用于沉積的掩模、掩模組件和形成掩模組件的方法
【專利摘要】公開了一種用于沉積的掩模、掩模組件和形成掩模組件的方法，所述用于沉積的掩模包括：掩模主體，在第一方向上延伸，具有第一厚度，包括在第一方向上彼此相對并被框架支撐的端部，同時張力在第一方向上被施加到掩模；以及多個有效圖案，在掩模主體的中心區域中在第一方向上彼此分隔，具有小于第一厚度的第二厚度。
【專利說明】用于沉積的掩模、掩模組件和形成掩模組件的方法

【技術領域】
[0001]本發明涉及一種掩模和一種掩模組件。更具體地講，本發明涉及一種用于沉積有機層的掩模和一種掩模組件。

【背景技術】
[0002]通常，作為平板顯示器的代表性示例，具有有機發光顯示器、液晶顯示器、等離子體顯示面板等。
[0003]在這些中，為了制造有機發光顯示器，形成具有特定圖案的電極、有機發射層等。可以通過例如使用掩模組件的沉積方法來執行用于形成電極和有機發射層等的方法。
[0004]更具體地講，有機發光顯示器包括像素和有機發光二極管，像素是在基底上以矩陣形式排列的顯示圖像的基本單元，有機發光二極管具有與有機發射層順序地設置的陽極、第一電極、陰極和第二電極，每個有機發射層針對每個像素發射諸如紅色、綠色、藍色或白色的帶顏色的光。有機發射層的有機材料易受濕氣、氧等的侵害，使得在形成有機發射層的工藝過程中以及在形成有機發射層之后采用將有機材料與濕氣徹底隔離。因此，利用普通的光刻工藝執行圖案化會是困難的。因此，使用掩模形成有機發射層，在掩模中限定了用于使沉積材料僅穿過與掩模的每個圖案對應的部分的圖案開口。


【發明內容】

[0005]本發明的一個或更多個示例性實施例提供一種用于沉積的掩模和包括所述用于沉積的掩模的掩模組件，所述用于沉積的掩模控制由對掩模施加的張力而引起的掩模的有效圖案的變形。
[0006]不例性實施例提供了一種用于沉積的掩模，所述掩模包括:掩模主體，在第一方向上延伸并具有第一厚度，包括在第一方向上彼此相對并被框架支撐的端部，同時張力在第一方向上被施加到掩模；以及多個有效圖案，在掩模主體的中心區域中在第一方向上彼此分離，具有小于第一厚度的第二厚度。
[0007]所述掩模還可以包括第一虛設圖案，位于所述多個有效圖案中的在第一方向上的最外面的有效圖案和掩模主體的端部之間，并且具有介于第一厚度和第二厚度之間的第三厚度。
[0008]所述掩模還可以包括多個第一虛設圖案，位于所述多個有效圖案中的在第一方向上的最外面的有效圖案和掩模主體的端部之間，并且具有介于第一厚度和第二厚度之間的第三厚度。
[0009]多個有效開口可以限定在所述多個有效圖案中的一個有效圖案中，多個第一虛設開口可以限定在第一虛設圖案中，相鄰的有效開口之間的第一距離比相鄰的第一虛設開口之間的第二距離小。
[0010]所述掩模還可以包括位于所述多個有效圖案中的相鄰的有效圖案之間的第二虛設圖案。
[0011]第二虛設圖案可以具有第二厚度。
[0012]第二虛設圖案可以具有第三厚度。
[0013]所述掩模還可以包括分別位于來自所述多個有效圖案中的相鄰的有效圖案之間的多個第二虛設圖案。
[0014]多個有效開口可以限定在所述多個有效圖案中的有效圖案中，多個第二虛設開口可以限定在第二虛設圖案中，相鄰的有效開口之間的第一距離比相鄰的第二虛設開口之間的第三距離小。
[0015]另一個示例性實施例提供了一種掩模組件，所述掩模組件包括:框架，開口限定在框架中；以及至少一個掩模，當在第一方向上彼此相對的掩模端部被框架支撐，同時在第一方向上對掩模施加張力時，所述多個有效圖案與框架中的開口疊置。
[0016]所述掩模組件還可以包括在與第一方向交叉的第二方向上布置的多個掩模，其中，所述多個掩模的所述多個有效圖案與框架中的開口疊置。
