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一種零件漏鍍鎳檢測設備的制作方法

文檔序號:41735810發布日期:2025-04-25 17:08閱讀:11來源:國知局
一種零件漏鍍鎳檢測設備的制作方法

本技術涉及檢測設備領域,特別是一種零件漏鍍鎳檢測設備。


背景技術:

1、在鍍錫零件生產完成之后,需要對產品的平面度進行檢測,以確定產品平面度以及產品上設計的安裝孔深度是否符合設計需求。其次,為了防止零件在出廠時出現漏錫的情況,還需要對產品表面的鍍錫情況進行檢測。最后,現目前在零件生完過程中,會在零件表面噴涂二維碼,通過掃描零件上的二維碼來了解產品的型號以及其他的技術特征,針對此類鍍錫零件,為保證二維碼能正確被掃碼設備識別,還需要在出廠前對產品上的二維碼進行掃碼檢測。針對上述提出的技術問題,實踐中在鍍錫產品出廠前需要提供一種檢測設備來檢測鍍錫零件表面的鍍錫情況、產品平面度、安裝孔深以及二維碼標識是否正確。


技術實現思路

1、本實用新型的目的在于克服現有技術的不足,提供一種零件漏鍍鎳檢測設備,以解決上述背景技術中所提出的技術問題。

2、本實用新型的目的是通過以下技術方案來實現的:

3、一種零件漏鍍鎳檢測設備,包括底板以及安裝在所述底板上方的轉盤,所述轉盤上的外延周向上等間隔依次布置有放料工位、緩沖工位、鍍錫檢測工位、平面度檢測工位、二維碼檢測工位以及ng下料工位,其中每一個工位上均安裝有零件座,所述零件座上設置有與待檢測零件外形匹配的型腔,所述鍍錫檢測工位的上方安裝有工業相機,所述平面度檢測工位上方設置有線激光相機,所述二維碼檢測工位下方設置掃碼相機,所述ng下料工位上設置有ng下料裝置。

4、上述
技術實現要素:
中,進一步的,所述底板上安裝有第一支架,工業相機固定安裝在所述第一支架上。

5、上述實用新型內容中,進一步的,所述底板上安裝有第二支架,所述第二支架上固定安裝有線性模組,線激光相機固定安裝在所述線性模組上。

6、上述實用新型內容中,進一步的,所述零件座的型腔底部設置有與待檢測零件上二維碼對應的掃描孔。

7、上述實用新型內容中,進一步的,所述ng下料裝置包括氣缸模組以及安裝在所述氣缸模組上的真空吸盤,所述真空吸盤的一側設置有安裝在底板上的皮帶輸送裝置。

8、上述實用新型內容中,進一步的,所述底板下方設置有底座箱,底板固定安裝在所述底座箱上。

9、本實用新型的有益效果是:

10、本實用新型通過在轉盤上設置有鍍錫檢測工位、平面度檢測工位以及二維碼檢測工位,并且分別在以上工位上設置有工業相機、線激光相機以及掃碼相機,通過轉盤的轉動可以將鍍錫零件送至上述工位進行逐一檢測,能夠嚴格把控鍍錫產品的良品率,保證鍍錫產品在出廠前滿足出廠要求。



技術特征:

1.一種零件漏鍍鎳檢測設備,其特征在于,包括底板以及安裝在所述底板上方的轉盤,所述轉盤上的外延周向上等間隔依次布置有放料工位、緩沖工位、鍍錫檢測工位、平面度檢測工位、二維碼檢測工位以及ng下料工位,其中每一個工位上均安裝有零件座,所述零件座上設置有與待檢測零件外形匹配的型腔,所述鍍錫檢測工位的上安裝有工業相機,所述平面度檢測工位上設置有線激光相機,所述二維碼檢測工位上設置有掃碼相機,所述ng下料工位上設置有ng下料裝置。

2.根據權利要求1所述的一種零件漏鍍鎳檢測設備,其特征在于,所述底板上安裝有第一支架,工業相機固定安裝在所述第一支架上。

3.根據權利要求1所述的一種零件漏鍍鎳檢測設備,其特征在于,所述底板上安裝有第二支架,所述第二支架上固定安裝有線性模組,線激光相機固定安裝在所述線性模組上。

4.根據權利要求1所述的一種零件漏鍍鎳檢測設備,其特征在于,所述零件座的型腔底部設置有與待檢測零件上二維碼對應的掃描孔。

5.根據權利要求1所述的一種零件漏鍍鎳檢測設備,其特征在于,所述ng下料裝置包括氣缸模組以及安裝在所述氣缸模組上的真空吸盤,所述真空吸盤的一側設置有安裝在底板上的皮帶輸送裝置。

6.根據權利要求1所述的一種零件漏鍍鎳檢測設備,其特征在于,所述底板下方設置有底座箱,底板固定安裝在所述底座箱上。


技術總結
一種零件漏鍍鎳檢測設備,包括底板以及安裝在底板上方的轉盤,轉盤上的外延周向上等間隔依次布置有放料工位、緩沖工位、鍍錫檢測工位、平面度檢測工位、二維碼檢測工位以及NG下料工位,其中每一個工位上均安裝有零件座,零件座上設置有與待檢測零件外形匹配的型腔,鍍錫檢測工位的上安裝有工業相機,平面度檢測工位上設置有線激光相機,二維碼檢測工位方設置掃碼相機。本技術通過在轉盤上設置有鍍錫檢測工位、平面度檢測工位以及二維碼檢測工位,并且分別在以上工位上設置有工業相機、線激光相機以及掃碼相機,通過轉盤的轉動可以將鍍錫零件送至上述工位進行逐一檢測,能夠嚴格把控鍍錫產品的良品率,保證鍍錫產品在出廠前滿足出廠要求。

技術研發人員:譚剛,張曉茗,朱鵬志,劉呈明,陶泓宇,徐鈺,周勝全
受保護的技術使用者:成都宏明雙新科技股份有限公司
技術研發日:20240628
技術公布日:2025/4/24
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