本申請涉及磁共振成像(magnetic?resonance?imaging，mri)，更具體地，本申請涉及mri系統(tǒng)和用于mri系統(tǒng)的勻場方法。

背景技術(shù)：

1、mri技術(shù)在醫(yī)學(xué)診斷方面發(fā)揮著重要作用。mri技術(shù)一般通過mri設(shè)備實施，mri設(shè)備限定磁體掃描腔并適于產(chǎn)生穿過磁體掃描腔的主磁場，以使得位于磁體掃描腔內(nèi)的患者的至少一部分磁性核自旋對準(zhǔn)。主磁場強(qiáng)度較高，且期望主磁場在磁體掃描腔的一定容積范圍內(nèi)的分布具有符合要求的均勻性，也就是穿過所述一定容積范圍內(nèi)的任意單位面積的磁感線數(shù)量具有一致性。在mri的過程中，如果主磁場不均勻，則可能導(dǎo)致針對于患者的所述至少一部分產(chǎn)生的圖像模糊或出現(xiàn)偽影。

2、受mri設(shè)備設(shè)計和制造工藝的限制以及周圍環(huán)境的影響，由初始處于一環(huán)境中的mri設(shè)備產(chǎn)生的主磁場基本無法實現(xiàn)符合要求的均勻性。為了改善主磁場的均勻性，可以對處于這個環(huán)境中的mri設(shè)備進(jìn)行勻場操作。一般而言，勻場操作包括主動勻場和被動勻場。主動勻場又被稱為有源勻場，其指通過適當(dāng)調(diào)節(jié)安裝在mri設(shè)備中的勻場線圈陣列中各線圈的電流強(qiáng)度，使其周圍的局部磁場發(fā)生變化。被動勻場又被稱為無源勻場，其指在mri設(shè)備中添加專用的勻場片以使主磁場變形/畸變，勻場片可以為由硅鋼或者其他的軟磁性材料制成的薄板，形狀可以為矩形或其他幾何形狀。勻場片的準(zhǔn)確添加涉及mri設(shè)備的多次升場、降場過程，耗時耗力，這也是mri設(shè)備在一環(huán)境中完成勻場操作后便固定不動且盡量不要去改變環(huán)境的原因之一。

3、可見，當(dāng)需要將同一臺mri設(shè)備應(yīng)用于不同環(huán)境中時，即便這臺mri設(shè)備已經(jīng)在其中一個環(huán)境中完成初始勻場操作，仍還需在另一環(huán)境中再次對這臺mri設(shè)備進(jìn)行后續(xù)勻場操作。因此，如何在另一環(huán)境中方便且快速地進(jìn)行后續(xù)勻場操作且保證同一臺mri設(shè)備在不同環(huán)境中進(jìn)行的初始、后續(xù)勻場操作的結(jié)果的相對獨立性，已經(jīng)成為一項挑戰(zhàn)。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本申請的一個目的是提供一種mri系統(tǒng)和用于mri系統(tǒng)的勻場方法，其能夠以改進(jìn)的方式對同一臺mri設(shè)備在不同環(huán)境中/狀態(tài)下進(jìn)行初始、后續(xù)勻場操作且保證初始、后續(xù)勻場操作的結(jié)果的相對獨立性。

2、根據(jù)本申請的一方面，提供一種mri系統(tǒng)，包括：mri設(shè)備，其限定磁體掃描腔并適于產(chǎn)生穿過磁體掃描腔的主磁場；手術(shù)臺，其適于與mri設(shè)備接合，以使得位于手術(shù)臺上的患者的至少一部分進(jìn)入磁體掃描腔內(nèi)；移位機(jī)構(gòu)，其適于使得mri設(shè)備和手術(shù)臺之一是可移位的；尋跡裝置，其適于控制移位機(jī)構(gòu)，以引起mri設(shè)備和手術(shù)臺之一以預(yù)設(shè)路徑在第一區(qū)域和第二區(qū)域之間移位；至少一個第一勻場片，其被布置在mri設(shè)備的預(yù)設(shè)位置處，以校正在mri設(shè)備位于第一區(qū)域且手術(shù)臺位于第二區(qū)域的狀態(tài)下檢測到的、由mri設(shè)備產(chǎn)生的主磁場的第一不均勻性；以及至少一個第二勻場片，其被布置在手術(shù)臺的預(yù)設(shè)位置處，以校正在手術(shù)臺與mri設(shè)備接合的狀態(tài)下檢測到的、由mri設(shè)備產(chǎn)生的主磁場的第二不均勻性，其中，所述至少一個第二勻場片在尺寸上不同于所述至少一個第一勻場片。