[0017]根據一個或更多個示例性實施例，提供了用于沉積的掩模和包括所述用于沉積的掩模的掩模組件，所述用于沉積的掩模控制由于對掩模施加張力而引起的掩模的有效圖案的變形。掩模主體具有比由掩模的有效圖案限定的厚度大的厚度，所以改善了掩模主體的剛度。第一虛設圖案設置在最外面的有效圖案和掩模主體的在掩模的第一方向上的端部之間，第二虛設圖案設置在相鄰的有效圖案之間，每個虛設圖案具有比掩模主體的厚度小的厚度，所以第一虛設圖案和/或第二虛設圖案分散或吸收了施加到有效圖案的張力，由于在掩模的第一方向上對掩模施加的張力而引起的有效圖案的變形得到控制。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]通過參照附圖進一步詳細地描述本公開的示例性實施例，本公開的上述和其他特征將變得更加清楚，在附圖中:
[0019]圖1是根據本發明的掩模組件的示例性實施例的分解透視圖；
[0020]圖2是圖1中的掩模組件的俯視圖；
[0021]圖3是根據本發明的包括在掩模組件中的掩模的示例性實施例的俯視圖；
[0022]圖4是對于圖3的線IV-1V的剖視圖；
[0023]圖5是根據本發明的掩模的另一示例性實施例的俯視圖；
[0024]圖6是對于圖5的線V1-VI的剖視圖；
[0025]圖7是根據本發明的掩模的又一示例性實施例的俯視圖。

【具體實施方式】
[0026]在下文中，將參照附圖更充分地描述本發明，在附圖中示出了本發明的示例性實施例。如本領域技術人員將認識到的，在所有不脫離本發明的精神或范圍的情況下，可以以各種不同的方式修改描述的75例性實施例。
[0027]因此，附圖和描述在本質上將被認為是說明性的，而不是限制性的。在整個說明書中，相同的附圖標記指示相同的元件。如這里使用的，術語“和/或”包括一個或更多個相關所列項的任意和所有組合。
[0028]在各個示例性實施例中，對于具有相同構造的元件使用相同的附圖標記，并且將在一個示例性實施例中代表性地描述相同的附圖標記，在其他示例性實施例中，將僅描述與所述一個示例性實施例的元件不同的元件。
[0029]為了更好的理解和易于描述而在附圖中任意地示出了在附圖中示出的每個組件的尺寸和厚度，但是本發明不限于圖示。
[0030]在附圖中，為了清晰起見，夸大了層、膜、面板、區域等的厚度。為了更好的理解和易于描述，在附圖中增大了層、膜、面板、區域等的厚度。將理解的是，當諸如層、膜、區域或基底的元件被稱作“在”另一元件“上”時，該元件可以直接在另一元件上，或者也可以存在中間元件。
[0031]另外，除非明確地描述為相反，否則詞語“包括”及其變型形式將被理解為意指包含陳述的元件但不排除任何其他元件。在整個該說明書中，要理解的是，術語“在……上”和相似的術語被普遍地使用，而不需涉及重力參考。
[0032]將理解的是，雖然在這里可以使用術語第一、第二、第三等來描述各個元件、組件、區域、層和/或部分，但是這些元件、組件、區域、層和/或部分不應該受這些術語的限制。這些術語僅用于將一個元件、組件、區域、層或部分區別于另一個元件、組件、區域、層或部分。因此，在不脫離本發明的教導的情況下，下面討論的第一元件、組件、區域、層或部分可被命名為第二元件、組件、區域、層或部分。
[0033]考慮到測量問題以及與特定量的測量相關的誤差(即，測量系統的局限性)，如在這里使用的“大約”或“近似”包括陳述的值并意味著在如本領域的普通技術人員所確定的具體值的可接受偏差范圍內。例如，“大約”可以指在一個或更多個標準偏差的范圍內，或者在所陳述的值的±30%、20%、10%、5 %的范圍內。
