本技術涉及防著板清洗裝置，具體為一種半導體磁控濺射防著板清洗裝置。

背景技術：

1、半導體磁控濺射加工時為防止真空腔內設備部件和腔壁被污染，需要安裝多塊防著板以形成保護，阻擋靶材材料濺射到受保護的區(qū)域，為了防著板可循環(huán)使用，需要在加工結束后對其進行清洗處理。

2、例如公告號為：cn218435919u(名為一種可拆分式防著板表面殘留物的清洗裝置)，包括清洗桶，所述清洗桶的底部內側固定連接有底板，所述底板的底端固定連接有支撐座，所述支撐座的底端固定安裝有電機，所述清洗桶頂部內側的前后兩端分別設有攪拌桿，所述攪拌桿的底端貫穿并轉動連接于底板的內側，所述電機輸出端通過傳動組件與兩個攪拌桿貫穿底板的一端固定連接，所述攪拌桿的兩端從上至下均勻固定連接有若干個橡膠樹，所述清洗桶頂部內側的兩端分別設有夾持塊，所述夾持塊的前后兩端分別通過導軌滑動連接有限位塊，兩個所述限位塊的兩端分別與清洗桶頂部兩端內壁固定連接，兩個所述夾持塊相對一側分別開設有凸型通槽，兩個所述凸型通槽相對一端的寬度大于相背離一端的寬度，所述傳動組件包括分別固定連接于兩個攪拌桿貫穿底板一端外側的兩個傳動輪，兩個所述傳動輪之間設有傳動帶，所述支撐座的上表面開設有安裝槽，所述傳動帶和兩個傳動輪均安裝于安裝槽內。

3、上述清洗裝置通過設置的刷洗結構對防著板的表面進行清洗處理，但防著板表面附著鍍膜材料，單純的刷洗難以有效的將鍍膜污染物刮去，造成清洗潔凈程度較差的問題，為此，我們提供一種半導體磁控濺射防著板清洗裝置。

技術實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的在于提供一種半導體磁控濺射防著板清洗裝置，以解決上述背景技術中提出的現(xiàn)有的清洗裝置通過設置的刷洗結構對防著板的表面進行清洗處理，但防著板表面附著鍍膜材料，單純的刷洗難以有效的將鍍膜污染物刮去，造成清洗潔凈程度較差的問題。

2、為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種半導體磁控濺射防著板清洗裝置，包括底座板，底座板的上端設置有豎直架板，豎直架板與底座板為一體結構，豎直架板的前端面上焊接設置有清洗池和前置托板，清洗池的一側設置有配電箱；

3、還包括：

4、卡夾座板，其設置在所述清洗池的內部，卡夾座板設置有兩個，且兩個卡夾座板的一端均設置有螺紋聯(lián)動桿，螺紋聯(lián)動桿的一端與卡夾座板內的圓槽活動連接，螺紋聯(lián)動桿通過螺紋穿孔與清洗池活動連接，卡夾座板的兩側外壁上均焊接設置有架設連桿；

5、接水箱，其設置在所述清洗池的下方位置上，且接水箱與清洗池之間設置有排水管，排水管分別與接水箱和清洗池連通設置，排水管的進水端位置上安裝有過濾斗；

6、上水泵，其設置在所述接水箱的一側位置上，接水箱的出水端與上水泵的進水端密封連接，且上水泵的出水端上密封連接設置有注水接管，注水接管與豎直架板穿接連接位置，注水接管的出水端與清洗噴頭連通設置。

7、優(yōu)選的，所述架設連桿與清洗池的活動連接位置上設置有活動桿槽，活動桿槽與清洗池為一體結構，活動桿槽的一側設置有導向內槽，導向內槽與活動桿槽連通設置。

8、優(yōu)選的，所述導向內槽的內部設置有內滑塊，內滑塊的底部設置有塑料滾輪，塑料滾輪通過軸承和連接軸與內滑塊活動連接，內滑塊通過塑料滾輪與導向內槽活動連接。

