本發明涉及顯示技術領域，具體地，涉及一種oled顯示基板的制造方法、一種oled顯示基板、一種顯示裝置的封裝方法、利用該封裝方法獲得的顯示裝置和一種包括所述oled顯示基板的顯示裝置。

背景技術：

oled顯示裝置具有響應速度快、輕薄等優點，越來越受到使用者的歡迎。

oled顯示裝置包括多個發光元件，發光元件的各層均為固態，在制造時，容易產生應力或者不平整等缺陷，因此，所述顯示裝置可能會因此產生顯示不良。

因此，如何降低oled顯示裝置的顯示不良成為本領域亟待解決的技術問題。

技術實現要素：

本發明的目的在于提供一種oled顯示基板的制造方法、一種oled顯示基板、一種顯示裝置的封裝方法、利用該封裝方法獲得的顯示裝置和一種包括所述oled顯示基板的顯示裝置。所述制造方法制得的oled顯示基板具有較高的良率，且所述封裝方法獲得的顯示裝置具有較高的良率。

為了實現上述目的，作為本發明的一個方面，提供一種oled顯示基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：

提供襯底基板；

形成第一電極層；

在第一電極層上形成初始固態緩沖層，所述初始固態緩沖層的材料包括分子式上具有偶氮苯基團的組份，且所述初始固態緩沖層的homo能級在-6ev至-4.5ev之間，所述初始固態緩沖層的lumo能級在-3ev至-2ev之間；

利用紫外線照射所述初始固態緩沖層，以使得所述初始固態緩沖層液化為液態緩沖層；

利用可見光照射所述液態緩沖層，以使得所述液態緩沖層固化為最終固態緩沖層，所述最終固態緩沖層；

形成發光功能層；

形成第二電極層。

優選地，形成所述初始固態緩沖層的材料包括具有以下分子式的組份：

優選地，所述可見光的波長為530nm至550nm。

優選地，所述紫外光的波長為360nm至400nm。

作為本發明的第二個方面，提供一種顯示裝置的封裝方法，其中，所述顯示裝置的封裝方法包括：

提供oled顯示基板；

形成至少一層最終固態有機封裝層；

在最后一層所述最終固態有機封裝層上設置封裝蓋板，其中，

形成所述最終固態有機封裝層的步驟包括：

形成初始固態有機封裝層，所述初始固態有機封裝層的材料包括分子式上具有偶氮苯基團的組份；

利用紫外線照射所述初始固態有機封裝層，以使得所述初始固態有機封裝層液化為液態封裝層；

利用可見光照射所述液態封裝層，以獲得最終固態有機封裝層。

優選地，形成所述初始固態有機封裝層的材料包括具有以下分子式的組份：

優選地，提供oled顯示基板的步驟包括：

提供襯底基板；

形成第一電極層；

在第一電極層上形成初始固態緩沖層，所述初始固態緩沖層的材料包括分子式上具有偶氮苯基團的組份，且所述初始固態緩沖層的homo能級在-6ev至-4.5ev之間，所述初始固態緩沖層的lumo能級在-3ev至-2ev之間；

利用紫外線照射所述初始固態緩沖層，以使得所述初始固態緩沖層液化為液態緩沖層；

利用可見光照射所述液態緩沖層，以使得所述液態緩沖層固化為最終固態緩沖層；

形成發光功能層；

形成第二電極層。

優選地，所述封裝方法還包括在提供oled顯示基板的步驟和形成至少一層最終固態有機封裝層的步驟之間進行的：

在所述oled顯示基板上形成無機封裝層。

優選地，所述可見光的波長為530nm至550nm。

優選地，所述紫外光的波長為360nm至400nm。

作為本發明的第三個方面，提供一種oled顯示基板，所述oled顯示基板包括襯底基板、第一電極層、發光功能層和第二電極層，所述第一電極層設置在所述襯底基板上，所述第二電極層設置在所述發光功能層上，且所述發光功能層位于所述第一電極層和所述第二電極層之間，其中，所述oled顯示基板還包括設置在所述發光功能層和所述第一電極層之間的最終固態緩沖層，所述最終固態緩沖層的材料包括分子式上具有偶氮苯基團的組份，且所述最終固態緩沖層的homo能級在-6ev至-4.5ev之間，所述初始固態緩沖層的lumo能級在-3ev至-2ev之間。

優選地，所述最終固態緩沖層的材料包括具有以下分子式的組份：

作為本發明的第四個方面，提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包括oled顯示基板和封裝蓋板，其特征在于，所述oled顯示基板為本發明所提供的上述oled顯示基板。