[0034]除非另有定義，否則這里使用的所有術語(包括技術術語和科學術語)具有與本發明所屬領域的普通技術人員所通常理解的意思相同的意思。還將理解的是，除非這里明確這樣定義，否則術語(例如在通用字典中定義的術語)應該被解釋為具有與相關領域的環境中它們的意思一致的意思，而將不以理想的或者過于正式的含義來解釋它們。
[0035]除非這里另外指出或者通過上下文而清楚地相矛盾，否則可以按照合適的順序執行這里描述的所有方法。除非另外聲明，否則任何和所有示例的使用或者示例性語言(例如，“諸如”)僅意在更好地說明本發明，并不意圖限制本發明的范圍。如在這里使用的，說明書中的任何語言都不應該被解釋為將任何未聲明的元件指定為對于本發明的實施是必要的。
[0036]用于形成有機發光顯示器的電極、有機發射層等的方法可以利用使用掩模組件的沉積方法而被采用。
[0037]已經使用了掩模組件，該掩模組件包括具有開口的框架和多個與開口相對應的呈帶狀的掩模，掩模的兩端被固定到框架。可以通過對掩模施加張力來使掩模固定到框架。然而，限定在掩模中的圖案開口的形狀可能由于施加到掩模的張力而變形。因此，期望一種減少或有效地防止限定在掩模中的圖案開口的形狀的變形的改善的掩模組件。
[0038]在下文中，將參照附圖詳細地描述本發明。
[0039]現在將參照圖1至圖4來描述根據本發明的掩模組件。
[0040]圖1是根據本發明的掩模組件的示例性實施例的分解透視圖。圖2是圖1中的掩模組件的俯視圖。
[0041]如圖1和圖2中所示，掩模組件包括框架100和多個掩模200。
[0042]開口 110被限定在框架100中。框架100固定并支撐多個掩模200中的每個的各個端。當掩模200被固定到框架100并被框架100支撐時，框架100中的開口 110暴露掩模200。框架100包括:一對第一支撐件120，在第一方向(X)上彼此面對并且開口 110位于其之間；以及一對第二支撐件130，在與第一方向(X)交叉的第二方向(y)上彼此面對并且開口 110位于其之間。掩模200的兩個相對的端部200a被支撐在第一支撐件120處。在一個示例性實施例中，例如，通過使用諸如焊接的固定方法，使掩模200的相對的端部200a支撐在框架100的第一支撐件120處，同時在第一方向(X)上對掩模200施加張力。
[0043]在根據本發明的掩模組件的說明性的示例性實施例的框架100中，第一支撐件120形成具有大體上為四邊形形狀的框架100的長邊，第二支撐件130形成框架100的短邊。然而，在選擇性的示例性實施例中，根據本發明的掩模組件的框架，第一支撐件120和第二支撐件130可以具有基本相同的長度。
[0044]此外，根據本發明的掩模組件的另一個示例性實施例的框架可以具有多邊形形狀或圓形形狀，而不是四邊形形狀。
[0045]固定到框架100的掩模200被支撐在框架100上，同時在第一方向(X)上對掩模200施加張力。因此,通過在第一方向(X)上對掩模200施加的張力,框架100在第一方向(x)(即，掩模200的延長方向)上受到的壓緊力。因為框架100受到壓緊力，所以框架100可以包括具有足夠的剛度的諸如不銹鋼的金屬材料，從而減少或有效地防止由于掩模200的壓緊力而引起的框架100的變形。
[0046]掩模200具有在第一方向(X)上延伸的帶狀或條狀,在沿第一方向(X)對掩模200施加張力的狀態下，掩模200的相對端部200a被支撐到框架100。在掩模組件中設置了多個掩模200，并且多個掩模200沿與第一方向(X)交叉的第二方向(y)被設置并支撐在框架100處。可以在第二方向(y)上將掩模200布置成彼此接觸或者彼此分隔開。