3、可選地，第一區(qū)域被包括在具有射頻屏蔽的診斷室中，第二區(qū)域被包括在具有射頻屏蔽的手術(shù)室中，且移位機(jī)構(gòu)被安裝至mri設(shè)備，由此mri設(shè)備適于借助于尋跡裝置從第一區(qū)域的第一位置移位至第二區(qū)域的第二位置，以與位于第二區(qū)域的手術(shù)臺接合；或第一區(qū)域被包括具有射頻屏蔽的診斷室中，第二區(qū)域被包括在不具有射頻屏蔽的手術(shù)室中，且移位機(jī)構(gòu)被安裝至手術(shù)臺，由此手術(shù)臺適于借助于尋跡裝置朝向于第一區(qū)域的第一位置從第二區(qū)域的第二位置移位，以與位于第一區(qū)域的mri設(shè)備接合。

4、可選地，所述至少一個第二勻場片包括多個第二勻場片，所述多個第二勻場片在尺寸上彼此不同。

5、可選地，手術(shù)臺包括支撐臺面和可拆卸地安裝在支撐臺面上的平板，平板適于供患者躺臥，其中，手術(shù)臺的預(yù)設(shè)位置為標(biāo)記在支撐臺面上的多個作用位置，所述至少一個第二勻場片中的一個在被定位在所述多個作用位置中的相應(yīng)一個作用位置處時，將依據(jù)預(yù)先確定的變形作用來使得主磁場變形，從而校正第二不均勻性。

6、可選地，在所述多個作用位置中的至少一個作用位置處設(shè)置可供一個第二勻場片插入的插槽，且所述一個第二勻場片在插槽中是可滑動的。

7、可選地，多個插槽沿著支撐臺面的寬度方向間隔分布，每個插槽沿著支撐臺面的長度方向延伸；或多個插槽沿著支撐臺面的長度方向間隔分布，每個插槽沿著支撐臺面的寬度方向延伸；或沿著支撐臺面的長度方向排列有多個插槽和/或沿著支撐臺面的寬度方向排列有多個插槽，以形成插槽陣列；或多個插槽中的至少一個與支撐臺面的長度方向或?qū)挾确较虺山嵌鹊匮由臁?/p>

8、可選地，mri系統(tǒng)還包括勻場條，勻場條沿著其長度方向設(shè)置有彼此間隔開的多個第二腔室，以用于放置所述至少一個第二勻場片，且所述支撐臺面限定有凹口，當(dāng)勻場條被放置在所述凹口中時，所述多個第二腔室分別與所述多個作用位置相對應(yīng)。

9、可選地，平板由導(dǎo)熱性低的無磁性非金屬制成和/或支撐臺面由導(dǎo)熱性高的無磁性金屬制成。

10、根據(jù)本申請的另一方面，提供一種勻場方法，其用于如上所述的mri系統(tǒng)，所述勻場方法包括以下步驟：將mri設(shè)備和手術(shù)臺之一移位至與mri設(shè)備和手術(shù)臺中的另一個接合；在手術(shù)臺與mri設(shè)備接合的狀態(tài)下檢測由mri設(shè)備產(chǎn)生的主磁場的第二不均勻性；以及將所述至少一個第二勻場片布置在手術(shù)臺的預(yù)設(shè)位置處，以校正第二不均勻性。

11、可選地，所述勻場方法還包括以下步驟：在將mri設(shè)備和手術(shù)臺之一移位至與mri設(shè)備和手術(shù)臺中的另一個接合之前，在mri設(shè)備位于第一區(qū)域且手術(shù)臺位于第二區(qū)域的狀態(tài)下檢測由mri設(shè)備產(chǎn)生的主磁場的第一不均勻性；以及將所述至少一個第一勻場片布置在mri設(shè)備的預(yù)設(shè)位置處，以校正第一不均勻性。

12、在本申請?zhí)峁┑膍ri系統(tǒng)和用于mri系統(tǒng)的勻場方法中，mri設(shè)備和手術(shù)臺中的所述一個可以在第一區(qū)域和第二區(qū)域之間移位，以使得mri設(shè)備的周圍環(huán)境、尤其周圍環(huán)境中所分布的磁場影響元素發(fā)生改變，所述至少一個第一勻場片在mri設(shè)備的預(yù)設(shè)位置處的布置是針對于改變前的周圍環(huán)境/狀態(tài)(即，mri設(shè)備位于第一區(qū)域且手術(shù)臺位于第二區(qū)域)對mri設(shè)備進(jìn)行的初始勻場操作，而所述至少一個第二勻場片在手術(shù)臺的預(yù)設(shè)位置處的布置是針對于改變后的周圍環(huán)境/狀態(tài)(即，在第一區(qū)域或第二區(qū)域中，手術(shù)臺與mri設(shè)備接合)對mri設(shè)備進(jìn)行的后續(xù)勻場操作，相比于初始勻場操作，后續(xù)勻場操作可以方便且快速地針對于改變后的周圍環(huán)境尤其微量地調(diào)節(jié)由mri設(shè)備產(chǎn)生的主磁場，即，使主磁場的磁感線向需要的方向微量地移位。

