本發(fā)明有關(guān)于一種基板處理裝置，用以對半導(dǎo)體基板、液晶顯示用或者el(electroluminescence；電致發(fā)光)顯示設(shè)備等fpd(flat?panel?display；平面示出器)用基板、光罩用玻璃基板、光盤用基板等各種基板進行預(yù)定的處理。

背景技術(shù)：

1、以往，作為這種裝置，有一種具備批次式模塊以及單片式模塊的裝置(例如參照專利文獻1)。批次式模塊對復(fù)數(shù)片基板一并地進行預(yù)定的處理。單片式模塊逐片地對基板進行預(yù)定的處理。批次式模塊以及單片式模塊分別存在有各自的優(yōu)點。例如，與批次式模塊相比，單片式模塊的干燥處理中的微粒性能高。因此，作為具備批次式模塊以及單片式模塊的裝置，考慮在批次式模塊中進行了液體處理后再在單片式模塊中進行干燥處理的構(gòu)成。

2、在專利文獻1的裝置中，被批次式模塊以及單片式模塊進行過處理的基板逐片地返回至盒。即，依據(jù)以往的構(gòu)成，被單片式模塊進行過處理的基板成為被用以逐片地搬運基板的機械手接取并被層疊于盒的構(gòu)成。即，專利文獻1的裝置為下述構(gòu)成：以與不具有批次式模塊而是通過單片式模塊進行基板處理的基板處理裝置相同的搬運方法將處理后的基板逐片地返回至盒。

3、現(xiàn)有技術(shù)文獻

4、專利文獻

5、專利文獻1：日本特表2016-502275號公報。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的問題

2、然而，具有這種構(gòu)成的以往的裝置具有下述問題。

3、即，依據(jù)以往的構(gòu)成，無法獲得高的處理量。作為具有批次式模塊的基板處理裝置，已知有一種具有基板操作機構(gòu)的裝置，該基板操作機構(gòu)用以一并地取出排列于盒的復(fù)數(shù)片基板。這種基板操作機構(gòu)可不逐片地搬運一片基板，故非常地有助于提升處理量。具有這種基板操作機構(gòu)的裝置構(gòu)成在從盒一并地取出未處理的基板的觀點而言的確是有利的。然而，在以往的裝置構(gòu)成中，從單片式模塊搬出的處理后的基板逐片地返回至盒。因此，在處理后的基板返回至盒的階段中，無法活用基板操作機構(gòu)的優(yōu)點。

4、此外，這種問題并不只會在上文所說明的基板處理裝置中產(chǎn)生。針對以單片式模塊以及批次式模塊這種順序進行基板處理的相反順序的基板處理裝置亦會產(chǎn)生同樣的問題。在這種相反順序的裝置中的基板搬運方法中的基板的流動與以批次式模塊以及單片式模塊這種順序進行處理的上文所說明的裝置(正常順序的裝置)中的基板搬運方法中的基板的流動相反。因此，具有一并式的基板操作機構(gòu)的相反順序的裝置在將處理后的基板一并地返回至盒的觀點而言的確是有利的。然而，在以往的裝置構(gòu)成中，未處理的基板從盒逐片地被搬運至單片式模塊。即，在相反順序的裝置中，在從盒取出未處理的基板的階段中無法活用基板操作機構(gòu)的優(yōu)點。

5、此外，基板操作機構(gòu)為具有復(fù)數(shù)個可動部的復(fù)雜的裝置。這種裝置可能受到在批次式模塊中所使用的藥液的影響而劣化。此原因在于批次式模塊中的藥液使用硫酸等的腐蝕性酸的緣故。以往的裝置在此部分的檢討并不充足，無法充分地保護基板操作機構(gòu)不受酸的腐蝕。若基板操作機構(gòu)被腐蝕而動作不良，則無法可靠地搬運基板。

6、本發(fā)明有鑒于這種課題而研創(chuàng)，目的在于提供一種基板處理裝置，重新檢視具備批次式模塊以及單片式模塊的裝置的構(gòu)成，借此改善處理量，且能夠可靠地搬運基板。