[0047]圖3是根據本發明的包括在掩模組件中的掩模的示例性實施例的俯視圖。圖4是對于圖3的線IV-1V的剖視圖。
[0048]如圖3和圖4中所示，掩模200包括掩模主體210、有效圖案220、第一虛設圖案230和第二虛設圖案240。
[0049]掩模主體210具有在第一方向(X)上延伸的帶狀，掩模主體210設置在框架100的開口 110中并被支撐在框架100上。在第一方向(X)上分離地設置在中心區域中的多個有效圖案220形成在掩模主體210上。
[0050]掩模主體210具有第一厚度Tl。第一厚度Tl可以是掩模主體210的最大厚度或總厚度。在一個示例性實施例中，例如，掩模主體210可以具有大約10微米(μπι)至大約60 μ m的第一厚度Tl,第一厚度Tl可以基本為30 μ m。
[0051]掩模200的多個有效圖案220彼此分離并且沿第一方向(X)被設置。有效圖案220可以與一個有機發光顯示器對應。在單個掩模200中具有多個有效圖案220的情況下，可以通過單個工藝在其上將制造有機發光顯示器的母基底上同時設置若干個有機發光顯示器的多個圖案。即，掩模200的有效圖案220與構造有機發光顯示器的圖案的沉積區域對應。有效圖案220包括貫穿掩模200的厚度的開口圖案，使得構造有機發光顯示器的有機發光圖案可以通過有效圖案220設置在母基底上。為條紋型開口圖案的多個有效開口 221被限定在有效圖案220處的掩模主體210中。
[0052]有效圖案220從掩模主體210的表面凹陷，以限定小于第一厚度Tl的第二厚度T2。在一個示例性實施例中，例如，掩模200可以具有大約5 μ m至大約50 μ m的位于有效圖案220處的第二厚度T2，第二厚度T2可以大體上為10 μ m。有效圖案220可以被掩模主體210的具有第二厚度T2的一部分或更多部分和/或被掩模主體210的這樣的部分限定的有效開口 221所限定。
[0053]根據本發明的包括在掩模組件中的掩模200的示例性實施例的有效圖案220的有效開口 221具有條紋形狀，但是不限于此。根據本發明的包括在掩模組件中的掩模的另一個示例性實施例的有效開口 221可以具有諸如離散的點或者多邊形形狀的各種形狀。
[0054]第一虛設圖案230設置為鄰近多個有效圖案220中的設置到掩模200的在第一方向(X)上的最外側的有效圖案220。
[0055]第一虛設圖案230設置在有效圖案220和掩模主體210的端部200a之間。第一虛設圖案230可以具有與有效圖案220不同的形狀。第一虛設圖案230具有從掩模主體210的表面嵌入的形狀，以限定第三厚度T3。掩模200在第一虛設圖案230處具有第三厚度，第三厚度T3介于第一厚度Tl和第二厚度T2之間。在一個示例性實施例中，例如，掩模200可以具有大約10 μ m至大約50 μ m的在第一虛設圖案230處的第三厚度T3，第三厚度T3可以大體上為20 μ m。
[0056]掩模200可以包括多個第一虛設圖案230。如圖3和圖4中不出的,三個第一虛設圖案230分別設置在最外面的有效圖案220和掩模主體210的端部200a之間。第一虛設圖案230可以具有不同的形狀。
[0057]雖然圖3和圖4示出了三個第一虛設圖案230，但是本發明不限于此。在另一個示例性實施例中，可以有比三個第一虛設圖案230多或者少的第一虛設圖案230，例如，一個、兩個或四個第一虛設圖案230。
[0058]第一虛設圖案230具有貫穿掩模200的開口圖案。為條紋型開口圖案的多個第一虛設開口 231被限定在第一虛設圖案230處的掩模主體210中。
