專利名稱：襯底承載裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種LED、光伏電池等半導體器件的生產設備，尤其涉及一種應用于半導體器件生產工藝中的襯底承載裝置。
背景技術：
在LED、光伏電池等半導體器件的制程中，通常需要將襯底置于MOCVD等設備內的石墨盤等襯底承載器中，繼而在旋轉襯底承載器的同時，對襯底進行加熱，進而在襯底上沉積形成選定的半導體材料層。傳統半導體器件制程中，襯底被放置在石墨盤上的定位槽中， 定位槽的形狀為圓形，當石墨盤轉動時，襯底在圓形定位槽內也會轉動，使得襯底相對石墨盤的位置是隨機。然而，在現有半導體器件制程中一般希望襯底相對石墨盤的位置固定；現有技術的襯底通常具有定位平邊，因此，現有技術中采用了定位槽的形狀為與襯底的形狀對應的形狀，但在半導體器件制程中，襯底會隨著石墨盤的旋轉而在定位糟中轉動，而容易造成襯底，尤其是硬度較大的襯底，來回撞擊定位槽槽壁而破裂；且所述破裂主要出現在襯底定位平邊的端部。

發明內容
本發明的目的在于提供一種襯底承載裝置，以克服現有技術中的不足。為實現上述發明目的，本發明采用了如下技術方案
一種襯底承載裝置，包括可旋轉的襯底承載器，所述襯底承載器表面設有用于容置襯底的定位槽，且至少一個所述定位槽槽壁包括與襯底的定位平邊配合的平邊結構，其中，所述定位槽內還設有用于防止襯底定位平邊的兩端部與定位槽槽壁觸碰的定位緩沖機構。作為優選方案之一，所述定位緩沖機構包括分布于平邊結構兩端的槽。作為優選方案之一，所述槽為形成于槽壁上內凹的弧形槽。作為優選方案之一，所述定位緩沖機構包括嵌設于平邊結構兩端的緩沖元件。作為優選方案之一，所述緩沖元件包括由彈性材料形成的緩沖件。作為優選方案之一，所述緩沖元件包括彈簧緩沖片。作為優選方案之一，所述平邊結構與襯底承載器的旋轉方向的切線垂直。作為優選方案之一，所述平邊結構設置于所述定位槽朝向所述襯底承載器旋轉方向一側。與現有技術相比，本發明至少具有如下有益效果
在工作過程中，由于所述定位槽內設有用于防止襯底定位平邊的兩端部與定位槽槽壁觸碰的定位緩沖機構，無論襯底承載器是在常速旋轉，或是在加速、減速過程中，襯底定位平邊的兩端與定位槽槽壁幾乎不會發生點接觸，從而可有效防止襯底破裂。尤其是通過將定位槽按照所述平邊結構與襯底承載器的旋轉方向垂直的方式放置，更可使得撞擊行為主要發生在整個襯底定位平邊與定位槽的平邊結構之間，從而可更為有效的防止襯底破裂。本發明可被廣泛應用于MOCVD等半導體器件生產設備中。


圖I是本發明一較佳實施例中襯底承載器的結構不意 圖2是本發明一較佳實施例中定位槽的結構示意 附圖標記說明石墨盤10、襯底20、定位槽30、定位緩沖機構40。
具體實施例方式如前所述，在現有技術中襯底在工作過程中往往會因與定位槽的碰撞而受損或破裂，而本案發明人經長期實踐后發現，碰撞主要發生在襯底定位平邊的兩端，其原因在于，定位槽的平邊阻礙了襯底的轉動，使得襯底定位平邊的兩端與定位槽壁發生碰撞，又因為襯底定位平邊兩端的應力比較為集中，所以發生碰撞后容易破裂。
有鑒于此，本案發明人經審慎之研究，提出了本發明的技術方案，其大致如下 定位槽的形狀與襯底的形狀對應，則所述定位槽槽壁包括與襯底的襯底定位平邊配合
的平邊結構，且在定位槽中處設置定位緩沖機構，藉以使得襯底定位平邊的兩端不與定位槽槽壁碰觸，從而避免襯底定位平邊的兩端與定位側壁發生碰撞，減少破損的發生，從而提高產品的良率,并降低生產成本。參閱圖I-圖2所示系本發明的一較佳實施例，該較佳實施例中所采用的襯底承載器系石墨盤10，而在石墨盤10表面可以設置有多個用于容置襯底20的定位槽30，定位槽30具有與襯底定位平邊配合的平邊結構。又及，在本實施例中，所采用的定位緩沖機構40可以是對稱分布于定位槽30平邊結構兩端部的定位槽；所述分布于定位槽30平邊結構兩端部的定位槽使得所述襯底20的定位平邊兩端不能與所述定位槽30的槽壁接觸，從而防止所述襯底20的定位平邊兩端的碰撞損傷；優選的，所述定位槽為形成于槽壁上內凹的弧形、三角形或矩形等的槽。