可鋼化陽(yáng)光控制鍍膜玻璃，包括玻璃基片，它的技術(shù)要點(diǎn)在于，在玻璃基片上向外依次復(fù)合有氮化硅膜層、氧化鈦膜層、氮氧復(fù)合鉻膜層、氮化硅膜層。該陽(yáng)光控制鍍膜玻璃存在以下缺陷：反射率高，可見光透過率低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型是為了解決現(xiàn)有技術(shù)的陽(yáng)光控制膜玻璃所存在的上述問題，提供了一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，輻射低，可見光透過率高，能有效降低鏡面反射，減少光污染的低反射低輻射陽(yáng)光控制鍍膜玻璃。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案：

本實(shí)用新型的一種低反射低輻射陽(yáng)光控制鍍膜玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板表面從內(nèi)到外通過磁控濺射依次鍍有第一介質(zhì)層、第一阻擋層、第一過渡層、金屬層、第二過渡層、第二阻擋層、第二介質(zhì)層及減反層，所述第一介質(zhì)層為TiO₂層，所述第一阻擋層、第二阻擋層均為NiCrOx層，所述第一過渡層、第二過渡層均為Ti層，所述金屬層為Ag層，所述第二介質(zhì)層為Si₃N₄層，所述減反層為SiO₂層，所述減反層表面設(shè)為毛面，減反層表面的晶體顆粒粒徑為1.3~1.4nm。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)新穎，采用多層復(fù)合膜系結(jié)構(gòu)，Ag層起到功能層作用，但Ag膜質(zhì)地軟，易劃傷，且與玻璃基板結(jié)合力差，另外在空氣中易受氧氣的腐蝕而影響其反射紅外光譜的功能，因此在Ag膜兩側(cè)設(shè)置第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層以起保護(hù)作用，第一介質(zhì)層選擇TiO₂層，其具有高折射率且性能穩(wěn)定，對(duì)可見光吸收比較小，而且還可以大量吸收、散射或反射對(duì)人及物體有害的紫外線，有利于降低輻射；第二介質(zhì)層則采用Si₃N₄，質(zhì)地堅(jiān)硬、硬度高、抗劃傷能力強(qiáng)且對(duì)可見光幾乎是零吸收，有利于提高透光率；為防止高溫時(shí)氧等物質(zhì)對(duì)Ag膜造成腐蝕，確保銀層發(fā)揮其作用，提高其在可見光范圍內(nèi)的透過率及紅外范圍內(nèi)的抗輻射率，在金屬層（Ag層）與介質(zhì)層之間加入阻擋層，第一阻擋層、第二阻擋層均為NiCrOx層，阻擋層NiCrOx為兩種金屬氧化物組成的二元混合薄膜，抗化學(xué)及機(jī)械性能好，同時(shí)具有很好的低輻射效果；而為了降低金屬層的面電阻及促進(jìn)銀粒子連續(xù)起來(lái)，在阻擋層與金屬層之間加入了過渡層Ti層，并同時(shí)提高Ag層的界面結(jié)合力；減反層為SiO₂層，其表面粗糙，本實(shí)用新型中通過控制其表面的晶體顆粒粒徑以增強(qiáng)膜層中微晶粒的散射，從而降低薄膜的鏡面反射，減少光污染。

作為優(yōu)選，所述第一介質(zhì)層厚度為50~55nm。

作為優(yōu)選，所述第一阻擋層、第二阻擋層厚度為2~3nm。

作為優(yōu)選，所述第一過渡層、第二過渡層厚度為3~5nm。過渡層Ti 可以促使Ag 膜在沉積時(shí)盡快的連續(xù)起來(lái)，避免銀顆粒島狀生長(zhǎng)，保證銀功能的正常發(fā)揮，同時(shí)為了防止Ag膜在高溫時(shí)被氧化或被侵蝕，Ti 膜的厚度不能過薄，但Ti 膜也不能很厚，否則影響透光效果。因此本實(shí)用新型中限定第一過渡層、第二過渡層厚度為3~5nm，這樣既可以保護(hù)銀膜又不至于影響低輻射膜在可見光范圍的透過率。