[0059]根據本發明的包括在掩模組件中的掩模200的示例性實施例的第一虛設圖案230的第一虛設開口 231具有條紋形狀，但是不限于此。根據本發明的包括在掩模組件中的掩模的示例性實施例的第一虛設開口 231可以具有諸如離散的點或者多邊形形狀的各種形狀。第一虛設圖案230可以被掩模主體210的具有第三厚度T3的一部分或更多部分和/或被掩模主體210的這樣的部分限定的第一虛設開口 231所限定。
[0060]第二虛設圖案240設置在來自多個有效圖案220中的相鄰的有效圖案220之間。第二虛設圖案240具有貫穿掩模200的開口圖案。為條紋型開口圖案的多個第二虛設開口241被限定在第二虛設圖案240處的掩模主體210中。第二虛設圖案240可以被掩模主體210的具有第三厚度T3的一部分或更多部分和/或被掩模主體210的這樣的部分限定的第二虛設開口 241所限定。
[0061]存在分別設置在相鄰的有效圖案220之間的多個第二虛設圖案240。
[0062]第二虛設圖案240從掩模主體210的表面嵌入，并且限定了由第一虛設圖案230
限定的同一第三厚度T3。
[0063]根據本發明的包括在掩模組件中的掩模200的示例性實施例的第二虛設圖案240的第二虛設開口 241具有條紋形狀，但是不限于此。根據本發明的包括在掩模組件中的掩模的另一個示例性實施例的第二虛設開口 241可以具有諸如離散的點或者多邊形形狀的各種形狀。
[0064]如上所述，在根據本發明的掩模組件的掩模200的示例性實施例中，掩模主體210具有比由有效圖案220限定的第二厚度T2大的第一厚度Tl，所以改善了掩模主體210的剛度，并且當在第一方向(X)上對掩模200施加張力時，控制了由張力引起的有效圖案220的變形。
[0065]此外，關于根據本發明的掩模組件的掩模200的不例性實施例,第一虛設圖案230設置在最外面的有效圖案220和掩模主體210的端部200a之間，并且具有介于由有效圖案220限定的第二厚度T2和掩模主體210的第一厚度Tl之間的第三厚度T3，所以當在第一方向(X)上對掩模200施加張力時,第一虛設圖案230由于張力而大體上變形,第一虛設圖案230分散或吸收了施加到有效圖案220的張力，從而控制了因在第一方向(X)上施加的張力而引起的有效圖案220的變形。
[0066]另外，關于根據本發明的掩模組件的掩模200的示例性實施例，第二虛設圖案240設置在相鄰的有效圖案220之間，并且限定了介于由有效圖案220限定的第二厚度T2和掩模主體210的第一厚度Tl之間的第三厚度T3，所以當在第一方向(X)上對掩模200施加張力時，第二虛設圖案240由于張力而變形，第二虛設圖案240分散或吸收了施加到有效圖案220的張力，從而控制了由于在第一方向(X)上施加的張力而引起的有效圖案220的變形。
[0067]S卩，當在第一方向(X)上對掩模200施加張力時,第一虛設圖案230由于張力而大體上變形，然后第二虛設圖案240由于通過第一虛設圖案230分散的張力而變形，施加到有效圖案220的張力再次被分散，所以基本控制了由于在第一方向(X)上施加的張力而引起的用于沉積有機層的有效圖案220的變形。
[0068]如上所述，根據本發明的掩模組件的掩模200的示例性實施例包括均限定介于掩模主體210的第一厚度Tl和由有效圖案220限定的第二厚度T2之間的第三厚度T3的第一虛設圖案230和第二虛設圖案240，所以當掩模200被固定到框架100時施加到掩模200的張力被第一虛設圖案230和第二虛設圖案240連續地分散，控制了由于張力而引起的有效圖案220的變形。即，設置了用于控制由于對掩模200施加的張力而引起的有效圖案220的變形的掩模200和包括該掩模200的掩模組件。
[0069]現在將參照圖5和圖6描述根據第二示例性實施例的掩模。