優選地，所述顯示裝置還包括無機封裝層、封裝蓋板和至少一層最終固態有機封裝層，所述無機封裝層設置在所述oled顯示基板上，所有所述最終固態有機封裝層均設置在所述無機封裝層和所述封裝蓋板之間，制成所述最終固態有機封裝層的材料包括分子式上具有偶氮苯基團的組份。

作為本發明的第五個方面，提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包括oled顯示基板和封裝蓋板，其中，所述顯示裝置還包括至少一層最終固態有機封裝層，所有所述最終固態有機封裝層設置在所述oled顯示基板和所述封裝蓋板之間，制成所述最終固態有機封裝層的材料的分子式上具有偶氮苯基團。

優選地，所述顯示裝置還包括設置在所述最終固態有機封裝層和所述oled顯示基板之間的無機封裝層。

在本發明所提供的oled顯示基板的制造方法中，由于所述初始固態緩沖層的材料的分子式上具有偶氮苯基團，而偶氮苯基團具有熱力學穩定的反式和亞穩定的順式兩種異構體。在紫外光的照射下，偶氮苯基團發生從順式轉變為反式的狀態。即，由液態轉換為固態。液態緩沖層在第一電極材料層的表面流動，可以包覆第一電極材料層表面的凸起、顆粒等，并填充第一電極材料層表面的裂縫、凹坑等結構。相當于對第一電極材料層進行了平坦化處理。利用可見光照射所述液態緩沖層，在特定波長的可見光照射下，熱力學亞穩定的順式結構又能夠轉變為反式結構，從而形成所述最終固態緩沖層。圖形化處理后，可以獲得所述第一電極層。每個第一電極都包括由所述第一電極材料層制成的部分以及由所述最終固態緩沖層制成的部分。由于第一電極材料層經過平坦化處理，因此，后續形成的發光功能層形成在平坦表面上，不容易出現云紋(mura)缺陷、短路等缺陷，從而提高了顯示裝置的良率。

附圖說明

附圖是用來提供對本發明的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與下面的具體實施方式一起用于解釋本發明，但并不構成對本發明的限制。在附圖中：

圖1是本發明所提供的oled顯示基板的制造方法的流程圖；

圖2是本發明所提供的封裝方法的流程圖；

圖3是本發明所提供的oled顯示基板的示意圖；

圖4是本發明所提供的顯示裝置的一種結構示意圖；

圖5是本發明所提供的顯示裝置的另一種結構示意圖。

附圖標記說明

310、510：襯底基板320、520：第一電極層

330：最終固態緩沖層340、530：發光功能層

350、540：第二電極層360、550：無機封裝層

370、560：最終固態有機封裝層

380、570：封裝蓋板

具體實施方式

以下結合附圖對本發明的具體實施方式進行詳細說明。應當理解的是，此處所描述的具體實施方式僅用于說明和解釋本發明，并不用于限制本發明。

作為本發明的一個方面，提供一種oled顯示基板的制造方法，其中，如圖1所示，所述制造方法包括：

在步驟s110中，提供襯底基板；

在步驟s120中，形成第一電極層；

在步驟s130中，在第一電極層上形成初始固態緩沖層，所述初始固態緩沖層的材料包括分子式上具有偶氮苯基團的組份，且所述初始固態緩沖層的homo能級在-6ev至-4.5ev之間，所述初始固態緩沖層的lumo能級在-3ev至-2ev之間；

在步驟s140中，利用紫外線照射所述初始固態緩沖層，以使得所述初始固態緩沖層液化為液態緩沖層；

在步驟s150中，利用可見光照射所述液態緩沖層，以使得所述液態緩沖層固化為最終固態緩沖層；

在步驟s160中，形成發光功能層；

在步驟s170中，形成第二電極層。

由于所述初始固態緩沖層的材料包括分子式上具有偶氮苯基團的組份，而偶氮苯基團具有熱力學穩定的反式和亞穩定的順式兩種異構體。在紫外光的照射下，偶氮苯基團發生從順式轉變為反式的狀態。即，由液態轉換為固態。液態緩沖層在第一電極材料層的表面流動，可以包覆第一電極材料層表面的凸起、顆粒等，并填充第一電極材料層表面的裂縫、凹坑等結構。相當于對第一電極材料層進行了平坦化處理。

