本實用新型涉及一種陽光控制鍍膜玻璃，尤其是涉及一種高透低反陽光控制鍍膜玻璃。

背景技術：

陽光控制膜玻璃又稱熱反射玻璃，是在玻璃表面鍍上金屬、非金屬及其氧化物薄膜使其具有一定的反射能力，其主要功能是反射室外的太陽輻射能，使其盡可能少地進入室內，從而降低室內的溫度，節(jié)省空調費用的開支。但普通的陽光控制膜玻璃可見光透過率較低，可見光反射比較高，具有較高的鏡面反射，常常會產(chǎn)生眩光效果及光污染“光污染”，使其應用范圍受到極大限制。因此需降低陽光控制膜玻璃的鏡面反射及提高其可見光透過率，以提高其應用范圍。

例如，授權公告號CN201284290Y，授權公告日2009年8月5日的中國專利公開了一種可鋼化陽光控制鍍膜玻璃，包括玻璃基片，它的技術要點在于，在玻璃基片上向外依次復合有氮化硅膜層、氧化鈦膜層、氮氧復合鉻膜層、氮化硅膜層。該陽光控制鍍膜玻璃存在以下缺陷：反射率高，可見光透過率低。該陽光控制鍍膜玻璃存在以下缺陷：反射率高，可見光透過率低，不適合用于建筑門窗及幕墻。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型是為了解決現(xiàn)有技術的陽光控制鍍膜玻璃所存在的上述問題，提供了一種結構新穎，可見光透過率高，能有效降低鏡面反射，減少光污染的高透光低反射陽光控制鍍膜玻璃。

為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用以下技術方案：

本實用新型的一種高透低反陽光控制鍍膜玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板表面從內到外通過磁控濺射依次鍍有第一介質層、第一阻擋層、第一過渡層、金屬層、第二過渡層、第二阻擋層、第二介質層及減反層，所述第一介質層為TiO₂層，所述第一阻擋層、第二阻擋層均為NiCrOx層，所述第一過渡層、第二過渡層均為Ti層，所述金屬層為Ag層，所述第二介質層為Si₃N₄層，所述減反層為SiO₂層，所述減反層表面設為毛面，減反層表面的晶體顆粒粒徑為1.3~1.4nm，減反層表面通過腐蝕形成有散射槽，所述散射槽縱橫交叉呈網(wǎng)格結構。本實用新型結構新穎，采用多層復合膜系結構，Ag層起到功能層作用，但Ag膜質地軟，易劃傷，且與玻璃基板結合力差，另外在空氣中易受氧氣的腐蝕而影響其反射紅外光譜的功能，因此在Ag膜兩側設置第一介質層和第二介質層以起保護作用，第一介質層選擇TiO₂層，其具有高折射率且性能穩(wěn)定，對可見光吸收比較小，而且還可以大量吸收、散射或反射對人及物體有害的紫外線，有利于降低輻射；第二介質層則采用Si₃N₄，質地堅硬、硬度高、抗劃傷能力強且對可見光幾乎是零吸收，有利于提高透光率；為防止高溫時氧等物質對Ag膜造成腐蝕，確保銀層發(fā)揮其作用，提高其在可見光范圍內的透過率及紅外范圍內的抗輻射率，在金屬層（Ag層）與介質層之間加入阻擋層，第一阻擋層、第二阻擋層均為NiCrOx層，阻擋層NiCrOx為兩種金屬氧化物組成的二元混合薄膜，抗化學及機械性能好，同時具有很好的低輻射效果；而為了降低金屬層的面電阻及促進銀粒子連續(xù)起來，在阻擋層與金屬層之間加入了過渡層Ti層，并同時提高Ag層的界面結合力；減反層為SiO₂層，其表面粗糙，在減反層設置縱橫交叉呈網(wǎng)格結構的散射槽，使反射的光線發(fā)生漫反射，從而消除了眩光效果與光污染，同時散射槽還能使反射的部分光線發(fā)生折射再次進入玻璃，以提高可見光透過率，本實用新型中通過控制其表面的晶體顆粒粒徑以及設置散射槽的方式以增強膜層中微晶粒的散射，能大大降低薄膜的鏡面反射，減少光污染，提高可見光透過率。

作為優(yōu)選，所述散射槽為V型槽，V型槽槽底的夾角為60°。散射槽為V型槽，且V型槽槽底的夾角為60°，使得散射槽的截面呈等邊三角形，散射效果好。

作為優(yōu)選，所述散射槽深度為0.2~0.4mm，相鄰散射槽之間的間隔為1~3mm。散射槽深度及相鄰散射槽之間的間隔過大或過小，均會影響使用效果，也就是防眩光效果差，同時散射槽深度及相鄰散射槽之間的間隔過小，也不利于散射槽的形成。

