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缸體清洗機及其清洗方法與流程

文檔序號:12078536閱讀:944來源:國知局
缸體清洗機及其清洗方法與流程

本發明涉及缸體清洗領域,尤其是涉及一種缸體清洗機及其清洗方法。



背景技術:

現在各種缸體在機械領域已經廣泛應用,包括氣缸、油缸等,現在的油缸和氣缸在使用過程中,缸體內都會沉積大量的灰塵,尤其是油缸中還會沉積油中的雜質,并且油對灰塵和雜質的附著力較大;長期以來,導致油路管道和氣路管道不通暢,導致機械設備工作過程經常出現故障,因此,需要定期對缸體進行清洗,從而保證機械設備的正常運行;由于灰層和雜質容易在缸體中的棱角、溝槽和孔內沉積,并且現在的缸體多數都是異形結構;因此,現在的缸體清洗機只能將缸體的側壁和外表進行清洗;無法對缸體的棱角、溝槽、孔內以及異形缸體內沉積的雜質和灰塵進行清洗;影響缸體的各種性能,容易導致整個機械出現故障,縮短使用壽命;另外,現在的缸體清洗機清洗過程中容易將缸體的表面損壞,并且現有的缸體清洗機對缸體清洗之后,缸體上殘留有清洗劑,對缸體的表面造成不可彌補的損壞。



技術實現要素:

針對現有技術中的上述問題,本發明提出了一種缸體清洗機,本發明的目的旨在解決現有的缸體清洗機無法將異形缸體的表面、溝槽、孔內和棱角處清洗干凈、清洗過程容易將缸體表面損壞以及缸體表面上殘留有清洗劑等技術問題。

本發明的技術方案為:缸體清洗機,包括機架,所述機架的中間位置安裝有導軌,所述導軌上設有缸體輸送機構,所述機架上依次設有位于缸體輸送機構上方的渦流清洗室、對位清洗室、高壓清洗室、旋轉倒水室、對位吹水室及真空干燥室,所述渦流清洗室、對流清洗室、高壓清洗室通過設置有清洗泵的管道與清洗液儲存箱連通,所述旋轉倒水室和對位吹水室分別與儲氣罐連通;所述真空干燥室內設置有干燥裝置且與真空泵連通;所述渦流清洗室、對位清洗室、高壓清洗室、旋轉倒水室、對位吹水室及真空干燥室均設置有限位結構、到位檢測系統及壓緊機構,所述機架靠近渦流清洗室的一端設置有上料機構,機架靠近真空干燥室的一端設置有下料機構;所述旋轉倒水室內設有用于缸體旋轉的旋轉機構和側面風刀;所述渦流清洗室的頂面上設置有多個文丘里噴嘴;所述對位清洗室和對位吹水室內均設置有多個可調節角度的噴嘴。

進一步地,所述文丘里噴嘴為2個,文丘里噴嘴可滑動地安裝在連桿上,所述連桿通過升降機構安裝在渦流清洗室。

進一步地,所述對位清洗室的四個側壁上分別設置有可調節角度的液體噴嘴,所述對位清洗室靠近頂面的內側壁處設置有安裝板,所述安裝板與氣缸的活塞桿連接,且安裝板上固定有多個錐形液體噴嘴。

進一步地,所述對位吹水室的四個側壁上分別設置有可調節角度的氣體噴嘴,所述對位吹水室靠近頂面的內側壁處設置有安裝板,所述安裝板與氣缸的活塞桿連接,且安裝板上固定有多個錐形氣體噴嘴。

進一步地,所述上料機構中設置有代碼識別系統。

一種缸體清洗機的清洗方法,包括如下步驟:

上料工段:缸體通過上料機構進入導軌中,產品代碼識別系統對缸體的型號進行識別;

渦流清洗:缸體通過導軌上的輸送機構進入渦流清洗室,將缸體進行限位和壓緊,到位檢測系統檢測缸體到達預定位置,渦流清洗室的封閉門關閉,渦流清洗室內蓄滿清洗液,最后采用文丘里噴嘴對缸體進行渦流清洗,清洗完畢排放清洗液,打開封閉門;