7、用于解決問題的手段

8、為了實現(xiàn)這種目的，本發(fā)明采用下述構(gòu)成。

9、(1)一種基板處理裝置，用以連續(xù)地進行：批次處理，一并地處理復(fù)數(shù)片基板；以及單片處理，逐片地處理基板。前述基板處理裝置具備：存放區(qū)塊；移載區(qū)塊，與前述存放區(qū)塊鄰接；以及處理區(qū)塊，與前述移載區(qū)塊鄰接。前述存放區(qū)塊用以收容至少一個承載器，且具備至少一個基板取出及收納用的承載器載置架，前述承載器將復(fù)數(shù)片基板以水平姿勢隔著規(guī)定間隔地收納于鉛垂方向，前述承載器載置架供前述承載器載置從而用以相對于前述承載器搬入以及搬出基板。前述移載區(qū)塊具備：基板操作機構(gòu)，針對載置于前述承載器載置架的承載器一并地取出以及收納復(fù)數(shù)片基板；以及第一姿勢變換機構(gòu)，一并地將復(fù)數(shù)片基板在水平姿勢與鉛垂姿勢之間進行姿勢變換。前述處理區(qū)塊具備：批次處理區(qū)域，一端側(cè)與前述移載區(qū)塊鄰接，且另一端側(cè)朝遠離前述移載區(qū)塊的方向延伸；單片處理區(qū)域，一端側(cè)與前述移載區(qū)塊鄰接，且另一端側(cè)朝遠離前述移載區(qū)塊的方向延伸；單片基板搬運區(qū)域，夾設(shè)于前述批次處理區(qū)域與前述單片處理區(qū)域之間，一端側(cè)與前述移載區(qū)塊鄰接，且另一端側(cè)朝遠離前述移載區(qū)塊的方向延伸；以及批次基板搬運區(qū)域，沿著前述批次處理區(qū)域設(shè)置，一端側(cè)延伸至前述移載區(qū)塊，且另一端側(cè)朝遠離前述移載區(qū)塊的方向延伸。在前述批次處理區(qū)域中，在前述批次處理區(qū)域延伸的方向排列有復(fù)數(shù)個批次處理槽，并且于最接近前述移載區(qū)塊的位置設(shè)置有第二姿勢變換機構(gòu)，前述批次處理槽一并地浸漬處理復(fù)數(shù)片基板，前述批次處理槽中的至少一個批次處理槽為用以收容用以一并地酸處理復(fù)數(shù)片基板的藥液的批次藥液處理槽，前述第二姿勢變換機構(gòu)一并地將復(fù)數(shù)片基板在鉛垂姿勢與水平姿勢之間進行姿勢變換；在前述單片處理區(qū)域中，在前述單片處理區(qū)域延伸的方向排列有復(fù)數(shù)個單片處理腔室，并且于最接近前述移載區(qū)塊的位置設(shè)置有基板載置部，前述單片處理腔室逐片地處理基板，前述基板載置部以水平姿勢將復(fù)數(shù)片基板隔著與前述承載器相同的前述規(guī)定間隔地載置于鉛垂方向；在前述單片基板搬運區(qū)域設(shè)置有：單片基板搬運機構(gòu)，在前述第二姿勢變換機構(gòu)、前述單片處理腔室以及前述基板載置部之間搬運基板；在前述批次基板搬運區(qū)域設(shè)置有：批次基板搬運機構(gòu)，在設(shè)定于前述移載區(qū)塊內(nèi)的基板接取傳遞位置、前述批次處理槽以及前述第二姿勢變換機構(gòu)之間一并地搬運復(fù)數(shù)片基板；前述移載區(qū)塊的前述基板操作機構(gòu)進一步地構(gòu)成為能夠在與前述單片處理區(qū)域的前述基板載置部之間一并地接取并傳遞復(fù)數(shù)片基板。