作為優(yōu)選，所述第一介質層厚度為50~55nm。

作為優(yōu)選，所述第一阻擋層、第二阻擋層厚度為2~3nm。

作為優(yōu)選，所述第一過渡層、第二過渡層厚度為3~5nm。過渡層Ti 可以促使Ag 膜在沉積時盡快的連續(xù)起來，避免銀顆粒島狀生長，保證銀功能的正常發(fā)揮，同時為了防止Ag膜在高溫時被氧化或被侵蝕，Ti 膜的厚度不能過薄，但Ti 膜也不能很厚，否則影響透光效果。因此本實用新型中限定第一過渡層、第二過渡層厚度為3~5nm，這樣既可以保護銀膜又不至于影響低輻射膜在可見光范圍的透過率。

作為優(yōu)選，所述金屬層厚度為10~15nm。當金屬層（Ag層）厚度很小時，可使光線散射，降低低輻射膜在可見光區(qū)域的透過率；而當銀膜比較厚時，可能導致銀對可見光的吸收增加，從而導致可見光區(qū)域透過率的下降，因此本實用新型中限定金屬層（Ag層）厚度為10~15nm。

作為優(yōu)選，所述第二介質層厚度為50~55nm。

作為優(yōu)選，所述減反層厚度為20~30nm。

因此，本實用新型具有如下有益效果：采用復合多層膜結構，對膜層結構進行了優(yōu)化改進，并通過控制減反層表面的晶體顆粒粒徑以及設置散射槽的方式以增強膜層中微晶粒的散射，結構簡單、新穎，各膜層之間結合強度好，可大大降低薄膜的鏡面反射，減少光污染，提高可見光透過率，具有優(yōu)異的低反射、高透光和低輻射效果，能同時滿足設計和使用時對美感的需求。

附圖說明

圖1是本實用新型的一種結構示意圖。

圖中：玻璃基板1，第一介質層2，第一阻擋層3，第一過渡層4，金屬層5，第二過渡層6，第二阻擋層7，第二介質層8，減反層9，散射槽10。

具體實施方式

下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型做進一步的描述。

實施例1

如圖1所示的一種高透低反陽光控制鍍膜玻璃，包括玻璃基板1，玻璃基板表面從內到外通過磁控濺射依次鍍有第一介質層2、第一阻擋層3、第一過渡層4、金屬層5、第二過渡層6、第二阻擋層7、第二介質層8及減反層9，其中第一介質層為厚度50nm的TiO₂層，第一阻擋層、第二阻擋層均為厚度2nm 的NiCrOx層，第一過渡層、第二過渡層均為厚度3nm的Ti層，金屬層為厚度10nm的Ag層，第二介質層為厚度50nm的Si₃N₄層，減反層為厚度20nm的SiO₂層，減反層表面設為毛面，減反層表面的晶體顆粒粒徑為1.3nm，減反層表面通過腐蝕形成有縱橫交叉呈網(wǎng)格結構的散射槽10，散射槽為V型槽，V型槽槽底的夾角為60°，散射槽深度為0.2mm，相鄰散射槽之間的間隔為1mm。

實施例2

本實施例與實施例1相比，不同之處在于：第一介質層厚度為55nm，第一阻擋層、第二阻擋層厚度均為3nm，金屬層厚度為15nm，第二介質層厚度為55nm，減反層厚度為30nm，減反層表面的晶體顆粒粒徑為1.4nm，散射槽深度為0.4mm，相鄰散射槽之間的間隔為3mm，其余完全相同，故不贅述。

實施例3

本實施例與實施例1相比，不同之處在于：第一介質層厚度為52nm，第一阻擋層、第二阻擋層厚度均為2.5nm ，金屬層厚度為12nm，第二介質層厚度為53nm，減反層厚度為25nm，減反層表面的晶體顆粒粒徑為1.35nm，散射槽深度為0.3mm，相鄰散射槽之間的間隔為2mm，其余完全相同，故不贅述。

本實用新型中各膜層通過磁控濺射即可得到，散射槽通過掩膜HF腐蝕即可得到，磁控濺射與掩膜HF腐蝕均為本領域常規(guī)技術手段，故均不在此贅述。

采用復合多層膜結構，對膜層結構進行了優(yōu)化改進，并通過控制減反層表面的晶體顆粒粒徑以及設置散射槽的方式以增強膜層中微晶粒的散射，結構簡單、新穎，各膜層之間結合強度好，可大大降低薄膜的鏡面反射，減少光污染，提高可見光透過率，具有優(yōu)異的低反射、高透光和低輻射效果，能同時滿足設計和使用時對美感的需求，可大范圍應用用于建筑門窗及幕墻。

以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例，并非對本實用新型作任何限制，凡是根據(jù)本實用新型技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、變更以及等效結構變換，均仍屬于本實用新型技術方案的保護范圍。