本發明涉及一種焊料制備方法,具體地說,涉及一種陶瓷基板表面選擇性制備金錫共晶焊料的方法。
背景技術:
金錫合金焊料具有強度高,抗氧化性能好,抗熱疲勞和蠕變性能優良,熔點低,流動性好等特點,是光電子封裝領域中最理想的焊料。隨著光電子器件的快速發展,對金錫合金焊料的需求也越來越大。由于目前金錫共晶焊料的制作方法一般為物理法,如金錫焊料預成型片;也有采用電沉積的方法的,但是其配方多為氰化金等氰化物體系,對環境污染嚴重且鍍液的穩定性差,易分解。
在高導熱基板實現散熱時,焊料的導熱效果嚴重影響了整個部件的散熱效果,從而使散熱的效率降低。
技術實現要素:
本發明的目的是解決現有技術的不足,提供一種陶瓷基板表面選擇性制備金錫共晶焊料的方法,用電鍍和光刻工藝聯合制備陶瓷表面金錫共晶焊墊,可用于在陶瓷基板上選擇性制備金錫共晶焊料,具有可實現選擇性電沉積,凸點厚度可控等優點,適合于光電子領域的封裝。
本發明是通過以下技術方案實現的:
一種陶瓷基板表面選擇性制備金錫共晶焊料的方法,其特征在于包括以下步驟:(1)陶瓷基板上物理法或電化學方法鍍上金屬層;(2)在金屬層上用光刻技術進行處理得到圖形層;(3)用金屬的蝕刻液對金屬層進行蝕刻,得到圖形化的金屬層;(4)在圖形化的金屬層上電沉積金錫合金,形成焊料,電沉積采用的金錫合金電鍍液為無氰體系的電鍍液,包括金鹽、錫鹽,光亮劑、絡合劑和抗氧化劑。
進一步地,所述陶瓷基板為氧化鋁陶瓷基板或氮化鋁陶瓷基板。
進一步地,所述陶瓷基板的厚度為0.5~5μm。
進一步地,所述金屬層的厚度在1~100nm。
進一步地,所述光刻技術是光刻膠技術,包括正膠刻技術或負膠刻技術。
進一步地,所述圖形層為連接的圖形。
優選地,金錫合金電鍍液中還包括銦鹽和鎵鹽。銦鹽和鎵鹽的加入,進一步保障了金錫合金電鍍液的穩定性,且使金錫共晶焊料的熔點降低至276℃±0.2℃。
優選地,金錫合金電鍍液的pH為3~7。
與現有技術相比,本發明具有以下特點:
1.現有技術所制得的金錫合金共晶焊料多為預成型片,其形狀一定,由于金錫合金脆性大不適合機械加工,無法得到多種形狀的焊料,而本發明能夠選擇性電沉積金錫共晶焊料,可以制備各種圖形形狀的凸點焊料;
2.本發明電沉積法制備的金錫合金共晶焊料具有成本低、生產效率高、適合復雜形狀和小尺寸鍍件等特點;
3.本發明通過電沉積的方法制備金錫共晶焊料,所制得的焊料凸點的厚度可控且厚度在10~50μm,通過控制電流密度和電鍍時間可以得到不同厚度的凸點,滿足不同的封裝需求;
4.本發明的金錫合金焊料制備工藝,其金錫合金不僅具有良好的潤濕性、焊接性和抗腐蝕性,同時本發明所述的鍍液為無氰的電鍍體系,相比其他氰化物體系鍍金具有環保無害等優點,且其穩定性也較高;
5.本發明制備的金錫共晶焊料熔點在280℃±0.2℃,焊接性能好,氣密性高;
6.本發明制備的金錫共晶焊料具有光亮平整的特點,在與需要焊接的物品上能夠形成氣密性良好的焊接層,且具有良好的機械性能。
附圖說明
圖1是實施例1的陶瓷基板上蝕刻后得到的陣列圖形示意圖;
圖2是實施例2制備得到的金錫共晶凸點放大示意圖;
具體實施方式
以下結合附圖對本發明的優選實施例進行說明,應當理解,此處所描述的優選實施例僅用于說明和解釋本發明,并不用于限定本發明。
實施例1
在厚度為0.5μm的氧化鋁陶瓷基板上通過濺射厚度為20nm的第一導電層,再電鍍銅作為第二導電層(厚度為50nm),通過光刻技術進行處理得到圖形層,再通過蝕刻銅得到如圖1所示陣列圖形。對該陣列圖形電鍍金錫合金焊料,金錫合金電鍍液為無氰體系的電鍍液,pH為3~7,包括金鹽、錫鹽,光亮劑、絡合劑和抗氧化劑,最后得到圖形化的金錫共晶焊料。
實施例2
在厚度為0.5μm的高導熱的氮化鋁基板上通過電化學方法鍍上金層(厚度為1nm),然后通過正膠刻工藝和蝕刻技術得到圖形化的金層,在金層上實現電鍍金錫合金焊料,電鍍液為無氰體系的電鍍液,包括金鹽、錫鹽,光亮劑、絡合劑、抗氧化劑和銦鹽、鎵鹽。最后得到圖形化的金錫共晶焊料(其中兩個金錫共晶凸點放大圖如圖2)。
實施例3
在厚度為5μm的氧化鋁陶瓷基板上通過電化學方法鍍上金層(厚度為
100nm),然后在金層上通過負膠刻處理得到圖形層,用金的蝕刻液對金層蝕刻得到圖形化的金層,在金層上實現電鍍金錫合金焊料,電鍍液為無氰體系的電鍍液,包括金鹽、錫鹽,光亮劑、絡合劑、抗氧化劑和銦鹽、鎵鹽。最后得到圖形化的金錫共晶焊料。
實施例4
在厚度為5μm的高導熱的氮化鋁基板上通過濺射厚度為30nm第一導電層,再電鍍銅作為第二導電層(厚度為20nm),通過光刻技術進行處理得到圖形層,再蝕刻銅得到圖形化銅層,在圖形化銅層上實現電鍍金錫合金焊料,電鍍液為無氰體系的電鍍液,pH為3~7,包括金鹽、錫鹽,光亮劑、絡合劑和抗氧化劑。最后得到圖形化的金錫共晶焊料。
本發明并不局限于上述實施方式,如果對本發明的各種改動或變形不脫離本發明的精神和范圍,倘若這些改動和變形屬于本發明的權利要求和等同技術范圍之內,則本發明也意圖包含這些改動和變形。