13、通過以下參照附圖對本申請的示例性實施方式的詳細(xì)描述，本申請的其它特征及其優(yōu)點將會變得清楚。

技術(shù)特征：

1.一種磁共振成像系統(tǒng)(100)，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁共振成像系統(tǒng)(100)，其特征在于，第一區(qū)域被包括在具有射頻屏蔽的診斷室中，第二區(qū)域被包括在具有射頻屏蔽的手術(shù)室中，且移位機(jī)構(gòu)被安裝至磁共振成像設(shè)備(10)，由此磁共振成像設(shè)備(10)適于借助于尋跡裝置(40)從第一區(qū)域的第一位置移位至第二區(qū)域的第二位置，以與位于第二區(qū)域的手術(shù)臺(30)接合；或

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁共振成像系統(tǒng)(100)，其特征在于，所述至少一個第二勻場片(150)包括多個第二勻場片(150)，所述多個第二勻場片(150)在尺寸上彼此不同。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的磁共振成像系統(tǒng)(100)，其特征在于，手術(shù)臺(30)包括支撐臺面(341)和可拆卸地安裝在支撐臺面(341)上的平板(342)，平板(342)適于供患者躺臥，其中，手術(shù)臺(30)的預(yù)設(shè)位置為標(biāo)記在支撐臺面(341)上的多個作用位置，所述至少一個第二勻場片(150)中的一個在被定位在所述多個作用位置中的相應(yīng)一個作用位置處時，將依據(jù)預(yù)先確定的變形作用來使得主磁場變形，從而校正第二不均勻性。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁共振成像系統(tǒng)(100)，其特征在于，在所述多個作用位置中的至少一個作用位置處設(shè)置可供一個第二勻場片(150)插入的插槽(345)，且所述一個第二勻場片(150)在插槽(345)中是可滑動的。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磁共振成像系統(tǒng)(100)，其特征在于，多個插槽(345)沿著支撐臺面(341)的寬度方向間隔分布，每個插槽(345)沿著支撐臺面(341)的長度方向延伸；或

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁共振成像系統(tǒng)(100)，其特征在于，還包括勻場條(160)，勻場條(160)沿著其長度方向設(shè)置有彼此間隔開的多個第二腔室(170)，以用于放置所述至少一個第二勻場片(150)，且所述支撐臺面(341)限定有凹口(349)，當(dāng)勻場條(160)被放置在所述凹口(349)中時，所述多個第二腔室(170)分別與所述多個作用位置相對應(yīng)。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁共振成像系統(tǒng)(100)，其特征在于，平板(342)由導(dǎo)熱性低的無磁性非金屬制成和/或支撐臺面(341)由導(dǎo)熱性高的無磁性金屬制成。

9.一種勻場方法，其用于根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項所述的磁共振成像系統(tǒng)(100)，其特征在于，所述勻場方法包括以下步驟：

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的勻場方法，其特征在于，還包括以下步驟：

技術(shù)總結(jié)
本申請公開了MRI系統(tǒng)和用于MRI系統(tǒng)的勻場方法，MRI系統(tǒng)包括：MRI設(shè)備，其限定磁體掃描腔并適于產(chǎn)生穿過磁體掃描腔的主磁場；手術(shù)臺；移位機(jī)構(gòu)，其適于使得MRI設(shè)備和手術(shù)臺中的一個是可移位的；尋跡裝置，其適于控制移位機(jī)構(gòu)，以引起MRI設(shè)備和手術(shù)臺中的所述一個以預(yù)設(shè)路徑在第一區(qū)域和第二區(qū)域之間移位；至少一個第一勻場片，其被布置在MRI設(shè)備的預(yù)設(shè)位置處，以校正在MRI設(shè)備位于第一區(qū)域且手術(shù)臺位于第二區(qū)域的狀態(tài)下檢測到的主磁場的第一不均勻性；以及至少一個第二勻場片，其被布置在手術(shù)臺的預(yù)設(shè)位置處，以校正在手術(shù)臺與MRI設(shè)備接合的狀態(tài)下檢測到的主磁場的第二不均勻性，其中，所述至少一個第二勻場片在尺寸上不同于所述至少一個第一勻場片。

技術(shù)研發(fā)人員：朱好勤,蘇進(jìn),張弓
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中加健康工程研究院（合肥）有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/4/28