對位清洗:缸體進入對位清洗室,同樣對進行缸體限位、壓緊及位置檢測,關閉封閉門,通過多個可調節角度的液體噴嘴針對缸體所有面組和各孔系進行清洗,清洗完畢打開封閉門;

高壓清洗:缸體進入高壓清洗室,采用高壓噴嘴對缸體的主油道及側油道孔清洗,清洗壓力為12-150bar;

旋轉倒水:缸體進入倒水工位,缸體固定在旋轉機構上且通過旋轉機構進行旋轉倒水,缸體旋轉的同時通過側面風刀對工件進行掃描吹水;

對位切水:缸體晶進入對位切水室,對缸體進行限位、壓緊及位置檢測,采用多個可調節角度的氣體噴嘴針對缸體所有面系和所有孔系進行對位切水,壓縮空氣的壓力為3-4kg;

真空干燥:缸體進入到真空干燥室,真空泵進行抽真空,極限真空度為0.5Mbar,真空干燥室內的氣體循環流量為240m3/h;

下料工段:干燥完畢的缸體通過下料工段將缸體取下。

與現有技術相比,本發明的有益效果是:

①本發明通過對缸體進行渦流清洗、對位清洗、高壓清洗、旋轉倒水、對位切水以及真空干燥,這樣使得現在異形缸體的表面、溝槽、所有孔系以及棱角處的灰塵和雜質能夠本被清洗干凈,在保證了缸體的使用壽命的同時,避免了整體機械出現故障,使得缸體的傳動性能和傳動精度得到有效保證。

②本發明在清洗缸體的過程中,不會將缸體的表面損壞,并且清洗之后的缸體上不會有殘留的清洗劑,防止清洗劑度缸體的所有面組造成不可修復的損壞,嚴重縮短缸體的清洗壽命。

附圖說明

圖1為本發明的結構示意圖。

圖2為圖1的俯視圖。

具體實施方式

下面結合附圖及實施例對本發明中的技術方案進一步說明。

參照附圖1、2,本發明包括機架1,機架1的中間位置安裝有導軌2,導軌2上設有缸體輸送機構3,機架1上依次設有位于缸體輸送機構3上方的渦流清洗室4、對位清洗室5、高壓清洗室6、旋轉倒水室7、對位吹水室8及真空干燥室9,渦流清洗室4、對流清洗室、高壓清洗室6通過設置有清洗泵10的管道與清洗液儲存箱11連通,旋轉倒水室7和對位吹水室8分別與儲氣罐12連通;真空干燥室9內設置有干燥裝置且與真空泵13連通;渦流清洗室4、對位清洗室5、高壓清洗室6、旋轉倒水室7、對位吹水室8及真空干燥室9均設置有限位結構、到位檢測系統及壓緊機構,機架1靠近渦流清洗室4的一端設置有上料機構(圖中未示出),上料機構中設置有代碼識別系統;機架1靠近真空干燥室9的一端設置有下料機構(圖中未示出);旋轉倒水室7內設有用于缸體旋轉的旋轉機構和側面風刀;渦流清洗室4的頂面上設置有多個文丘里噴嘴14;對位清洗室5和對位吹水室8內均設置有多個可調節角度的噴嘴。

文丘里噴嘴14為2個,文丘里噴嘴14可滑動地安裝在連桿15上,連桿15通過升降機構安裝在渦流清洗室4,;這樣使得可以將兩個文丘里噴嘴14可以同時位于缸體16的腔室內或者位于缸體16的外側,或者一個噴嘴在缸體外側、一個噴嘴在缸體內側,兩個文丘里噴嘴14使得充滿清洗劑的渦流清洗室4內產生渦流,可以使得清洗劑形成垂直方向上的循環渦流,使得清洗劑能夠從渦流清洗室4的底部向上涌動,使得清洗劑能夠對位于缸體底部的盲孔進行清洗,并且還能使得清洗劑能夠從通孔的底端進入孔內,使得可以多個方位對缸體的孔系進行多次清洗;并且這樣也能夠對異形缸體的所有面組、以及每個上的溝槽和棱角處進行多次沖擊進行清洗,將沉積在缸體各個孔內、棱角和縫隙處以及溝槽中的大部分灰塵、雜質以及鐵屑都能進行清洗。