10、(1)的作用技術(shù)效果。依據(jù)上文所說明的(1)的發(fā)明，在單片處理區(qū)域設(shè)置有基板載置部，基板載置部能夠供基板操作機構(gòu)以及單片基板搬運機構(gòu)雙方接取并傳遞基板。因此，基板操作機構(gòu)能經(jīng)由基板載置部在與單片處理區(qū)域之間一并地接取并傳遞基板。具體而言，在上文所說明的正常順序的裝置中，被單片基板搬運機構(gòu)逐片地移出的單片處理完畢的基板排列于鉛垂方向并被存放在基板載置部中。基板操作機構(gòu)一并地將被存放在基板載置部的復(fù)數(shù)片基板收納于承載器。在正常順序的裝置中，基板操作機構(gòu)從承載器一并地取出未處理的基板的構(gòu)成與以往的構(gòu)成相同。另一方面，在相反順序的裝置中，被基板操作機構(gòu)一并地移入至單片處理區(qū)域的未處理的基板排列于鉛垂方向并被存放在基板載置部中。單片基板搬運機構(gòu)將被存放在基板載置部的復(fù)數(shù)片基板逐片地搬運至單片處理腔室。在相反順序的裝置中，基板操作機構(gòu)一并地將處理完畢的基板收容于承載器的構(gòu)成與以往的構(gòu)成相同。因此，在任一者的裝置構(gòu)成中，基板相對于承載器的搬入以及搬出皆通過基板操作機構(gòu)一并地進行。依據(jù)這種構(gòu)成，能激發(fā)出基板操作機構(gòu)的潛力，從而能提供處理量高的基板處理裝置。

11、此外，依據(jù)上文所說明的(1)的發(fā)明，批次處理區(qū)域、單片處理區(qū)域、單片基板搬運區(qū)域以及批次基板搬運區(qū)域各者的一端與移載區(qū)塊鄰接。因此，在移載區(qū)塊與批次處理區(qū)域之間以及移載區(qū)塊與單片處理區(qū)域之間，各者的基板的搬運距離變短，能順暢地進行各者之間的基板搬運。

12、此外，依據(jù)上文所說明的(1)的發(fā)明，由于在處理區(qū)塊中第二姿勢變換機構(gòu)位于比批次藥液處理槽還要移載區(qū)塊側(cè)，因此能使設(shè)置于移載區(qū)塊的基板操作機構(gòu)充分地從批次藥液處理槽離開。依據(jù)這種構(gòu)成，由于能充分地保護基板操作機構(gòu)不受磷酸的腐蝕且基板操作機構(gòu)不會因為腐蝕而動作不良，因此能夠可靠地搬運基板。

13、本發(fā)明亦具有以下的特征。

14、(2)如(1)所記載的基板處理裝置，其中于前述批次處理區(qū)域具備有：前述批次藥液處理槽；以及批次清洗處理槽，收容清洗液，前述清洗液用以一并地清洗處理經(jīng)過藥液處理的復(fù)數(shù)片基板；前述批次藥液處理槽位于比前述批次清洗處理槽還要遠離前述移載區(qū)塊的位置。在前述單片處理區(qū)域具備有：單片液體處理腔室，逐片地液體處理基板；以及單片干燥處理腔室，逐片地使經(jīng)過液體處理的基板干燥；前述單片干燥處理腔室位于比前述單片液體處理腔室還要接近前述移載區(qū)塊的位置。在前述移載區(qū)塊中，前述基板操作機構(gòu)從前述承載器一并地取出復(fù)數(shù)片基板，前述第一姿勢變換機構(gòu)將所取出的復(fù)數(shù)片基板從水平姿勢予以姿勢變換成鉛垂姿勢；在前述處理區(qū)塊中，前述批次基板搬運機構(gòu)在前述移載區(qū)塊的前述基板接取傳遞位置處一并地接取鉛垂姿勢的復(fù)數(shù)片基板，并將所接取的復(fù)數(shù)片基板按序地朝前述批次藥液處理槽、前述批次清洗處理槽以及前述第二姿勢變換機構(gòu)搬運；前述第二姿勢變換機構(gòu)將所接取的鉛垂姿勢的復(fù)數(shù)片基板予以姿勢變換成水平姿勢；前述單片基板搬運機構(gòu)逐片地將經(jīng)過前述第二姿勢變換機構(gòu)變換成水平姿勢的基板按序地朝前述單片液體處理腔室、前述單片干燥處理腔室以及前述基板載置部搬運；在前述移載區(qū)塊中，在復(fù)數(shù)片基板被載置于前述處理區(qū)塊中的前述基板載置部時，前述基板操作機構(gòu)從前述基板載置部一并地取出復(fù)數(shù)片基板，并將所取出的復(fù)數(shù)片基板一并地收容于前述承載器。

