吸附筒氣體萬向擴散裝置制造方法
【專利摘要】提供一種吸附效率高,吸附劑利用率高的吸附筒氣體萬向擴散裝置,包括吸附筒的上端腔體(61)和吸附筒的下端腔體(62),在所述上端腔體內設置有瓦棱片堆集體(3),在下端腔體內設置有瓦棱片堆集體(7),所述瓦棱片堆集體由若干瓦棱片(11)隨機堆集組成。本實用新型適配于吸附筒,用于氣體分離、凈化、干燥等。
【專利說明】吸附筒氣體萬向擴散裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及氣體吸附裝置,特別是氣體吸附筒的氣體擴散裝置。
【背景技術】
[0002]吸附式制氮機、制氧機、空氣干燥機、天然氣脫水裝置等,都涉及氣體成分被吸附的過程。氣體流經吸附筒,氣體中的某種或某些成分被吸附劑吸附,由此實現氣體的分離或凈化、干燥。空氣氧氮分離即能生產氧氣或氮氣。空氣、天然氣中水蒸氣被吸附脫除即能實現干燥、脫水,被吸除其他雜質能實現凈化。
[0003]吸附筒內吸附劑對氣體中成分的吸附效率及吸附劑利用率,與氣體流經吸附床時氣流的擴散狀況有密切關系。氣流擴散充分、均勻,吸附效率高,吸附劑利用率高,反之吸附效率低,吸附劑利用率低。已有技術中的氣體吸附筒,在氣體進、出口部位對應的兩端處一般不加特殊裝置,導致氣體進、出口對應的吸附筒兩端處空間內氣流擴散狀況不佳,使氣體在吸附床內的擴散狀態也不佳,其結果是吸附效率不高,吸附劑利用率不高。
【發明內容】
[0004]本實用新型要解決已有技術中吸附筒內氣體氣流擴散不佳,導致吸附效率不高,劑吸附利用效不高的問題,為此提供本實用新型的一種吸附筒氣體萬向擴散裝置,該裝置能使氣體在吸附筒流入端與流出端腔體內氣流充分擴散充分,均勻,從而提高吸附效率和吸附劑利用率。
[0005]為解決上述問題,本實用新型采用的技術方案,其特殊之處是包括吸附筒的上端腔體和吸附筒的下端腔體,在所述上端腔體和下端腔體內設置有瓦棱片堆集體,該瓦棱片堆集體由若干瓦棱片隨機堆集組成。
[0006]所述瓦棱片為柜形瓦棱片。
[0007]所述瓦棱片的瓦棱方向與柜形邊斜交。
[0008]所述瓦棱片的大小與所述吸附筒容積大小對應,吸附筒容積相對大的,瓦棱片尺寸相對大,吸附筒容積相對小的,瓦棱片尺寸相對小。如此能解決氣體流動阻力過大的問題。
[0009]所述瓦棱片宜填滿于所述上端腔體和下端腔體。
[0010]所述上端腔體是指吸附筒上端孔板及濾板至吸附筒上端面所圍腔體,所述下端腔體是指吸附筒下端孔板及濾板至吸附筒下端面所圍腔體。吸附筒上端孔板及濾板和下端孔板及濾板之間的腔體內填充吸附劑。
[0011]本實用新型中的瓦棱片被隨機填充堆集于吸附筒的上端腔體和下端腔體。瓦棱片尺寸及瓦棱密度沒有限定,根據吸附筒容積大小相應改變,并考慮氣流阻力不能過大,這通過實踐及有限次試驗后是可以做到的。
[0012]本實用新型在吸附筒上端腔體和下端腔體內設置有瓦棱片堆集體,瓦棱片堆集體由若干瓦棱片隨機堆集組成,使堆集體內形成密集無章,隨機交錯分布的瓦棱通道,當氣體從吸附筒進氣口流入,通過上端腔體內的瓦棱片堆集體,氣流就被隨機快速擴散,并在上端腔體內趨于均勻分布,充分擴散的氣流進入吸附劑填充床,氣體便在吸附床內均勻分布,從而使吸附效率及吸附劑的利用率得到充分提高。當經過吸附分離后的氣體進入吸附筒下端腔體的瓦棱片堆集體,氣體在堆集體內充分擴散后從出氣口輸出;由于氣體在下端腔體內被再次隨機擴散,從而產生一種驅動力,這種驅動力驅使氣體在下端腔體上方處的吸附劑床層內充分擴散,避免直接出口引流導致下部吸附床層內氣體擴散不充分。本實用新型結構簡單,成本低,使用方便,氣體擴散效果好,從而吸附效率及吸附劑利用率高。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0013]圖1是本實用新型連同吸附筒結構示意圖;
[0014]圖2是本實用新型中的瓦棱片結構示意圖;
[0015]圖3是圖2的A-A剖視圖。
[0016]圖中標記:1氣體進口,2加料口,3瓦棱片堆集體,4孔板及濾板,5吸附劑,6吸附筒,61上端腔體,62下端腔體,7瓦棱片堆集體,8卸料口,9孔板及濾板,10出氣口,11瓦棱片。
【具體實施方式】
[0017]吸附筒氣體萬向擴散裝置,包括吸附筒的上端腔體61和吸附筒的下端腔體62,在所述上端腔體內設置有瓦棱片堆集體3,在下端腔體內設置有瓦棱片堆集體7,所述瓦棱片堆集體由若干瓦棱片11隨機堆集組成。所述瓦棱片為柜形瓦棱片。瓦棱片的瓦棱方向與柜形邊斜交。瓦棱片的大小與所述吸附筒容積大小對應,吸附筒容積相對大的,瓦棱片尺寸相對大,吸附筒容積相對小的,瓦棱片尺寸相對小。瓦棱片填滿于所述上腔體和下腔體。
【權利要求】
1.吸附筒氣體萬向擴散裝置,其特征是包括吸附筒的上端腔體(61)和吸附筒的下端腔體(62),在所述上端腔體內設置有瓦棱片堆集體(3),在下端腔體內設置有瓦棱片堆集體(7 ),所述瓦棱片堆集體由若干瓦棱片(11)隨機堆集組成。
2.如權利要求1所述的萬向擴散裝置,其特征是所述瓦棱片為柜形瓦棱片。
3.如權利要求2所述的萬向擴散裝置,其特征是所述瓦棱片的瓦棱方向與柜形邊斜交。
4.如權利要求1、2或3所述的萬向擴散裝置,其特征是所述瓦棱片的大小與所述吸附筒容積大小對應,吸附筒容積相對大的,瓦棱片尺寸相對大,吸附筒容積相對小的,瓦棱片尺寸相對小。
5.如權利要求4所述的萬向擴散裝置,其特征是所述瓦棱片填滿于所述上腔體和下腔體。
【文檔編號】B01D53/04GK203829872SQ201420210054
【公開日】2014年9月17日 申請日期:2014年4月26日 優先權日:2014年4月26日
【發明者】不公告發明人 申請人:杭州正高氣體科技有限公司