對位清洗室5的四個側壁上分別設置有可調節角度的液體噴嘴17;對位清洗室5靠近頂面的內側壁處設置有安裝板18,安裝板18與氣缸19的活塞桿連接,且安裝板18上固定有多個錐形液體噴嘴20,本發明通過多個液體噴嘴17和多個錐形液體噴嘴20對異形缸體進行清洗,使得可改變角度的液體噴嘴17和錐形液體噴嘴20能夠產生與異形缸體所有面組相切的水流,對附著在缸體上的表面上的灰塵和雜質具有更大的沖擊力;并且使得水流將缸體中的雜質和灰塵被水流帶走,避免清洗下來的雜質和灰塵又附著在缸體的表面上;并且缸體的所有面組會被來自多個方向的水流進行沖洗,并且通過調節水流的角度,使得能夠對缸體的所有的孔系、溝槽或者棱角處進行多次不同角度的清洗,使得對缸體的清洗更加全面,并且雜質和灰塵能夠隨著水流帶走。

對位吹水室8的四個側壁上分別設置有可調節角度的氣體噴嘴21,對位吹水室8靠近頂面的內側壁處設置有安裝板18,安裝板18與氣缸19的活塞桿連接,且安裝板18上固定有多個錐形氣體噴嘴22;本發明通過多個氣體噴嘴21和多個錐形氣體噴嘴22對異形缸體進行對位吹水,使得可改變角度的氣體噴嘴21和錐形氣體噴嘴22能夠產生與異形缸體所有面組相切的氣流,對附著在缸體上的表面的清洗劑和水具有更大的沖擊力;并且使得氣流將缸體上附著的清洗劑和水分帶走,避免缸體所有面組上殘留有清洗劑,避免清洗劑殘留在缸體上對缸體造成不可修復的損壞;并且缸體的所有面組會被來自多個方向的氣流進行沖洗;使得可以將缸體上附著的清洗劑帶走。

一種缸體清洗機的清洗方法,包括如下步驟:

上料工段:缸體通過上料機構進入導軌中,產品代碼識別系統對缸體的型號進行識別;

渦流清洗:缸體通過導軌上的輸送機構進入渦流清洗室,將缸體進行限位和壓緊,到位檢測系統檢測缸體到達預定位置,渦流清洗室的封閉門關閉,渦流清洗室內蓄滿清洗液,最后采用文丘里噴嘴對缸體進行渦流清洗,清洗完畢排放清洗液,打開封閉門;

對位清洗:缸體進入對位清洗室,同樣對進行缸體限位、壓緊及位置檢測,關閉封閉門,通過多個可調節角度的液體噴嘴針對缸體所有面組和各孔系進行清洗,清洗完畢打開封閉門;

高壓清洗:缸體進入高壓清洗室,采用高壓噴嘴對缸體的主油道及側油道孔清洗,清洗壓力為12-150bar;

旋轉倒水:缸體進入倒水工位,缸體固定在旋轉機構上且通過旋轉機構進行旋轉倒水,缸體旋轉的同時通過側面風刀對工件進行掃描吹水,能夠將缸體中孔內和溝槽內的清洗劑和水進行倒出;避免缸體中孔系和溝槽內清洗劑過多,導致干燥也無法將清洗劑完全清除,容易造成缸體的損壞;

對位切水:缸體晶進入對位切水室,對缸體進行限位、壓緊及位置檢測,采用多個可調節角度的氣體噴嘴針對缸體所有面系和所有孔系進行對位切水,壓縮空氣的壓力為3-4kg;

真空干燥:缸體進入到真空干燥室,真空泵進行抽真空,極限真空度為0.5Mbar,真空干燥室內的氣體循環流量為240m3/h;

下料工段:干燥完畢的缸體通過下料工段將缸體取下。

以上所述僅為本發明的較佳實施例而已,并不用以限制本發明,凡在本發明的精神和原則之內,所作的任何修改、等同替換、改進等,均應包含在本發明的保護范圍之內。

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