本實用新型涉及一種清洗裝置，尤其涉及一種新型硅片清洗裝置。

背景技術：

當前，我國光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速，我國的太陽能電池年生產(chǎn)量在全球排名第一。太陽能電池根據(jù)所用材料的不同分為硅太陽能電池、多元化合物薄膜太陽能電池、聚合物多層修飾電極型太陽能電池、納米晶太陽能電池、有機太陽能電池，其中硅太陽能電池是目前發(fā)展最成熟的，在應用中居主導地位。

太陽能硅片在經(jīng)過切片、倒角、研磨、拋光等加工過程中，表面會受到不同程度的污染，比如顆粒、金屬及有機物。顆粒污染包括硅渣、塵埃、細菌、微生物、有機膠體纖維等，會導致各種缺陷。金屬污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，它們在硅片上主要以共價鍵、范德華引力和電子轉(zhuǎn)移等三種形式存在，這種污染會破壞極薄的氧化層的完整性，增加漏電流密度，結果導致形成微結構缺陷或霧狀缺陷。有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。如果沒有處理好這些污染的話，器件性能會受到很大程度的影響。因此，硅片在進行擴散工序前需要清洗，消除各類污染物，硅片清洗的潔凈程度直接影響著太陽能電池的成品率、性能和可靠性。

現(xiàn)在人們已研制出了很多種可用于硅片清洗的工藝方法和技術，常見的有：化學清洗法、超聲清洗法和真空高溫處理法。這些方法和技術廣泛應用于硅片加工和器件制造中的硅片清洗。現(xiàn)有的硅片清洗裝置在清洗過程中硅片表面水噴淋不均勻，導致硅片表面有大量的藥液殘留，清洗效果不佳。鑒于上述現(xiàn)有技術的缺陷，需要提供一種噴水均勻且清洗效果好的硅片清洗裝置。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型提供了一種新型硅片清洗裝置，包括與外部水源連通的供水管和設置在供水管上的至少一個噴水組件，每個噴水組件包括供水支管、集水槽、噴水條和控制閥，所述供水支管的一端與所述供水管連接，另一端與所述集水槽連接，所述控制閥設置在所述供水支管上，所述噴水條與所述集水槽連接，所述噴水條上安裝有多個噴淋頭，多個噴淋頭均勻分布在噴水條上。

進一步地，所述噴淋頭凸出于所述噴水條。

進一步地，所述噴淋頭上開設有多個噴淋孔，多個噴淋孔均勻分布在噴淋頭上。

優(yōu)選地，所述噴淋孔的直徑為0.1～1mm。

進一步地，所述噴水條上設有多個凹槽，多個凹槽均勻分布在噴水條上，每兩個相鄰凹槽之間安裝有一個噴淋頭。

進一步地，所述凹槽用于引導所述集水槽中的水流入所述噴淋孔，所述噴淋孔用于向待清洗的硅片表面上噴水，對待清洗的硅片進行清洗。

進一步地，所述裝置還包括蓋板，所述蓋板覆蓋所述噴水組件的全部集水槽。

與現(xiàn)有技術相比，本實用新型具有如下有益效果：

本實用新型硅片清洗裝置的噴水條上設有均勻分布的噴淋頭，噴淋頭上設有均勻分布的噴淋孔，供水管管路中的水通過噴淋孔均勻噴淋在待清洗的硅片表面上，對待清洗的硅片進行清洗，解決了現(xiàn)有的硅片清洗裝置在清洗過程中硅片表面水噴淋不均勻問題，使清洗更加完全、徹底，提高了硅片的成品率，實現(xiàn)了較好的清洗效果。

附圖說明

圖1是本實用新型硅片清洗裝置的正面示意圖。

圖2是本實用新型硅片清洗裝置的側(cè)面示意圖。

圖中：1-供水管，2-控制閥，3-供水支管，4-蓋板，5-集水槽，6-噴水條，7-噴淋頭，8-凹槽。

具體實施方式

下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。

實施例1：

參見圖1和圖2，圖1為本實用新型硅片清洗裝置的正面示意圖，圖2為本實用新型硅片清洗裝置的側(cè)面示意圖。本實用新型提供了一種新型硅片清洗裝置，包括與外部水源連通的供水管1和設置在供水管1上的至少一個噴水組件，每個噴水組件包括供水支管3、集水槽5、噴水條6和控制閥2，所述供水支管3的一端與所述供水管1連接，另一端與所述集水槽5連接，所述控制閥2設置在所述供水支管3上，所述噴水條6與所述集水槽5連接，所述噴水條6上安裝有多個噴淋頭7，多個噴淋頭7均勻分布在噴水條6上。