所述定位槽的平邊結構優選的與石墨盤10的旋轉方向垂直。藉由前述設計，在工作過程中，無論石墨盤10是在常速旋轉，或是在加速、減速過程中，襯底20的定位平邊與石墨盤10的撞擊將會發生在整個定位平邊與定位槽30的平邊結構之間，而且所述定位平邊的兩端與定位槽30的槽壁幾乎不會發生點接觸，從而可有效防止襯底破裂。優選的，所述定位槽30的平邊結構設置在朝向石墨盤10旋轉的方向一側。在本發明的另一較佳實施例中，所述定位緩沖機構40還可以是可采用主要由彈性材料形成的緩沖塊。優選的，所述緩沖塊亦可固定設置于定位槽平邊的兩端部。尤為優選的方式是，將所述緩沖塊嵌設在定位槽槽壁上，以減少緩沖塊對定位槽內空間的占用。顯然的，考慮到在工作過程中還可能需要對石墨盤進行加熱，以促進化學氣相沉積等反應的順利進行，故而，前述彈性材料宜選用耐高溫彈性材料，且本領域技術人員完全可以根據實際應用的需要而很容易的從習見的彈性材料中進行選擇。利用此緩沖塊，無論石墨盤10是在正常旋轉，或是在加速、減速過程中，襯底20的定位平邊的兩端均不會與定位槽30的槽壁直接碰觸，從而有效的防止襯底破裂。在本發明的再一較佳實施例中，所述定位緩沖機構40可采用彈簧緩沖片。
優選的，所述彈簧緩沖片亦可固定設置于定位槽30的平邊結構的兩端部，特別是，所述彈簧緩沖片可嵌設在定位槽30的槽壁上。同樣的，前述彈簧緩沖片宜選用耐高溫材料制成，但這是本領域技術人員完全可以根據實際應用的需要而很容易的從習見材料中進行選擇的。基于與前述緩沖塊類似的工作原理，利用此彈簧緩沖片亦可有效防止襯底的破 m
ο顯然的，本發明的襯底承載裝置可被廣泛應用于如MOCVD、PECVD, Etching等各類半導體處理設備中。最后需要指出的是，以上較佳實施例僅用于說明本發明的內容，除此之外，本發明還有其他實施方式，但凡本領域技術人員因本發明所涉及之技術啟示，而采用等同替換或等效變形方式形成的技術方案均落在本發明的保護范圍內。
權利要求
1.ー種襯底承載裝置，包括可旋轉的襯底承載器，所述襯底承載器表面設有用于容置襯底的定位槽，且至少ー個所述定位槽槽壁包括與襯底的定位平邊配合的平邊結構，其特征在于，所述定位槽內還設有用于防止襯底定位平邊的兩端部與定位槽槽壁觸碰的定位緩沖機構。
2.根據權利要求I所述的襯底承載裝置，其特征在于，所述定位緩沖機構包括分布于平邊結構兩端的槽。
3.根據權利要求2所述的襯底承載裝置，其特征在于，所述槽為形成于槽壁上內凹的弧形槽。
4.根據權利要求I所述的襯底承載裝置，其特征在于，所述定位緩沖機構包括嵌設于平邊結構兩端的緩沖元件。
5.根據權利要求4所述的襯底承載裝置，其特征在于，所述緩沖元件包括由弾性材料形成的緩沖件。
6.根據權利要求4所述的襯底承載裝置，其特征在于，所述緩沖元件包括彈簧緩沖片。
7.根據權利要求1-6中任ー項所述的襯底承載裝置，其特征在于，所述平邊結構與襯底承載器的旋轉方向的切線垂直。
8.根據權利要求7所述的襯底承載裝置，其特征在干，所述平邊結構設置于所述定位槽朝向所述襯底承載器旋轉方向ー側。
全文摘要
本發明公開了一種襯底承載裝置，它包括可旋轉的襯底承載器，所述襯底承載器表面設有用于容置襯底的定位槽，所述定位槽槽壁包括與襯底的定位平邊配合的平邊結構，所述定位槽內還設有用于防止襯底定位平邊的兩端部與定位槽槽壁觸碰的定位緩沖機構，藉此設計，本發明可有效防止襯底定位平邊兩端與襯底承載器發生碰撞，進而防止襯底破損。進一步的，通過將定位槽按照平邊結構朝向襯底承載器旋轉方向的方式放置，并且使平邊結構和襯底承載器中心的連線與襯底承載器的旋轉方向垂直，更可使得撞擊行為主要發生在整個襯底定位平邊與定位槽的平邊結構之間，從而可更為有效的防止襯底受損。本發明可被廣泛應用于MOCVD等半導體器件生產設備中。
文檔編號H01L21/68GK102856240SQ20121036572
公開日2013年1月2日 申請日期2012年9月27日 優先權日2012年9月27日
發明者黃穎泉, 喬徽, 梁秉文, 陳勇 申請人:光達光電設備科技(嘉興)有限公司