在步驟s150中，利用可見光照射所述液態緩沖層，在特定波長的可見光照射下，熱力學亞穩定的順式結構又能夠轉變為反式結構，從而形成所述最終固態緩沖層。

由于第一電極材料層經過平坦化處理，因此，后續形成的發光功能層形成在平坦表面上，不容易出現云紋(mura)缺陷、短路等缺陷，從而提高了顯示裝置的良率。

在本發明中，發光功能層包括層疊設置的空穴傳輸層、發光層、電子傳輸層。

由于初始固態緩沖層的homo能級在-6ev至-4.5ev之間，所述初始固態緩沖層的lumo能級在-3ev至-2ev之間，因此，最終固態緩沖層的homo能級在-6ev至-4.5ev之間，lumo能級在-3ev至-2ev之間，也就是說，最終固態緩沖層可以用作空穴傳輸層。當在第一電極層和第二電極層上施加電壓時，空穴可以在最終固態緩沖層和空穴傳輸層中傳輸，從而確保oled器件正常發光。

在本發明中，可以利用熱蒸鍍、噴墨打印、鍍層(coating)等任意一種方法制成所述發光功能層。

所述第一電極層可以由金屬材料制成，也可以由透明電極材料(例如ito材料)制成。第二電極層可以由金屬材料制成，也可以由透明電極材料制成。通常，第一電極層是指陽極層，而第二電極層是指陰極層。所述oled顯示基板包括多個像素單元，每個像素單元內都設置有一個第一電極。

所述初始固態緩沖層的材料可以為含有偶氮苯類小分子或者聚合物的導電材料、含有偶氮苯基團類小分子或者聚合物材料與導電有機材料的摻雜物。在本發明中，對形成初始固態緩沖層的具體材料并不做特殊規定，作為一種實施方式，形成所述初始固態緩沖層的材料包括具有以下分子式的組份：

以下是具有該分子式的材料在分別可見光和紫外光照射下的反應式：

其中，液態緩沖層具有以下分子式：

如上文中所述，只有特定波長的可見光才可以使得熱力亞穩態的順式結構轉換為反式結構，當所述初始固態緩沖層的材料為上述包括具有上述分子式的材料時，所述可見光的波長為530nm至550nm。

作為一種具體實施方式，所述紫外光的波長為360nm至400nm。

在本發明中，所述襯底基板可以包括透明基板和形成在所述透明基板上的tft陣列。

優選地，可以在透明基板和tft陣列之間設置緩沖材料層，所述緩沖材料層可以由包括偶氮苯基團的材料制成。可以利用紫外光照射緩沖材料層，使之液化，對透明基板上的顆粒進行包覆、對凹坑裂紋進行填充等。隨后利用可見光對液態的緩沖材料層進行照射，使之固化，然后再在固化后的緩沖層上形成tft陣列。由此形成的tft陣列不會發生短路等缺陷。

作為本發明的第二個方面，提供一種顯示裝置的封裝方法，其中，如圖2所示，所述顯示裝置的封裝方法包括：

在步驟s210中，提供oled顯示基板；

在步驟s230中，形成至少一層最終固態有機封裝層；

在步驟s240中，在最后一層所述最終固態有機封裝層上設置封裝蓋板。其中，

形成所述最終固態有機封裝層的步驟包括：

形成初始固態有機封裝層，所述初始固態有機封裝層的材料包括分子式上具有偶氮苯基團的組份；

利用紫外線照射所述初始固態有機封裝層，以使得所述初始固態有機封裝層液化為液態封裝層；

利用可見光照射所述液態封裝層，以獲得最終固態有機封裝層。

所述初始固態有機封裝層形成在固態膜層上。該固態膜層可以是oled顯示基板的第二電極層，也可以是下文中介紹的形成在oled顯示基板上的無機封裝材料層。由于所述初始固態有機封裝層的材料的分子式上具有偶氮苯基團，而偶氮苯基團具有熱力學穩定的反式和亞穩定的順式兩種異構體。在紫外光的照射下，偶氮苯基團發生從順式轉變為反式的狀態。即，由液態轉換為固態。液態有機封裝層在該液態有機封裝層下方的固態膜層的表面流動，可以自動流平，填補固態膜層上的微孔等缺陷，并包覆固態膜層上的顆粒、釋放固態膜層的應力。隨后利用可見光對液態有機封裝材料層進行照射，可以使之固化層最終有機封裝層。由于最終有機封裝層下方的固態膜層的應力已經在步驟s230中釋放，因此，利用本發明所提供的封裝方法獲得的顯示裝置不會出現因應力而導致的固態膜層破裂進而導致顯示裝置漏氣的現象。

在本發明中，對所述初始固態有機封裝層的具體材料并不做特殊的限定，例如，形成所述初始固態有機封裝層的材料包括具有以下分子式的組份：

如上文中所述，以下是具有該分子式的材料在分別可見光和紫外光照射下的反應式：

其中，液態緩沖層具有以下分子式：

在本發明中，可以利用本發明所提供的上述制造方法來制成oled顯示基板，具體地，提供oled顯示基板的步驟包括：

提供襯底基板；

形成第一電極層；

在第一電極層上形成初始固態緩沖層，所述初始固態緩沖層的材料包括分子式上具有偶氮苯基團的組份，且所述初始固態緩沖層的homo能級在-6ev至-4.5ev之間，所述初始固態緩沖層的lumo能級在-3ev至-2ev之間；