15、(2)的作用技術(shù)效果。依據(jù)(2)的構(gòu)成，復(fù)數(shù)片基板在批次處理區(qū)域中的遠離移載區(qū)塊的批次藥液處理槽中進行藥液處理。之后，復(fù)數(shù)片基板在批次處理區(qū)域中的接近移載區(qū)塊的批次清洗處理槽中進行清洗處理。接著，在清洗處理后，復(fù)數(shù)片基板被最接近移載區(qū)塊的第二姿勢變換機構(gòu)從鉛垂姿勢變換成水平姿勢。被變換成水平姿勢的復(fù)數(shù)片基板成為單片處理的待機狀態(tài)。如此，依據(jù)(2)的構(gòu)成，由于批次清洗槽位于移載區(qū)塊與批次藥液處理槽之間，因此移載區(qū)塊與批次藥液處理槽之間的距離更遠離，故能提供基板操作機構(gòu)的故障更少且能夠可靠地搬運基板的基板處理裝置。

16、此外，依據(jù)(2)的構(gòu)成，被變換成水平姿勢的基板逐片地在單片處理區(qū)域中的遠離移載區(qū)塊的單片液體處理腔室中進行液體處理。接著，在單片干燥處理腔室中經(jīng)過干燥處理的基板在批次處理區(qū)域中的接近移載區(qū)塊的基板載置部中被存放，從而成為基板操作機構(gòu)的一并搬運的待機狀態(tài)。如此，依據(jù)(2)的構(gòu)成，在處理區(qū)塊中，隨著基板逐片地被搬運至接近移載區(qū)塊的方向，按序地執(zhí)行液體處理、干燥處理以及一并搬運待機的各個過程。因此，依據(jù)本發(fā)明，單片處理區(qū)域中的基板的搬運距離短，從而能實現(xiàn)處理量高的基板處理裝置。

17、(3)如(1)所記載的基板處理裝置，其中于前述單片處理區(qū)域具備有：單片液體處理腔室，逐片地液體處理基板。在前述批次處理區(qū)域具備有：前述批次藥液處理槽；批次清洗處理槽，收容清洗液，前述清洗液用以一并地清洗處理經(jīng)過藥液處理的復(fù)數(shù)片基板；以及批次干燥腔室，一并地干燥處理經(jīng)過清洗處理的復(fù)數(shù)片基板。前述批次干燥腔室位于比前述批次清洗處理槽還要接近前述移載區(qū)塊的位置；前述批次清洗處理槽位于比前述批次藥液處理槽還要接近前述移載區(qū)塊的一側(cè)。在前述移載區(qū)塊中，前述基板操作機構(gòu)從前述承載器一并地取出復(fù)數(shù)片基板并載置于前述處理區(qū)塊中的前述基板載置部；在前述處理區(qū)塊中，前述單片基板搬運機構(gòu)逐片地將載置于前述基板載置部的復(fù)數(shù)片基板按序地朝前述單片液體處理腔室以及前述第二姿勢變換機構(gòu)搬運；前述第二姿勢變換機構(gòu)在接取到水平姿勢的復(fù)數(shù)片基板時將水平姿勢的復(fù)數(shù)片基板予以姿勢變換成鉛垂姿勢；前述批次基板搬運機構(gòu)在前述第二姿勢變換機構(gòu)中一并地接取鉛垂姿勢的復(fù)數(shù)片基板，并將所接取的復(fù)數(shù)片基板按序地朝前述批次藥液處理槽、前述批次清洗處理槽、前述批次干燥腔室以及前述移載區(qū)塊中的前述基板接取傳遞位置搬運；在前述移載區(qū)塊中，前述第一姿勢變換機構(gòu)將在前述基板接取傳遞位置處接取到的復(fù)數(shù)片基板從鉛垂姿勢予以姿勢變換成水平姿勢；前述基板操作機構(gòu)將水平姿勢的復(fù)數(shù)片基板一并地收納于前述承載器。