所述新型硅片清洗裝置包括供水管1和3個噴水組件，所述噴水組件中設有3個控制閥2、3個集水槽5、3個噴水條6和48個噴淋頭7。

所述噴淋頭7凸出于所述噴水條6。

所述噴淋頭7上開設有多個噴淋孔，多個噴淋孔均勻分布在噴淋頭7上。

所述噴淋孔的直徑為0.1mm。

所述噴水條6上設有多個凹槽8，多個凹槽8均勻分布在噴水條6上，每兩個相鄰凹槽8之間安裝有一個噴淋頭7。

所述凹槽8用于引導所述集水槽5中的水流入所述噴淋孔，所述噴淋孔用于向待清洗的硅片表面上噴水，對待清洗的硅片進行清洗。

所述裝置還包括蓋板4，所述蓋板4覆蓋所述噴水組件的全部集水槽5。

實施例2：

參見圖1和圖2，圖1為本實用新型硅片清洗裝置的正面示意圖，圖2為本實用新型硅片清洗裝置的側(cè)面示意圖。本實用新型提供了一種新型硅片清洗裝置，包括與外部水源連通的供水管1和設置在供水管1上的至少一個噴水組件，每個噴水組件包括供水支管3、集水槽5、噴水條6和控制閥2，所述供水支管3的一端與所述供水管1連接，另一端與所述集水槽5連接，所述控制閥2設置在所述供水支管3上，所述噴水條6與所述集水槽5連接，所述噴水條6上安裝有多個噴淋頭7，多個噴淋頭7均勻分布在噴水條6上。

所述新型硅片清洗裝置包括供水管1和8個噴水組件，所述噴水組件中設有8個控制閥2、8個集水槽5、8個噴水條6和128個噴淋頭7。

所述噴淋頭7凸出于所述噴水條6。

所述噴淋頭7上開設有多個噴淋孔，多個噴淋孔均勻分布在噴淋頭7上。

所述噴淋孔的直徑為1mm。

所述噴水條6上設有多個凹槽8，多個凹槽8均勻分布在噴水條6上，每兩個相鄰凹槽8之間安裝有一個噴淋頭7。

所述凹槽8用于引導所述集水槽5中的水流入所述噴淋孔，所述噴淋孔用于向待清洗的硅片表面上噴水，對待清洗的硅片進行清洗。

所述裝置還包括蓋板4，所述蓋板4覆蓋所述噴水組件的全部集水槽5。

本實用新型的工作原理如下：

所述供水管1與外部水源連通，將所述控制閥2打開后，所述供水管1管路中的水通過所述供水支管3流入所述集水槽5，所述蓋板4覆蓋所述噴水組件的全部集水槽5，所述噴水條6與所述集水槽5連接，所述噴水條6上設有多個凹槽8，多個凹槽8均勻分布在噴水條6上，每兩個相鄰凹槽8之間安裝有一個噴淋頭7，所述噴淋頭7上開設有多個噴淋孔，多個噴淋孔均勻分布在噴淋頭7上，所述凹槽8引導所述集水槽5中的水通過所述噴淋孔均勻噴淋在待清洗的硅片表面上，對待清洗的硅片進行清洗。

與現(xiàn)有技術相比，本實用新型具有如下有益效果：

本實用新型硅片清洗裝置的噴水條上設有均勻分布的噴淋頭，噴淋頭上設有均勻分布的噴淋孔，供水管管路中的水通過噴淋孔均勻噴淋在待清洗的硅片表面上，對待清洗的硅片進行清洗，解決了現(xiàn)有的硅片清洗裝置在清洗過程中硅片表面水噴淋不均勻問題，使清洗更加完全、徹底，提高了硅片的成品率，實現(xiàn)了較好的清洗效果。

以上所述是本實用新型的優(yōu)選實施方式，其目的是在于讓本領域內(nèi)的普通技術人員能夠了解本實用新型的內(nèi)容并據(jù)以實施，并不能以此限制本實用新型的保護范圍；凡是根據(jù)本實用新型內(nèi)容的實質(zhì)所作出的等效的變化或修飾，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍內(nèi)。