1.一種水平井地質(zhì)導向的投影剖面控制方法，其特征在于：根據(jù)獲取的水平井軌跡曲線得到拐點坐標，計算相鄰兩個拐點連線的方位角，根據(jù)方位角及拐點坐標從地質(zhì)體模型或地震體中抽取多個單方位剖面，將多個單方位剖面依次連接并平鋪形成多方位剖面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水平井地質(zhì)導向的投影剖面控制方法，其特征在于：所述方法包括以下步驟：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的水平井地質(zhì)導向的投影剖面控制方法，其特征在于：所述計算水平井軌跡曲線拐點坐標，具體包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的水平井地質(zhì)導向的投影剖面控制方法，其特征在于：步驟23中，抽稀的具體操作包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的水平井地質(zhì)導向的投影剖面控制方法，其特征在于：將水平井軌跡曲線上相鄰兩個拐點直線連接形成抽稀線，確定相鄰兩個拐點之間的水平井軌跡曲線上距離抽稀線最遠的點位，如果該點位到抽稀線的距離大于閾值，則設該點位為新的拐點，具體操作包括：
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的水平井地質(zhì)導向的投影剖面控制方法，其特征在于：所述計算相鄰兩個拐點間連線的方位角，具體操作包括：
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的水平井地質(zhì)導向的投影剖面控制方法，其特征在于：所述從地質(zhì)體模型或地震體數(shù)據(jù)中抽取多個單方位剖面，具體操作包括：
8.一種水平井地質(zhì)導向的投影剖面控制裝置，其特征在于：包括：
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的水平井地質(zhì)導向的投影剖面控制裝置，其特征在于：所述拐點坐標確定單元包括：
10.一種計算機存儲介質(zhì)，其特征在于：所述計算機存儲介質(zhì)存儲有計算機可執(zhí)行的至少一個程序，所述至少一個程序被所述計算機執(zhí)行時使所述計算機執(zhí)行如權(quán)利要求1-7任一項所述的水平井地質(zhì)導向的投影剖面控制方法中的步驟。