[0070]將描述與第一示例性實施例不同的部分，沒有描述的部分遵循第一示例性實施例。為了更好理解和易于描述，與第一示例性實施例相同的第二示例性實施例的構成元件將具有相同的附圖標記。
[0071]圖5是根據本發明的掩模的另一示例性實施例的俯視圖。圖6是對于圖5的線V1-VI的剖視圖。
[0072]如圖5和圖6中所示，掩模202包括掩模主體210、有效圖案220、第一虛設圖案230和第二虛設圖案240。
[0073]第二虛設圖案240從掩模主體210的表面凹陷，以限定與有效圖案220相同的第二厚度T2。
[0074]與上面的描述類似，關于根據本發明的掩模202的示例性實施例，第二虛設圖案240設置在相鄰的有效圖案220之間，并且限定了與有效圖案220相同的第二厚度T2，所以當在第一方向(X)上對掩模202施加張力時，第二虛設圖案240由于張力而變形，施加到有效圖案220的張力被分散，并且控制了由于在第一方向(X)上施加的張力而引起的有效圖案220的變形。
[0075]S卩，當在第一方向(X)上對掩模202施加張力時，第一虛設圖案230由于張力而大體上變形，第二虛設圖案240由于被第一虛設圖案230分散的張力而變形，施加到有效圖案220的張力再次被分散，并且由于在第一方向(X)上施加的張力而引起的用于沉積有機層的有效圖案220的變形基本得到控制。
[0076]如上所述，因為根據本發明的掩模202的示例性實施例包括具有與有效圖案220相同的第二厚度T2的第二虛設圖案240，所以當掩模202被固定到框架100時施加到掩模202的張力被第一虛設圖案230和第二虛設圖案240連續地分散，并且控制了由于張力而引起的有效圖案220的變形。即，提供了用于控制由于對掩模202施加的張力而引起的有效圖案220的變形的掩模202。
[0077]現在將參照圖7描述根據又一示例性實施例的掩模。
[0078]將描述與圖3和圖4中的示例性實施例不同的部分，為了便于解釋，省略相同部分的任何重復描述。為了更好理解和容易描述，與圖3和圖4中的示例性實施例相同的圖7中的示例性實施例的構成元件將具有相同的附圖標記。
[0079]圖7是根據本發明的掩模的又一示例性實施例的俯視圖。
[0080]如圖7中所示，掩模203包括掩模主體210、有效圖案220、第一虛設圖案230和第二虛設圖案240。
[0081]相鄰的有效開口 221之間的間隙限定了第一距離LI，相鄰的第一虛設開口 231之間的間隙限定了第二距離L2。第一距離LI小于第二距離L2。在與有效開口 221和第一虛設開口 231的延伸方向垂直的方向截取距離。
[0082]另外，相鄰的第二虛設開口 241之間的間隙限定了第三距離L3。第一距離LI小于第三距離L3。
[0083]第三距離L3可以與第二距離L2相等或者與第二距離L2不同。
[0084]如描述的，關于根據本發明的掩模203的示例性實施例，第三距離L3和第二距離L2分別大于第一距離LI,所以當在第一方向(X)上對掩模203施加張力時,張力被第一虛設圖案230和第二虛設圖案240分散，并且控制了由于在第一方向(X)上對掩模203施加的張力而引起的有效圖案220的變形。
[0085]S卩，當在第一方向(X)上對掩模203施加張力時，第一虛設圖案230和第二虛設圖案240分散了張力，所以基本上控制了由于沿第一方向(X)施加的張力而引起的用于沉積有機層的有效圖案220的變形。
[0086]如上所述，關于根據本發明的掩模203的示例性實施例，第一虛設圖案230和第二虛設圖案240連續地分散了施加到掩模203的張力，從而控制由于張力而引起的有效圖案220的變形。