9、優(yōu)選的，所述清洗池的前端面上設置有擺放臺，擺放臺與清洗池為一體結構，擺放臺的上端擺放設置有清洗液罐和推刮板。

10、優(yōu)選的，所述清洗噴頭的進水端位置上設置有套管座，套管座與注水接管套接連接。

11、優(yōu)選的，兩個所述螺紋聯(lián)動桿的一端外壁上均設置有轉把，轉把與螺紋聯(lián)動桿為一體結構。

12、與現(xiàn)有技術相比，本實用新型的有益效果是：

13、1、本實用新型通過轉動兩個螺紋聯(lián)動桿帶動兩個卡夾座板在清洗池的內部位移，使得防著板的兩端分別被兩個卡夾座板抵接卡位，接著將清洗液罐內部的防著板清洗劑滴加涂抹到防著板的附著污染面上，使得清洗劑與防著板表面附著的鍍膜原料得以溶解反應，與此同時清洗噴頭噴水清洗掉溶解的污染物，并手動抓取操作推刮板進一步的刮除附著的污染物，提高了對防著板清洗的潔凈程度，克服了現(xiàn)有的清洗裝置通過設置的刷洗結構對防著板的表面進行清洗處理，但防著板表面附著鍍膜材料，單純的刷洗難以有效的將鍍膜污染物刮去，造成清洗潔凈程度較差的問題。

14、2、清洗的水流出過濾斗后進入接水箱的內部，最后通過上水泵抽取后順著注水接管注回清洗噴頭的內部用以再清洗，降低了清洗所需的水能消耗。

技術特征：

1.一種半導體磁控濺射防著板清洗裝置，包括底座板(1)，底座板(1)的上端設置有豎直架板(3)，豎直架板(3)與底座板(1)為一體結構，豎直架板(3)的前端面上焊接設置有清洗池(2)和前置托板(4)，清洗池(2)的一側設置有配電箱(7)；

2.根據(jù)權利要求1所述的一種半導體磁控濺射防著板清洗裝置，其特征在于：所述架設連桿(14)與清洗池(2)的活動連接位置上設置有活動桿槽(20)，活動桿槽(20)與清洗池(2)為一體結構，活動桿槽(20)的一側設置有導向內槽(21)，導向內槽(21)與活動桿槽(20)連通設置。

3.根據(jù)權利要求2所述的一種半導體磁控濺射防著板清洗裝置，其特征在于：所述導向內槽(21)的內部設置有內滑塊(22)，內滑塊(22)的底部設置有塑料滾輪(23)，塑料滾輪(23)通過軸承和連接軸與內滑塊(22)活動連接，內滑塊(22)通過塑料滾輪(23)與導向內槽(21)活動連接。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種半導體磁控濺射防著板清洗裝置，其特征在于：所述清洗池(2)的前端面上設置有擺放臺(10)，擺放臺(10)與清洗池(2)為一體結構，擺放臺(10)的上端擺放設置有清洗液罐(11)和推刮板(12)。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種半導體磁控濺射防著板清洗裝置，其特征在于：所述清洗噴頭(6)的進水端位置上設置有套管座(5)，套管座(5)與注水接管(19)套接連接。

6.根據(jù)權利要求1所述的一種半導體磁控濺射防著板清洗裝置，其特征在于：兩個所述螺紋聯(lián)動桿(9)的一端外壁上均設置有轉把(15)，轉把(15)與螺紋聯(lián)動桿(9)為一體結構。

技術總結
本技術公開了一種半導體磁控濺射防著板清洗裝置，涉及防著板清洗裝置技術領域，為解決現(xiàn)有的清洗裝置通過設置的刷洗結構對防著板的表面進行清洗處理，但防著板表面附著鍍膜材料，單純的刷洗難以有效的將鍍膜污染物刮去，造成清洗潔凈程度較差的問題。包括底座板，底座板的上端設置有豎直架板，豎直架板與底座板為一體結構，豎直架板的前端面上焊接設置有清洗池和前置托板，清洗池的一側設置有配電箱；還包括：卡夾座板，其設置在所述清洗池的內部，卡夾座板設置有兩個，且兩個卡夾座板的一端均設置有螺紋聯(lián)動桿，螺紋聯(lián)動桿的一端與卡夾座板內的圓槽活動連接，螺紋聯(lián)動桿通過螺紋穿孔與清洗池活動連接。

技術研發(fā)人員：張向東
受保護的技術使用者：蘇州市振遠科技有限公司
技術研發(fā)日：20240617
技術公布日：2025/4/28