利用紫外線照射所述初始固態緩沖層，以使得所述初始固態緩沖層液化為液態緩沖層；

利用可見光照射所述液態緩沖層，以使得所述液態緩沖層固化為最終固態緩沖層；

形成發光功能層；

形成第二電極層。

為了提高最終形成的顯示裝置的密封性能，優選地，所述封裝方法還包括在步驟s210和步驟s230之間進行的：

在步驟s220中，在所述oled顯示基板上形成無機封裝層。

在本發明中，無機封裝層的材料可以為硅的氧化物和/或硅的氮化物。因此，可以利用化學氣相沉積的方法獲得所述無機封裝層。在本發明中，對如何形成初始固態有機封裝層并沒有特殊的規定。例如，可以利用熱蒸鍍的方式形成所述初始固態有機封裝層。因此，可以利用同一個工藝腔室分別形成所述無機封裝層和所述初始固態有機封裝層，從而可以避免噴涂等工藝造成的mura缺陷。

液態有機封裝層在無機封裝層表面流動時，可以自動流平，填補無機封裝層上的微孔等缺陷，并包覆無機封裝層上的顆粒、釋放無機封裝層的應力。并且，由于應力的釋放，在所述顯示裝置中，無機封裝層不容易破裂，并且不會產生漏氣，延長了顯示裝置的使用壽命。

如上文中所述，作為一種優選實施方式，所述可見光的波長為530nm至550nm。該波長的可見光可以對上述材料的液態有機封裝層進行固化。

作為一種具體實施方式，所述紫外光的波長為360nm至400nm。

作為本發明的第三個方面，提供一種oled顯示基板，所述oled顯示基板由本發明所提供的上述方法制得。具體地，如圖3所示，所述oled顯示基板包括襯底基板310、第一電極層320、發光功能層340和第二電極層350，第一電極層320設置在襯底基板310上，第二電極層350設置在發光功能層340上，且發光功能層340位于第一電極層320和第二電極層350之間，其中，所述oled顯示基板還包括設置在發光功能層340和第一電極層320之間的最終固態緩沖層330，該最終固態緩沖層330的材料包括分子式上具有偶氮苯基團的組份，且所述最終固態緩沖層的homo能級在-6ev至-4.5ev之間，所述初始固態緩沖層的lumo能級在-3ev至-2ev之間。

如上文中所述，最終固態緩沖層330的材料包括具有以下分子式的組份：

作為本發明的第四個方面，提供一種顯示裝置，如圖4所示，所述顯示裝置包括oled顯示基板和封裝蓋板380，其中，所述oled顯示基板為本發明所提供的上述oled顯示基板。

優選地，如圖4所示，所述顯示裝置還包括無機封裝層360、和至少一層最終固態有機封裝層370，無機封裝層360設置在所述oled顯示基板上，所有最終固態有機封裝層370均設置在無機封裝層360和封裝蓋板380之間，制成最終固態有機封裝層370的材料的分子式上具有偶氮苯基團。

設置了最終固態有機封裝層的顯示裝置不容易出現漏氣等缺陷。

容易理解的是，當最終固態有機封裝層370為多層時，多層最終固態有機封裝層370層疊設置。

優選地，所述最終固態緩沖層的材料包括具有以下分子式的組份：

作為本發明的第四個方面，提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包括oled顯示基板和封裝蓋板570，其中，所述顯示裝置還包括至少一層最終固態有機封裝層560，所有最終固態有機封裝層560均設置所述oled顯示基板和封裝蓋板570之間，制成最終固態有機封裝層560的材料包括分子式上具有偶氮苯基團的組份。

所述顯示裝置有本發明所提供的上述封裝方法封裝獲得。

優選地，所述顯示裝置還包括設置在最終固態有機封裝層560和所述oled顯示基板之間的無機封裝層550。設置無機封裝層550可以提高密封性能，從而延長oled顯示基板的使用壽命。

在本發明中，對oled顯示基板的具體結構并不做特殊的限定。例如，在圖5中所示的具體實施方式中，oled顯示基板包括襯底基板510、第一電極層520、發光功能層530、和第二電極層540。

由于上文中已經詳細描述了上述封裝方法的有益效果，這里不再贅述。

可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發明并不局限于此。對于本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本發明的精神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發明的保護范圍。