[0087]即，提供了用于控制由于對掩模203施加的張力而引起的有效圖案220的變形的掩模203。
[0088]雖然已經結合當前被認為是實踐性的示例性實施例的內容描述了本發明，但是將理解的是，本發明不限于公開的實施例，而是相反，本發明意圖覆蓋包括在權利要求的精神和范圍內的各種修改和等同布置。
【權利要求】
1.一種用于沉積的掩模，所述掩模包括: 掩模主體，在第一方向上延伸，具有第一厚度，包括在第一方向上彼此相對并被框架支撐的端部，同時張力在第一方向上被施加到掩模；以及 多個有效圖案，在掩模主體的中心區域中在第一方向上彼此分離，具有小于第一厚度的第二厚度。
2.根據權利要求1所述的掩模，所述掩模還包括第一虛設圖案，位于所述多個有效圖案中的在第一方向上的最外面的有效圖案和掩模主體的端部之間，具有介于第一厚度和第二厚度之間的第三厚度。
3.根據權利要求1所述的掩模，所述掩模還包括多個第一虛設圖案，位于所述多個有效圖案中的在第一方向上的最外面的有效圖案和掩模主體的端部之間，具有介于第一厚度和第二厚度之間的第三厚度。
4.根據權利要求2所述的掩模，其中， 多個有效開口限定在所述多個有效圖案中的一個有效圖案中， 多個第一虛設開口限定在第一虛設圖案中， 相鄰的有效開口之間的第一距離比相鄰的第一虛設開口之間的第二距離小。
5.根據權利要求2所述的掩模，所述掩模還包括: 第二虛設圖案，位于所述多個有效圖案中的相鄰的有效圖案之間。
6.根據權利要求5所述的掩模，其中， 第二虛設圖案具有第二厚度。
7.根據權利要求5所述的掩模，其中， 第二虛設圖案具有第三厚度。
8.根據權利要求5所述的掩模，所述掩模還包括多個第二虛設圖案，分別位于來自所述多個有效圖案中的相鄰的有效圖案之間。
9.根據權利要求5所述的掩模，其中， 多個有效開口限定在所述多個有效圖案中的有效圖案中， 多個第二虛設開口限定在第二虛設圖案中，以及 相鄰的有效開口之間的第一距離小于相鄰的第二虛設開口之間的第三距離。
10.一種掩模組件，所述掩模組件包括: 框架，開口限定在框架中；以及 根據權利要求1所述的掩模，其中，當在第一方向上彼此相對的掩模端部被框架支撐，同時在第一方向上對掩模施加張力時，所述多個有效圖案與框架中的開口疊置。
11.根據權利要求10所述的掩模組件，所述掩模組件還包括在與第一方向交叉的第二方向上布置的多個掩模，其中，所述多個掩模的所述多個有效圖案與框架中的開口疊置。
12.—種形成掩模組件的方法，所述方法包括: 設置開口限定在其中的框架； 布置與框架中的開口疊置的掩模的多個有效圖案，并將掩模的相對的第一方向端部結合到框架，同時在第一方向上對掩模施加張力； 其中，所述掩模包括: 掩模主體，在第一方向上延伸，具有第一厚度；以及 所述多個有效圖案，在掩模主體的中心區域中在第一方向上彼此分隔，具有小于第一厚度的第二厚度。
13.根據權利要求12所述的方法，所述方法還包括將多個掩模的相對的第一方向端部結合到框架，同時在第一方向上對所述多個掩模分別施加張力。
14.根據權利要求12所述的方法，其中，所述掩模還包括: 第一虛設圖案，位于所述多個有效圖案中的在第一方向上的最外面的有效圖案和掩模主體的端部之間，具有介于第一厚度和第二厚度之間的第三厚度。
15.根據權利要求14所述的方法，其中，所述掩模還包括: 第二虛設圖案，位于所述多個有效圖案中的相鄰的有效圖案之間，具有第二厚度或者第三厚度。
【文檔編號】H01L51/56GK104342616SQ201410361099
【公開日】2015年2月11日 申請日期:2014年7月25日 優先權日:2013年7月30日
【發明者】高政佑 申請人:三星顯示有限公司