18、(3)的作用技術(shù)效果。依據(jù)(3)的構(gòu)成，成為將本發(fā)明應(yīng)用于上文所說明的相反順序的裝置的構(gòu)成。即使是針對相反順序的裝置，本發(fā)明亦能提供實現(xiàn)與上文所說明的(2)同樣的技術(shù)效果的基板處理裝置。

19、(4)如(1)所記載的基板處理裝置，其中前述單片干燥處理腔室通過超臨界流體使基板干燥。

20、(4)的作用技術(shù)效果。依據(jù)(4)的構(gòu)成，能在生成在基板上的電路圖案得以可靠地保持的狀態(tài)下執(zhí)行基板處理。

21、(5)如(1)所記載的基板處理裝置，其中前述單片基板搬運機構(gòu)具備：第一手部，搬運干燥處理前的基板；以及第二手部，設(shè)置于前述第一手部的上部，搬運干燥處理后的基板。

22、(5)的作用技術(shù)效果。依據(jù)(5)的構(gòu)成，干燥處理后的基板不會被第一手部弄濕，能可靠地保持干燥處理后的基板的干燥狀態(tài)。

23、(6)如(1)所記載的基板處理裝置，其中前述單片基板搬運機構(gòu)具備：第一機械手，搬運干燥處理前的基板；以及第二機械手，搬運干燥處理后的基板。

24、(6)的作用技術(shù)效果。依據(jù)(6)的構(gòu)成，由于與用以搬運干燥處理前的基板的機械手獨立地另外設(shè)置有用以搬運干燥處理后的基板的機械手，因此能同時地搬運干燥處理前的基板以及干燥處理后的基板，從而能提升基板處理裝置的處理量。此外，由于用以搬運干燥處理后的基板的機械手無須把持干燥處理前的濕漉的基板，因此不會有用以搬運干燥處理后的基板的機械手在濕漉的狀態(tài)下搬運干燥處理后的基板的問題。因此，通過這種構(gòu)成，能提供一種可靠地維持基板的干燥狀態(tài)的基板處理裝置。

25、發(fā)明的效果

26、依據(jù)本發(fā)明，在單片處理區(qū)域設(shè)置有基板載置部，基板載置部能夠供基板操作機構(gòu)以及單片基板搬運機構(gòu)雙方接取并傳遞基板。因此，基板操作機構(gòu)能經(jīng)由基板載置部在與單片處理區(qū)域之間一并地接取并傳遞基板。依據(jù)這種構(gòu)成，通過基板操作機構(gòu)一并地進行基板相對于承載器的搬入以及搬出。因此，能激發(fā)出基板操作機構(gòu)的潛力，從而能提供處理量高的基板處理裝置。此外，依據(jù)本發(fā)明，第二姿勢變換機構(gòu)位于設(shè)置有基板操作機構(gòu)的移載區(qū)塊與批次藥液處理槽之間。依據(jù)這種構(gòu)成，批次藥液處理槽移載區(qū)塊以設(shè)置有第二姿勢變換機構(gòu)的距離從移載區(qū)塊離開。因此，依據(jù)本發(fā)明，極力地防止移載區(qū)塊中的基板操作機構(gòu)被批次藥液處理槽中的酸腐蝕。如此，依據(jù)本發(fā)明，能提供基板操作機構(gòu)的故障少且能可靠地搬運基板的基板處理裝置。