作為優(yōu)選，所述金屬層厚度為10~15nm。當(dāng)金屬層（Ag層）厚度很小時(shí)，可使光線散射，降低低輻射膜在可見光區(qū)域的透過率；而當(dāng)銀膜比較厚時(shí)，可能導(dǎo)致銀對(duì)可見光的吸收增加，從而導(dǎo)致可見光區(qū)域透過率的下降，因此本實(shí)用新型中限定金屬層（Ag層）厚度為10~15nm。

作為優(yōu)選，所述第二介質(zhì)層厚度為50~55nm。

作為優(yōu)選，所述減反層厚度為20~30nm。

因此，本實(shí)用新型具有如下有益效果：采用復(fù)合多層膜結(jié)構(gòu)，并對(duì)膜層結(jié)構(gòu)進(jìn)行了優(yōu)化改進(jìn)，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、新穎，各膜層之間結(jié)合強(qiáng)度好，具有優(yōu)異的低反射和低輻射效果，可見光反射在13~17%左右，遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于普通陽(yáng)光控制鍍膜玻璃，可達(dá)到不產(chǎn)生光污染的效果，提高其應(yīng)用范圍。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型的一種結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：玻璃基板1，第一介質(zhì)層2，第一阻擋層3，第一過渡層4，金屬層5，第二過渡層6，第二阻擋層7，第二介質(zhì)層8，減反層9。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的描述。

實(shí)施例1

如圖1所示的一種低反射低輻射陽(yáng)光控制鍍膜玻璃，包括玻璃基板1，玻璃基板表面從內(nèi)到外通過磁控濺射依次鍍有第一介質(zhì)層2、第一阻擋層3、第一過渡層4、金屬層5、第二過渡層6、第二阻擋層7、第二介質(zhì)層8及減反層9，其中第一介質(zhì)層為厚度50nm的TiO₂層，第一阻擋層、第二阻擋層均為厚度2nm 的NiCrOx層，第一過渡層、第二過渡層均為厚度3nm的Ti層，金屬層為厚度10nm的Ag層，第二介質(zhì)層為厚度50nm的Si₃N₄層，減反層為厚度20nm的SiO₂層，減反層表面設(shè)為毛面，減反層表面的晶體顆粒粒徑為1.3nm。

實(shí)施例2

本實(shí)施例與實(shí)施例1相比，不同之處在于：第一介質(zhì)層厚度為55nm，第一阻擋層、第二阻擋層厚度均為3nm ，金屬層厚度為15nm，第二介質(zhì)層厚度為55nm，減反層厚度為30nm，減反層表面的晶體顆粒粒徑為1.4nm，其余完全相同，故不贅述。

實(shí)施例3

本實(shí)施例與實(shí)施例1相比，不同之處在于：第一介質(zhì)層厚度為52nm，第一阻擋層、第二阻擋層厚度均為2.5nm ，金屬層厚度為12nm，第二介質(zhì)層厚度為53nm，減反層厚度為25nm，減反層表面的晶體顆粒粒徑為1.35nm，其余完全相同，故不贅述。

本實(shí)用新型中各膜層通過磁控濺射即可得到，磁控濺射為本領(lǐng)域常規(guī)技術(shù)手段，故不在此贅述。本實(shí)用新型采用復(fù)合多層膜結(jié)構(gòu)，并對(duì)膜層結(jié)構(gòu)進(jìn)行了優(yōu)化改進(jìn)，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、新穎，各膜層之間結(jié)合強(qiáng)度好，具有優(yōu)異的低反射和低輻射效果，可見光反射在13~17%左右，遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于普通陽(yáng)光控制鍍膜玻璃，可達(dá)到不產(chǎn)生光污染的效果，提高其應(yīng)用范圍。

以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并非對(duì)本實(shí)用新型作任何限制，凡是根據(jù)本實(shí)用新型技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、變更以及等效結(jié)構(gòu)變換，均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的保護(hù)范圍。